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Picosun
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Genesis ALD
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欧洲
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eneq Genesis ALD 是专为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。该系统经过工业认证，技术成熟可靠。该设计主要基于在严苛的工业应用中连续运行25年（24/7）的丰富经验。
我们的大多数工业客户需要专用的设备和工艺设置。Beneq 拥有多台 P400A 和P800 系统，用于满足应用开发和薄膜研发过程中的各种镀膜需求。
因此，那些寻找生产设备的客户可以在进行投资之前，验证工艺及设备的技书性能和财务成本。此外，我们还提供小规模量产的可能性，直到客户可以实现自主生产。
性能优势
研发阶段后可立即扩大到生产阶段。
用于可重复生产控制的日志记录。
UPS支持功能。
维护需求更低。
采用独特的迷你尺寸设计，可满足装载、批量生产、基底尺寸的灵活性以及污染控制。
采用迷你尺寸和专有的过滤器设计，可从 P400 系统上分离进行清洗工作。进行清洗时无需停机。
具有高性价比的热腔和大容量批量系统。
独特的热稳定源供应系统、嵌入式快速计量阀和集成的前驱体通道。
真空泵系统采用专有的大容量前驱体吸附和过滤系统，可实现大批量加工。
除了正常的加热回路以外，附加 PLC 可通过专用热电偶避免过热，从而提高生产安全性。
经过30年的发展，行业见证的高重复性和生产可靠性。
产品货期: 200天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
Picosun原子层沉积 Genesis ALD的工作原理介绍
原子层沉积 Genesis ALD的使用方法?
Picosun Genesis ALD多少钱一台?
原子层沉积 Genesis ALD可以检测什么？
原子层沉积 Genesis ALD使用的注意事项？
Picosun Genesis ALD的说明书有吗？
Picosun原子层沉积 Genesis ALD的操作规程有吗？
Picosun原子层沉积 Genesis ALD报价含票含运吗？
Picosun Genesis ALD有现货吗？
