多功能离子束研磨仪

离子研磨抛光仪是一台高质量的 sem 样品制备台式精密仪器，满足几乎所有应用材料的制备。离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加强样品表面特性。使用的是惰性气体中具有代表性的氩气，通过加速电压使其电离并撞击样品表面。在控制的范围内，通过这种动量转换的方式，氩离子去撞击样品表面从而达到无应力损伤的 sem 观察样品。1060 ion milling 台式离子研磨抛光仪先进的样品制备技术如今 sem 在快速研究和分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的手段方式，fischione 1060 是一个优秀的样品制备工具，是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统，设计精巧，操作方便，性能稳定。1060 离子研磨抛光仪为 sem 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利，是 sem 样品制备完美的工具，正不断用于制备高质量的 sem 样品，满足苛刻的成像及分析要求。专利的双离子束源fischione 1060 两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径，操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面，这样可以大大提高研磨抛光速度。1060 离子束源采用独特的专利电磁聚焦设计，这样的设计可以让离子束斑点直径可调，从而离子撞击的时候是直接撞击样品，且只可以撞击样品，同时样品溅出的材料不会沉积在样品夹具、样品仓或者样品表面上。离子研磨抛光仪有哪些应用sem 样品制备时常常需要研磨抛光。制样时即使再留意，常常一些不理想的形貌也会出现。随着 sem 技术的快速发展，即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这是离子研磨的基本功能。块状样品事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时，样品表面剩余的机械应力损伤，氧化层及残留物层均会被溅出，最终显现原始的形貌供 sem 观察和分析。ebsdebsd 是一项非常有用的技术，可以让 sem 获取更多晶体信息，因为通过 sem 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。ebsd 对表面信息非常敏感，任何轻微的表面缺陷均能通过 ebsd 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。为了让 ebsd 提高到更好的检测水平，离子研磨抛光能被用来去除精细样品材料的表面材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。半导体截面观察在半导体行业的很多案例中，离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤，这些问题可以通过离子研磨抛光来解决，这也得力于多样化的样品夹具来优化了这些操作过程。使用飞纳台式电镜观察 1060 离子研磨抛光仪制样效果1060 离子研磨抛光仪标准版和专业版1060 离子研磨抛光仪技术参数离子束源两束电磁聚焦离子源加速电压范围： 100 ev - 6.0 kev，连续可调离子束流密度高达 10 ma/cm2可选择单束或者双束离子源工作独立控制两束离子束源加速电压 （仅专业版）样品台离子束入射角 0? 到 +10?最大样品尺寸：直径 25mm，高度 15mm样品高度自动感应360? 样品旋转样品往复摇摆，从 ±40? 到 ±60?真空系统两级真空系统：无油干泵和涡轮分子泵皮拉尼型真空计感应控制真空工作气体99.999% 纯度的氩气每离子束流速约 0.2 sccm，名义上所需压力为 15psi 采用自动气体流量控制技术，实现离子源气流的精密流量控制，含两个流量计气压源气动阀驱动氩气,液氮, 或者干燥空气；所需压力要求名义上 60 psi样品照明用户可选的反射照明自动终止计时器设定自动加工终止用户界面标准版内置触摸屏，包含基本设备功能模块专业版?内置触摸屏，包含基本设备功能模块?基于电脑，加工流程可通过参数编程并实时显示操作状态?操作灯光指示器（选配）辅助光学显微镜可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接观察样品；或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统，用于定点成像并显示在电脑显示屏上尺寸标准版69cm*38cm*74cm*51cm （宽*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深）专业版107cm*38cm*74cm*51cm （宽-含电脑显示器*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深）重量73 kg电源100/120/220/240 vac，50/60 hz，720 w

离子束科技之约 | Technoorg Linda CEO András 来访复纳科技 Part 1 引言 2023 年 11 月 15 日，Technoorg Linda 首席执行官(CEO) András Szigethy 来访中国，与复纳科技团队进行了一场深入的交流会议。本次会议交流内容聚焦于产品培训、技术支持、市场推广、业务拓展等关键议题，使双方更好地理解了彼此的需求和期望，促进了双方合作关系的深化。 在本次面对面的交流会议中，András 为复纳科技团队提供了专业的产品培训和技术支持，有效地传递了产品信息和技术细节。他的到访不仅加速了团队对 Technoorg Linda 系列产品的理解，也为复纳科技在中国市场推广和业务拓展开辟了新的机遇。 Part 2 Technoorg Linda 与复纳科技 关于 Technoorg Linda Technoorg Linda 总部位于匈牙利布达佩斯， 由 D. Szigethy, Prof. Á . Barna, Prof. N. Kroo 和 Prof. A. M. Prohorov ( 1964 年获诺贝尔奖) 创建于 1990 年，是一家专注于科学实验室设备制造的领先企业。 Technoorg Linda 致力于研发和生产高性能的样品制备设备，为电子显微镜领域的科学家们提供优质的实验室支持和技术解决方案。其产品涵盖了 SEM/TEM/FIB 样品制备所需的关键设备，可用于样品准备、离子加工和表面精细。产品广泛应用于各种科学研究领域，帮助科研人员更好地理解和探索微观世界的奥秘。 关于复纳科技 复纳科技创立于 2012 年，一直致力帮助海外顶尖高科技仪器厂商在中国市场搭建完善的服务与售后体系，助力中国用户科研创新、工业升级。作为 Technoorg Linda 在中国市场的独家代理商，我们为客户提供全方位的产品培训、技术支持和售后服务。当前在国内市场专注于引进并推广 SEM/TEM/FIB 样品制备系列设备。其中，Gentle Mill 离子精修仪主要用于改善 FIB 处理后的样品，UniMill 离子减薄仪主要用于透射电镜(TEM)样品制备，SEMPrep2 离子研磨仪主要用于扫描电镜 (SEM)样品制备。 01.Gentle Mill 离子精修仪 Gentle Mill 离子精修仪专为最终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。 1.1 产品介绍 FIB 系统主要用于制备 TEM 横截面样品薄片。与更传统的方法相比，FIB 的优点包括高通量、高精度、较少优先减薄和大的电子透明区域。然而，FIB 的主要缺点是能量相对较高的 Ga+ 离子会导致受损层（如非晶或注入），该层可能会延伸到材料中数十纳米。因此，FIB 制备的 TEM 样品不太适合高性能的 (S)TEM、HRTEM、HRSTEM 分析和高空间分辨率的 EELS 和 EDX 研究。 Gentle Mill 离子精修仪使用优异的独家热阴极低能离子枪做为离子束源。离子束的低角度、低能量保证了表面损伤和离子束诱导非晶化效应的最小化。非常适用于 FIB 样品的清洁和最终抛光，可无损去除薄片形成过程中 FIB 产生的受损层，也可进一步减小样品厚度。 1.2 离子枪参数低能离子枪（固定型）&bull 离子能量：100 eV - 2 keV，连续可调&bull 在 2 keV 离子能量和 30° 入射角下，c-Si 的研磨速率为 28 μm/h&bull 离子电流密度：最大 10 mA/cm2&bull 离子束流：7 - 80 μA，连续可调 1.3 应用案例 图注：C 面蓝宝石 FIB 薄片，Gentle Mill 的低能离子源有效消除所有非晶层和损坏层。 图注：左图为原始 FIB (30 kV) 处理薄片；右图为经过 Gentle Mill (300 eV) 处理的薄片。Si-SiGe 多层异质结构样品两侧均使用 Gentle Mill 处理 2 分钟，以去除 FIB 薄片制备产生的非晶层。在 FIB 薄片的边缘处可以看到非晶层厚度明显减少。 图注：GaSb/InAs 超晶格。使用 Gentle Mill 制备样品：在 2 keV 下减薄直至穿孔，然后在 1 keV 下修整，最后在 300 eV 下精修。 同时，第三代 Gentle Mill 采用简单便捷的图形界面，可进行全电脑控制。所有切削参数，包括离子枪设置、气流控制与其他 参数（如样品运动和倾斜角度、穿孔检测）的设置，都可以存储或以任意步骤进行预编程。这种全自动功能实现了在最少的人工干预下制备高质量的样品的功能。 02.Unimill 离子减薄仪 UniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM/XTEM 样品而设计。Unimill 既可以使用全新升级的超高能离子枪进行快速研磨，也可以使用专用的低能离子枪进行最终抛光和精修处理。 2.1 产品介绍 UniMill 离子减薄仪适用于研究新型材料或探索新型样品制备方法的用户，由于设备具有极高的研磨速率，也非常适合用于低溅射率的材料，如金刚石、蓝宝石等。通过低能离子枪轰击获得无人工痕迹样品，这为技术科学和材料研究领域探索合成材料和天然材料的真实纳米结构提供了独特的机会。 2.2 离子枪参数 超高能离子枪（可选）：&bull 离子束能量：高达 16 keV，连续可调&bull 离子束电流：高达 500 μA 高能离子枪（标配）：&bull 离子束能量：高达 10 keV，连续可调&bull 离子束电流：高达 300 μA 低能离子枪：&bull 离子束能量：100 eV - 2 keV，连续可调&bull 离子束电流：7 - 80 μA 2.3 应用案例001 GaN 平面视角样品的 TEM 图像。使用高能离子枪研磨后，样品通过 300 eV 的低能离子枪进行精细处理。 03. SEMPrep2 离子研磨仪 SEMPrep2 离子研磨仪可配备高能量、低能量两支离子枪,为传统 SEM 样品和 EBSD 样品的最终抛光和精细处理提供高质量解决方案。 3.1 产品介绍 离子研磨仪配备超高能量离子枪，可进行快速截面剖削，为半导体工业、材料科学、地质学或其他学科和工业应用提供优异的 SEM 样品剖面。同时，也可用于改善和精细处理机械抛光后的 SEM 样品，并为 EBSD 测量制备无损伤表面。最后，也可配备低能离子枪用于易脆易损伤样品表面更细微的温和处理。 3.2 离子枪参数 &bull 全新升级的超高能离子枪：加速电压高达 16 keV，加速电压连续可调。&bull 专用低能离子枪：100 eV 至 2 keV （可选配）。 3.3 应用案例 离子束截面剖削为 SEM/EBSD 成像和微量分析制备各种材料的高质量样品横截面。Sn-Ag 焊球的栅格阵列 (BGA) 金属线键合 离子束表面抛光制备用于电子背散射衍射(EBSD)研究和取向成像显微分析法(OIM)的样品。铜 镍 Part 3 联系我们 如果您想获取更多关于 Technoorg Linda SEM/TEM/FIB 样品制备的更多产品详情、应用案例或者寄样 DEMO，欢迎您识别下方二维码填写需求。

2024年6月25-28日，仪器信息网(www.instrument.com.cn) 与中国电子显微镜学会（对外）（www.china-em.cn）将联合主办“第十届电子显微学网络会议(iCEM 2024)”。会议结合目前电子显微学主要仪器技术及应用热点，邀请业界知名电子显微学专家、电子显微学仪器技术专家、电子显微学应用专家等，重点邀请近来有重要工作成果进展的优秀青年学者代表线上分享精彩报告。iCEM 2024恰逢电子显微学网络会议创立十周年，会议专场将增设“十周年”主题内容，围绕过去十年我国电子显微学重要进展、未来展望等进行分享。第十届电子显微学网络会议(iCEM 2024)将设置八个分会场：1) 原位/环境电子显微学与应用；2）先进电子显微学与应用；3）扫描电镜/聚焦离子束显微镜技术与应用；4）电子能量损失谱/电镜光谱分析技术；5）低温电子显微学与应用；6）生物医学电镜技术与应用；7）电镜实验操作技术及经验分享；8）电镜开放共享平台及自主保障体系建设。诚邀业界人士线上报名参会。主办单位：仪器信息网，中国电子显微镜学会（对外）参会方式：本次会议免费参会，参会报名请点击会议官网：https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/iCEM2024/或扫描二维码报名“扫描电镜/聚焦离子束显微镜技术与应用”专场预告（注：最终日程以会议官网为准）专场三：扫描电镜/聚焦离子束显微镜技术与应用（6月26日上午）专场主持暨召集人：王晋 浙江大学材料学院高温合金研究所 副研究员 报告时间报告题目演讲嘉宾8:30-9:00【十周年主题报告】：纳米分辨可视化方法在变形高温合金热制造中的应用研究王晋（浙江大学材料学院高温合金研究所 副研究员）9:00-9:30赛默飞双束电镜在生命科学研究的应用介绍及选型推荐程路（赛默飞世尔科技 电镜业务拓展经理）9:30-10:00钛合金双相组织变形机制的原位SEM/EBSD研究王柯（重庆大学 教授）10:00-10:30TESCAN 电镜在材料领域的最新应用李景（泰思肯（中国）有限公司 资深应用工程师）10:30-11:00新品发布：飞纳台式扫描电镜的技术突破及全新智能型离子研磨制样平台介绍张传杰（复纳科学仪器（上海）有限公司 产品、应用专家）11:00-11:30ECCI结合HR-EBSD研究增材制造金属结构材料变形机理及稳定性研究安大勇（上海交通大学 助理教授）11:30-12:00锂电池材料表界面改性与工况条件下失效机制的原位扫描电镜研究程晓鹏（北京工业大学 助理研究员）嘉宾简介及报告摘要（按分享顺序）专场主持暨召集人：王晋 浙江大学材料学院高温合金研究所 副研究员【个人简介】主要从事电子显微镜原位测试表征仪器的开发、高温合金材料微观结构与力学性能、变形断裂机理等研究,并致力于国内自主科学仪器的转化与应用。先后参与国家自然科学基金委科学仪器设备专项，科技部国家重大科学仪器设备开发专项，国家863计划重大项目，国家自然科学基金基础科学中心项目等。在国内外SCI期刊发表论文22余篇，授权国家专利20余项，完成发明专利职务科技成果转化3项。报告题目：纳米分辨可视化方法在变形高温合金热制造中的应用研究【摘要】热锻造、热处理是金属材料加工制造领域的传统基础工艺，但是由于金属材料加工工艺烦琐，精确过程控制难度大等问题，目前我国高端金属热加工工艺优化和过程精确控制的智能化基础理论与关键工艺技术研究开发显著落后。我国制造业面临严峻挑战，只有深入发展智能化设计和加工制造基础理论与关键工艺技术，并借力于自主开发新的热加工工艺设计与表征方法，才能更为高效、经济、全面的一体化研究该合金热锻造工艺-微观组织-锻造工艺性能之间关系，缩短合金性能优化研制时间，降低研发成本，提高生产合格率，解决热加工制造领域的共性难题。程路 赛默飞世尔科技 电镜业务拓展经理【个人简介】硕士毕业于北京科技大学之后进入电镜行业，曾多次前往日本、奥地利和德国学习电镜操作和电镜制样技术，从事电镜和电镜制样应用工程师工作超过15年时间，积累了丰富的电镜应用技术经验。2022年入职赛默飞生物电镜部门，现负责赛默飞双束电镜、常温透射电镜和扫描电镜在生物应用领域的售前技术支持和业务拓展。报告题目：赛默飞双束电镜在生命科学研究的应用介绍及选型推荐【摘要】双束电镜结合了聚焦离子束（FIB/PFIB）的精确样品修饰和扫描电镜（SEM）的高分辨率成像功能，广泛应用于获取生物样品的超微结构，包括拍摄常温2D图像、获取高分辨率体电子显微3D图像，和为CryoET制备Lamella等，其分析尺度范围可以从亚纳米级到毫米级。报告将从介绍多种类型的生物样品应用案例出发，结合丰富类型的赛默飞双束电镜，推荐对应的最适合型号。王柯 重庆大学 教授【个人简介】王柯，博士，重庆大学教授，博士生导师，长期从事钛合金热加工工艺与组织性能调控研究，重点关注钛合金高温变形和热处理一体化工艺设计、组织遗传性机制、组织性能关系、强韧性协同优化调控技术等。主讲课程包括：《材料力学性能》、《材料热力学与动力学》、《轻质耐高温航空结构材料：钛合金》等。主持国家自然科学基金面上/青年项目，重点研发计划项目子课题、企业横向等项目10余项，以第一/通讯作者发表学术论文 50 余篇，授权发明专利 6 项。参编《锻压手册》第四版高温合金部分。2022年获评重庆市创新创业导师。获陕西省自然科学一等奖1项。报告题目：钛合金双相组织变形机制的原位SEM/EBSD研究【摘要】对于大多数近α和α+β钛合金，滑移是主要的变形机制。本报告主要汇报内容包括：（1）α相和β相之间滑移启动的先后顺序；（2）微观组织对滑移启动和传递、以及裂纹形核的影响；（3）基于微观变形机制分析了组织对力学性能的影响机制；（4）基于组织性能关系研究，研制出一种多尺度组织，实现了钛合金强塑性协同提升。李景 泰思肯（中国）有限公司 应用工程师【个人简介】李景是TESCAN中国公司的高级应用工程师、首席应用专家，2015年毕业于北京科技大学材料科学与工程专业。她长期专注于扫描电镜在材料领域的研究，并且具有丰富的扫描电镜、FIB-SEM双束电镜及相关联用仪器（TOF-SIMS、Raman、EBL等）的操作与应用经验。李景在TESCAN公司中，不仅专注于技术研究，多年来持续参与各种学术交流和培训活动，包括但不限于客户研究项目技术支持、电镜会议分享、高级应用培训讲座等，获得客户的一致好评与感谢。报告题目：TESCAN 电镜在材料领域的最新应用【摘要】随着科研的深入及学科的交叉，常规扫描电镜系统无法满足科研工作者日益增高的分析需求。借助其它分析系统所得的数据，和电镜系统的数据往往非同时同位。TESCAN提出了All-In-One的综合解决方案，在常规的FIB-SEM系统上，增加Raman Spectrum Image以及TOF-SIMS和AFM等多种表征系统，可以极大的提升扫描电镜系统的原位综合分析能力，做到所见即所得。张传杰 复纳科学仪器（上海）有限公司 产品、应用专家【个人简介】飞纳电镜应用专家，长期从事扫描电镜应用拓展，自动化开发等相关工作，相关发明专利授权4篇，参与《2021年度国家药品标准制修订研究课题 2021Y05》，参会与起草《2025 中国药典 -- 扫描电子显微镜法通则》。报告题目：新品发布：飞纳台式扫描电镜的技术突破及全新智能型离子研磨制样平台介绍【摘要】飞纳电镜焕新赋能中国科研。全新发布台式场发射扫描透射一体机—Pharos STEM，扫透模式下分辨率突破 1 nm。 发布 Maps 3 全新软件平台，支持自动化多尺度成像及拼接，关联能谱分析及拼接以及尺度和多模态关联表征功能。发布 Phase Mapping 相分布软件。并将发布TechnoorgLinda 全新智能型离子研磨制样设备！敬请期待！安大勇 上海交通大学 助理教授【个人简介】安大勇，2019年毕业于德国亚琛工业大学/德国马普钢铁所，研究方向聚焦于金属结构材料微观变形机理研究。主持NSFC青年基金、重庆市自然基金等项目10余项，作为骨干参加173项目、国家重点研发计划项目、NSFC航空发动机重点项目、GF基础科研计划项目等7项，获第九届中国科协青年人才托举计划；揭示了增材制造奥氏体不锈钢胞状结构中周期性位错偶极子是其强韧性的关键因素，发现了位错类型决定胞状结构的热稳定性。提出了热力耦合渐进成形工艺，成功制备出晶粒-位错反向梯度高性能复杂薄壁构件，研究成果以第一和通讯作者在Int J Plast、 J Mater Sci Tech、 Mater Res Lett、Mater Charact、J Mater Proc Tech等期刊发表论文10篇，应邀撰写MRS Bulletin综述1篇，发明专利受理10项；报告题目：ECCI结合HR-EBSD研究增材制造金属结构材料变形机理及稳定性研究【摘要】金属增材制造奥氏体不锈钢中常具有亚微米级的胞状结构，该结构中包含高密度位错胞、纳米析出相和元素偏析等，显著影响着材料的机械性能。研究发现，不同胞状结构中的位错的热稳定性不同。本论文利用先进表征技术，对激光粉床熔融技术打印的奥氏体不锈钢胞状结构热稳定性进行了系统性研究，并揭示影响热稳定性的内在机理。程晓鹏 北京工业大学 助理研究员【个人简介】程晓鹏，北京工业大学助理研究员，硕士生导师。2021年博士毕业于北京工业大学材料与制造学部并留校从事教学科研工作，获北京市优秀毕业生。主要从事原位电子显微学表征方法及技术开发、原子层沉积技术与应用、能源材料与先进金属材料微观结构与性能等研究。主持国家自然科学基金青年项目、北京市教委科技项目、中国博士后基金等多个项目，授权国家专利5项，目前在Nature Energy，ACS Energy Letters，Nano Letters，Corrosion Science等发表学术论文30余篇，他引2000多次，担任Journal of Energy Chemistry等多个期刊审稿人。报告题目：锂电池材料表界面改性与工况条件下失效机制的原位扫描电镜研究【摘要】原位扫描电子显微镜（in-situ SEM）拥有较大的内部腔室，可容纳更接近实际的原位电池系统，同时具有足够高的分辨率，能够在实际工作状态下表征电池材料的结构演化机制，进而提出性能优化策略。本报告将介绍利用原位扫描电镜揭示锂电池材料在工况循环过程中的微结构演变机制，以及原子层沉积技术在电池材料表界面改性中的应用研究进展。会议联系1. 会议内容仪器信息网杨编辑：15311451191，yanglz@instrument.com.cn中国电子显微镜学会（对外）汪老师：13637966635，cems_djw @163.com2. 会议赞助刘经理，15718850776，liuyw@instrument.com.cn