多功能离子束研磨仪

离子研磨抛光仪是一台高质量的 sem 样品制备台式精密仪器，满足几乎所有应用材料的制备。离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加强样品表面特性。使用的是惰性气体中具有代表性的氩气，通过加速电压使其电离并撞击样品表面。在控制的范围内，通过这种动量转换的方式，氩离子去撞击样品表面从而达到无应力损伤的 sem 观察样品。1060 ion milling 台式离子研磨抛光仪先进的样品制备技术如今 sem 在快速研究和分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的手段方式，fischione 1060 是一个优秀的样品制备工具，是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统，设计精巧，操作方便，性能稳定。1060 离子研磨抛光仪为 sem 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利，是 sem 样品制备完美的工具，正不断用于制备高质量的 sem 样品，满足苛刻的成像及分析要求。专利的双离子束源fischione 1060 两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径，操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面，这样可以大大提高研磨抛光速度。1060 离子束源采用独特的专利电磁聚焦设计，这样的设计可以让离子束斑点直径可调，从而离子撞击的时候是直接撞击样品，且只可以撞击样品，同时样品溅出的材料不会沉积在样品夹具、样品仓或者样品表面上。离子研磨抛光仪有哪些应用sem 样品制备时常常需要研磨抛光。制样时即使再留意，常常一些不理想的形貌也会出现。随着 sem 技术的快速发展，即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这是离子研磨的基本功能。块状样品事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时，样品表面剩余的机械应力损伤，氧化层及残留物层均会被溅出，最终显现原始的形貌供 sem 观察和分析。ebsdebsd 是一项非常有用的技术，可以让 sem 获取更多晶体信息，因为通过 sem 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。ebsd 对表面信息非常敏感，任何轻微的表面缺陷均能通过 ebsd 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。为了让 ebsd 提高到更好的检测水平，离子研磨抛光能被用来去除精细样品材料的表面材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。半导体截面观察在半导体行业的很多案例中，离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤，这些问题可以通过离子研磨抛光来解决，这也得力于多样化的样品夹具来优化了这些操作过程。使用飞纳台式电镜观察 1060 离子研磨抛光仪制样效果1060 离子研磨抛光仪标准版和专业版1060 离子研磨抛光仪技术参数离子束源两束电磁聚焦离子源加速电压范围： 100 ev - 6.0 kev，连续可调离子束流密度高达 10 ma/cm2可选择单束或者双束离子源工作独立控制两束离子束源加速电压 （仅专业版）样品台离子束入射角 0? 到 +10?最大样品尺寸：直径 25mm，高度 15mm样品高度自动感应360? 样品旋转样品往复摇摆，从 ±40? 到 ±60?真空系统两级真空系统：无油干泵和涡轮分子泵皮拉尼型真空计感应控制真空工作气体99.999% 纯度的氩气每离子束流速约 0.2 sccm，名义上所需压力为 15psi 采用自动气体流量控制技术，实现离子源气流的精密流量控制，含两个流量计气压源气动阀驱动氩气,液氮,或者干燥空气；所需压力要求名义上 60 psi样品照明用户可选的反射照明自动终止计时器设定自动加工终止用户界面标准版内置触摸屏，包含基本设备功能模块专业版?内置触摸屏，包含基本设备功能模块?基于电脑，加工流程可通过参数编程并实时显示操作状态?操作灯光指示器（选配）辅助光学显微镜可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接观察样品；或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统，用于定点成像并显示在电脑显示屏上尺寸标准版69cm*38cm*74cm*51cm （宽*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深）专业版107cm*38cm*74cm*51cm （宽-含电脑显示器*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深）重量73 kg电源100/120/220/240 vac，50/60 hz，720 w

离子束科技之约 | Technoorg Linda CEO András 来访复纳科技 Part 1 引言 2023 年 11 月 15 日，Technoorg Linda 首席执行官(CEO) András Szigethy 来访中国，与复纳科技团队进行了一场深入的交流会议。本次会议交流内容聚焦于产品培训、技术支持、市场推广、业务拓展等关键议题，使双方更好地理解了彼此的需求和期望，促进了双方合作关系的深化。 在本次面对面的交流会议中，András 为复纳科技团队提供了专业的产品培训和技术支持，有效地传递了产品信息和技术细节。他的到访不仅加速了团队对 Technoorg Linda 系列产品的理解，也为复纳科技在中国市场推广和业务拓展开辟了新的机遇。 Part 2 Technoorg Linda 与复纳科技 关于 Technoorg Linda Technoorg Linda 总部位于匈牙利布达佩斯， 由 D. Szigethy, Prof. Á . Barna, Prof. N. Kroo 和 Prof. A. M. Prohorov ( 1964 年获诺贝尔奖) 创建于 1990 年，是一家专注于科学实验室设备制造的领先企业。 Technoorg Linda 致力于研发和生产高性能的样品制备设备，为电子显微镜领域的科学家们提供优质的实验室支持和技术解决方案。其产品涵盖了 SEM/TEM/FIB 样品制备所需的关键设备，可用于样品准备、离子加工和表面精细。产品广泛应用于各种科学研究领域，帮助科研人员更好地理解和探索微观世界的奥秘。 关于复纳科技 复纳科技创立于 2012 年，一直致力帮助海外顶尖高科技仪器厂商在中国市场搭建完善的服务与售后体系，助力中国用户科研创新、工业升级。作为 Technoorg Linda 在中国市场的独家代理商，我们为客户提供全方位的产品培训、技术支持和售后服务。当前在国内市场专注于引进并推广 SEM/TEM/FIB 样品制备系列设备。其中，Gentle Mill 离子精修仪主要用于改善 FIB 处理后的样品，UniMill 离子减薄仪主要用于透射电镜(TEM)样品制备，SEMPrep2 离子研磨仪主要用于扫描电镜 (SEM)样品制备。 01.Gentle Mill 离子精修仪 Gentle Mill 离子精修仪专为最终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。 1.1 产品介绍 FIB 系统主要用于制备 TEM 横截面样品薄片。与更传统的方法相比，FIB 的优点包括高通量、高精度、较少优先减薄和大的电子透明区域。然而，FIB 的主要缺点是能量相对较高的 Ga+ 离子会导致受损层（如非晶或注入），该层可能会延伸到材料中数十纳米。因此，FIB 制备的 TEM 样品不太适合高性能的 (S)TEM、HRTEM、HRSTEM 分析和高空间分辨率的 EELS 和 EDX 研究。 Gentle Mill 离子精修仪使用优异的独家热阴极低能离子枪做为离子束源。离子束的低角度、低能量保证了表面损伤和离子束诱导非晶化效应的最小化。非常适用于 FIB 样品的清洁和最终抛光，可无损去除薄片形成过程中 FIB 产生的受损层，也可进一步减小样品厚度。 1.2 离子枪参数低能离子枪（固定型）&bull 离子能量：100 eV - 2 keV，连续可调&bull 在 2 keV 离子能量和 30° 入射角下，c-Si 的研磨速率为 28 μm/h&bull 离子电流密度：最大 10 mA/cm2&bull 离子束流：7 - 80 μA，连续可调 1.3 应用案例 图注：C 面蓝宝石 FIB 薄片，Gentle Mill 的低能离子源有效消除所有非晶层和损坏层。 图注：左图为原始 FIB (30 kV) 处理薄片；右图为经过 Gentle Mill (300 eV) 处理的薄片。Si-SiGe 多层异质结构样品两侧均使用 Gentle Mill 处理 2 分钟，以去除 FIB 薄片制备产生的非晶层。在 FIB 薄片的边缘处可以看到非晶层厚度明显减少。 图注：GaSb/InAs 超晶格。使用 Gentle Mill 制备样品：在 2 keV 下减薄直至穿孔，然后在 1 keV 下修整，最后在 300 eV 下精修。 同时，第三代 Gentle Mill 采用简单便捷的图形界面，可进行全电脑控制。所有切削参数，包括离子枪设置、气流控制与其他 参数（如样品运动和倾斜角度、穿孔检测）的设置，都可以存储或以任意步骤进行预编程。这种全自动功能实现了在最少的人工干预下制备高质量的样品的功能。 02.Unimill 离子减薄仪 UniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM/XTEM 样品而设计。Unimill 既可以使用全新升级的超高能离子枪进行快速研磨，也可以使用专用的低能离子枪进行最终抛光和精修处理。 2.1 产品介绍 UniMill 离子减薄仪适用于研究新型材料或探索新型样品制备方法的用户，由于设备具有极高的研磨速率，也非常适合用于低溅射率的材料，如金刚石、蓝宝石等。通过低能离子枪轰击获得无人工痕迹样品，这为技术科学和材料研究领域探索合成材料和天然材料的真实纳米结构提供了独特的机会。 2.2 离子枪参数 超高能离子枪（可选）：&bull 离子束能量：高达 16 keV，连续可调&bull 离子束电流：高达 500 μA 高能离子枪（标配）：&bull 离子束能量：高达 10 keV，连续可调&bull 离子束电流：高达 300 μA 低能离子枪：&bull 离子束能量：100 eV - 2 keV，连续可调&bull 离子束电流：7 - 80 μA 2.3 应用案例001 GaN 平面视角样品的 TEM 图像。使用高能离子枪研磨后，样品通过 300 eV 的低能离子枪进行精细处理。 03. SEMPrep2 离子研磨仪 SEMPrep2 离子研磨仪可配备高能量、低能量两支离子枪,为传统 SEM 样品和 EBSD 样品的最终抛光和精细处理提供高质量解决方案。 3.1 产品介绍 离子研磨仪配备超高能量离子枪，可进行快速截面剖削，为半导体工业、材料科学、地质学或其他学科和工业应用提供优异的 SEM 样品剖面。同时，也可用于改善和精细处理机械抛光后的 SEM 样品，并为 EBSD 测量制备无损伤表面。最后，也可配备低能离子枪用于易脆易损伤样品表面更细微的温和处理。 3.2 离子枪参数 &bull 全新升级的超高能离子枪：加速电压高达 16 keV，加速电压连续可调。&bull 专用低能离子枪：100 eV 至 2 keV （可选配）。 3.3 应用案例 离子束截面剖削为 SEM/EBSD 成像和微量分析制备各种材料的高质量样品横截面。Sn-Ag 焊球的栅格阵列 (BGA) 金属线键合 离子束表面抛光制备用于电子背散射衍射(EBSD)研究和取向成像显微分析法(OIM)的样品。铜 镍 Part 3 联系我们 如果您想获取更多关于 Technoorg Linda SEM/TEM/FIB 样品制备的更多产品详情、应用案例或者寄样 DEMO，欢迎您识别下方二维码填写需求。

近日，根据千里马招标网站发布的信息，宁波市东方理工高等研究院正在进行公开招标，招标购买高低温一体原位透射电镜样品杆、球差透射电子显微镜、双束聚焦离子束系统等一批仪器设备。其中，最晚截至时间为2024年09月13日。详见下表：序号产品名称数量简要技术规格预算（人民币万元）招标详情1高低温一体原位透射电镜样品杆1套详见招标文件第八章140宁波市东方理工高等研究院高低温一体原位透射电镜样品杆采购项目招标公告 2球差透射电子显微镜1套用于材料的多尺度综合表征：精确的形貌观察和微区的晶体结构、元素组成及化学价态的定量等。/宁波市东方理工高等研究院采购球差透射电子显微镜 和双束聚焦 离子束系统项目国际招标公告3双束聚焦离子束系统1套用于微纳米结构观察及分析、稳定的大束流，确保能谱仪分析工作的快速与准确、及高质量定点TEM样品制备，冷冻TEM样品制备、提取和转移。/4离子减薄仪1套详见招标文件第八章200宁波市东方理工高等研究院离子减薄仪和冷冻传输样品杆采购项目招标公告5冷冻传输样品杆1套详见招标文件第八章6电子背散射衍射仪1套详见招标文件第八章96宁波市东方理工高等研究院电子背散射衍射仪及能谱仪采购项目招标公告7能谱仪1套详见招标文件第八章8混合像素直接电子探测器11套用于4D-STEM成像技术，配备STEM数据同步控制器，能够同步STEM扫描线圈扫描及探测器数据获取；配备数据采集软件及数据分析软件，同时具备常见BF/ABF/ADF等虚拟探头。/宁波市东方理工高等研究院采购混合像素直接电子探测器等设备项目国际招标公告(1)9混合像素直接电子探测器21套用于Micro ED电子衍射分析，能够直接探测高能电子衍射。/10原位液体样品杆1套配合透射电镜使用，使用不同的液相环境，研究样品在原位液相电化学反应过程的结构、成分等变化行为。/11原位气体加热样品杆1套配合透射电镜使用，使用不同的实验气体及水蒸汽，研究样品在原位气-固反应中的结构、成分等变化行为。/12真空冷冻传输制备系统1套具有样品断裂、升华、冷冻镀膜功能模块；冷冻制备腔室和扫描电镜冷台、冷阱均采用过冷氮气气冷方式。/13常规透射电镜制样设备1批包含超声波切割仪、圆片打孔器、手动研磨盘、精密凹坑仪、精密机械研磨仪、低速切割锯各1台。/