产品特点
采用数字微镜 (DMD) 的无掩模扫描式光刻机,365nm波长
直接从数字图形生成光刻图案,免去制作掩模板的中间过程,支持直接读取GDSII和BMP文件
全自动化的对焦和套刻,易于使用
晶圆连续运动配合DMD动态曝光,无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um
套刻精度: 0.2um
500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm最大幅面(4~6寸晶圆),满幅面曝光时间5~30分钟
500um最小线宽
可灰度曝光(128阶)
尺寸小巧,可配合专用循环装置产生内部洁净空间
应用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工
带有2.5D图案的微光学元件,衍射光器件制作
教学、科研
参数
MCML-110A
MCML-120A
Wavelength 波长
365nm
Max. frame 最大帧
100mm x 100mm
Resolution 分辨率
1.0um
500nm
Grayscale lithography
灰度光刻
64 levels
128 levels
Max exposure
最大曝光量
500mJ/cm2
2000mJ/cm2
Alignment accuracy
对准精度
<200nm
<100nm
field curvature
场曲率
< 1 um
Speed
速度
5mm2 /sec
2.5mm2 /sec
Input file
输入文件
BMP, GDSII
Z level accuracy
Z级精度
<1 um
Environment
环境
20~25℃
样品