SUPERALD Exploiter原子层沉积超高真空系列 UHV ALD

设备规格

工艺温度：温度范围：RT~400°C 精度：土1°C（可定制）
前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制)，包含固、液态前驱体源瓶

加热系统：可加热温度范围：RT~150℃

反应物路数：支持2路反应物气路（可定制）
载气：标准：N2, MFC 流量控制（可定制）
高真空系统：高性能分子泵，支持对高真空的真空度需求

控制系统：19寸显示器，支持触控工业级嵌入式工控机，高可靠性，支持扩展
操作系统：Win7 操作系统，工业级可编程逻辑控制器，支持现场总线与实时多任务处理操作

传片系统：手动磁力杆传片，配置专用传片腔体、门阀以及真空系统（可定制）

机架Cabinet

•框架采用进口铝材搭建，重量轻、承载能力强，散热性好

•外壳采用碳钢烤漆及圆角处理，轻便美观，拆卸方便，符合人体工学

•显示屏360度自由旋转，可调视距、视角、自由悬停

控制系统

• 控制系统采用 PLC+工控机+19 寸触摸屏方式实现，系统通过高速以太网进行通讯。

• 采用 PLC 对设备进行实时控制，同时实现基于Windows7 操作系统的人机界面互动，支持历史数据、工艺配方、报警及日志的储存和导入导出的功能

• 设备支持“一键沉积”功能，点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积；提供独立的手动操作页面，支持手动开关阀门的操作，人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式

• 设备运行软件提供用户权限管理功能，可根据用户级别设定使用权限，防止误操作，保证设备和人身安全

• 设备运行软件提供逻辑互锁功能，防止用户误操作，并弹出信息对话框进行提示

• 设备运行软件集成安全及参数配置、IO互锁列表信息功能