PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士,于1974年发明了ALD技术,是PICOSUN董事会的成员。我们的首席技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲,PICOSUN拥有了200多年的ALD经验并贡献了100多项ALD专利。我们悠久的历史和广泛的背景使PICOSUN成为ALD技术优质的合作伙伴。技术参数:技术指标 SUNALE&trade R系列技术特点 基本特点: 晶片尺寸 2-6&rdquo , 50-150 mm (8&rsquo &rsquo = 200 mm on request) 工艺温度 Up to 500° C 反应室体积 小型、中型、大型 反应室材料 316 SS, Ti, Ni, Al (quartz) 前驱体 2-6 气体 / 气体 / 固体 基片装载 气体升降 尺寸: 尺寸 27.6 x 41.3 x 36.4&rsquo &rsquo , 70 x 105 x 92.5 cm (W x H x D) 重量 200 kg 工况: 电源 100-240 V, 50/60 Hz, 1- or 3-phase, 3.7 kW Vac 真空泵 30-80 m3/h 载气 99.999 % N2 / Ar, min. 2 slm 压缩空气 4-5.5 bar 过压 冷却水 反应器不需要 排气 为真空泵及源橱柜配备 样品装载选项: Picoloader&trade 手动样品装载系统,带一个预真空室和闸阀主要特点:特点 多功能的反应器设计 全套的服务
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