纳米多层沉积自动机

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纳米多层沉积自动机相关的厂商

  • 苏州微流纳米生物技术有限公司 银牌3年
    400-860-5168转5085
    苏州微流纳米生物技术有限公司由海归工程师创立, 地处苏州工业园区生物纳米科技园内。公司技术团队具有十余年国内外纳米均质领域服务经验，一直与国外厂商保持了紧密的合作关系，公司是美国Genizer官方授权亚洲区总代理、美国BEE官方授权中国区总代理。　　公司主营代理超高压均质、脂质体挤出等设备和技术，为脂肪乳 (丙泊酚、前列地尔、氯维地平等)，精细化工(MLCC、锂电池、导电涂层等)，细胞破碎，纳米粒(紫杉醇白蛋白等)、纳米脂质体(多柔比星、伊立替康)、纳米纤维素、混悬液(泊沙康唑、氯替泼诺等)等领域客户提供了优质的解决方案。公司致力于成为纳米均质服务领域的专家，“品质至上、效能优先”是我们的经营理念，公司将竭诚为您提供优质的服务与解决方案。　　苏州微流纳米生物技术有限公司供应: 高压微射流均质机、高压均质机、微射流金刚石交互容腔、超高压均质机、纳米分散仪、纳米均质机、纳米破碎仪、脂质体挤出器、微流化器、纳米激光粒度仪、实验到生产型Genizer微射流超高压均质机、实验型和生产型脂质体挤出器、脂肪乳配液系统、脂质体工业化制备、石墨烯导电浆料、碳纳米管导电浆料、MLCC多层陶瓷电容导电涂层、电池导电浆料纳米化系统。
    主营产品： 均质器   纳米粒度仪  
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  • 派珂纳米科技（苏州）有限公司
    派珂纳米科技（苏州）有限公司是专业从事派瑞林涂覆设备、工艺开发的高新技术企业，公司前身为PACO KOREA，拥有20年高质量派瑞林涂覆经验和高度可靠的涂覆系统开发能力, 为广大客户提供派瑞林涂覆的加工、派瑞林材料、派瑞林气相沉积设备的开发及销售。 派瑞林镀膜的方式为气相沉积CVD，其防护性能明显优于喷漆、环氧、电镀等传统三防工艺，广泛应用于电路板PCBA、线圈马达、硅橡胶制品、磁性材料、LED/OLED、传感器、电池、医疗产品等，上述产品经parylene镀膜后可起到防水、耐腐蚀、耐高压、耐盐雾的作用，可大大提高产品性能，延长使用寿命。 派珂纳米在行业内的优势：拥有20多年派瑞林镀膜经验，涉及到各行各业的产品；严格按照作业标准进行操作，严格把控质量；设备独特的设计结构，使得镀膜速度快、生产效率高，从而降低涂敷成本；设备容量大，可满足批量化生产客户的要求；镀膜均匀性好，同批次均匀性＜5%；跟原料厂家合作，让客户在原料的供应上后顾无忧；拥有研发团队，可自主研发、设计、生产派瑞林沉积设备，提供量身定制的解决方案；拥有万级洁净厂房，满足对洁净度要求较高的产品的加工环境需求。
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  • 鹏城半导体技术（深圳）有限公司
    鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点，寻求创新引领与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控。公司核心业务是微纳技术与高端精密制造，具体应用领域包括半导体材料、半导体工艺和半导体装备的研发设计和生产制造。公司人才团队知识结构完整，有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队；还有来自工业界的高级装备设计师团队，他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司依托于哈尔滨工业大学（深圳），具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台，可以在高起点开展科研工作。公司总部位于深圳市，具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力。公司主营业务微纳米材料与器件、微纳米制造工艺、微纳工艺装备、工艺自动化及软件系统化合物半导体衬底材料和外延片|化合物半导体系列氮化镓、碳化硅、氧化镓、砷化镓、金刚石等|物理气相沉积（PVD）系列磁控溅射、电子束、热蒸发、离子束溅射、离子辅助磁控溅射、多弧离子镀、磁控溅射与离子束溅射复合、磁控溅射与多弧离子镀复合|化学气相沉积（CVD）系列PECVD、ICPECVD、MOCVD、LPCVD、热丝CVD、微波CVD|超高真空系列MBE分子束外延设备（科研型、生产型）、超高真空磁控溅射外延设备（10-8Pa）|其它ICP等离子刻蚀机、半导体合金退火炉、等离子清洗机、真空机械手、金刚石薄膜与厚膜生长设备|团簇式设备系列太阳能薄膜电池设备：PECVD+磁控溅射+样品预处理+真空自动机械手OLED中试设备：热蒸发+电子束+磁控溅射+PECVD+样品预处理+真空自动机械手+手套箱封装室综合薄膜制备和器件制造实验平台：以内置真空机械手的样品传递室为中心（配4～8个进出口），配置各真空工艺室|技术服务非标成套薄膜制备设备设计制造、薄膜制备设备升级改造、自动化软硬件设计承接工艺研发、样品试制与打样、进口设备真空零部件的维修和替换及控制系统更新本科及研究生的毕业课题立项及实训培养、工程师培训
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  • Swiss Cluster ALD原位多层复合原子层沉积系统 400-860-5168转2856
    瑞士Swiss Cluster公司介绍：Swiss Cluster起源于EMPA瑞士联邦材料科学与技术实验室孵化的高科技公司, 通过特有技术开发出全Qiu 首台ALD和PVD原位多层复合薄膜沉积系统, 并取得了非凡的成就和成熟的应用案例 其位于瑞士EMPA的工厂集合了具有薄膜沉积背景的专业人士, 包括物理学、机械工程、软件工程、材料科学、自动化等, 优秀专业团队加之核心技术和瑞士高品质优良工艺保障了给客户提供行业内下一代尖端的先进的薄膜沉积设备 Swiss Cluster凭借其特有的原位集成ALD+PVD+PECVD工艺可以将传统ALD应用扩展到更深层次和更高维度, 使科学家轻松创造具有新结构和新性能的创新材料, 原位复合超多层纳米薄膜等.传统复合薄膜需不同腔室真空互联, 流程复杂且成本高昂, 因样品需在不同腔室移动因此工艺繁琐操作耗时且无法原位制备多层复合薄膜 而Swiss Cluster突破常规, 无需多个腔室和输送臂等昂贵互联部件,极大减少互联设备成本和占地面积, 其腔体垂直布置且中部巧妙设计一个自动化闸阀从而实现在无需破坏真空时将ALD和PVD两工艺无缝原位组合, 且不同工艺切换时样品一直保持原位固定, 结合实时原位计量学可以轻松高效低成本实现超高质量数十到数百个ALD/PVD/PECVD多层复合纳米薄膜 ALD+PVD原位复合薄膜沉积技术介绍：ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---1：ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---2：ALD原位复合多层纳米薄膜应用案例---3：产品型号介绍：可选具有功能优势的配件：
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    厂商： 溢鑫科创科技集团
    品牌： 瑞士真空/Swiss Cluster
    型号： SC-1
    价格： 面议
  • VSParticle 纳米印刷沉积系统 400-812-0959
    气溶胶纳米喷印纳米印刷是柔性电子领域重要的区域性沉积技术， VSP-P1 采用独家的气溶胶冲压沉积技术，将原材料通过火花烧蚀的方式转变成纳米级气溶胶颗粒，并在真空系统配合下实现图案的绘制。该方法避免了传统喷墨打印需要导电油墨以及后续热处理去除油墨的弊端，保证图案的纳米结构最大程度的保留，避免产生气孔等缺陷。运行原理气溶胶颗粒会通过火花烧蚀的方式在前端产生，颗粒经由惰性气体带动运输至喷嘴处，经过真空系统作用，腔室的气压会保持在 10mbar 以下，而经由喷嘴喷出的气溶胶会在基底表面冲压沉积。而利用 XYZ 轴控制喷嘴的移动，即可实现图案的绘制。利用该方法，可轻松实现：1. 金属，合金，氧化物颗粒的印刷沉积2. 无添加剂，无废液3. 一步沉积，设备模块化，前端的气溶胶发生器可独立拆卸工作，进行其它方向的纳米研究4. 颗粒初始粒径可保持在 0-20nm 之间，形成多孔结构应用领域 高通量合金催化剂的筛选利用气溶胶喷印在多个通道打印沉积比例不同的合金催化剂，从而快速考查电催化性能。该方法可用于在工业相关电流密度下的流体力学条件下制备和筛选电极材料，可用于确定最佳催化剂和催化剂制备的稳健性。Ni / Fe 的复合电极被用于进行验证，64 个不同比例的催化阳极电极在快速筛选后可得到反应电位的变化。SERS表面增强拉曼光谱需要精细的 Au, Ag 等纳米结构，从而实现对低信号量化学物质的灵敏检测。利用气溶胶喷印技术在基底表面快速绘制纳米图案，进行拉曼光谱检测。这种方法避免添加剂对检测的干扰，在较低的温度处理后便可进行后续检测。纳米印刷结构在对罗丹明 6G，PMBA，三聚氰胺的检测中，标准基片表现出了优异的信号增强性能。气体传感器 金属氧化物 (MOX) 气体传感器通过半导体金属氧化物薄膜的电阻变化来检测气体，但氧化物涂层需要温和的沉积，故而常用的 PVD 与 CVD 手段均不适用。现有方法为利用溶胶凝胶法结合丝网印刷实现区域的沉积。利用气溶胶喷印直写可以实现精准的印刷沉积，避免热处理。
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    厂商： 复纳科学仪器（上海）有限公司
    品牌： VSParticle
    型号： VSP-P1
    价格： 面议
  • 纳米团簇束流沉积系统
    l纳米团簇束流沉积系统由纳米团簇源、质量选择器、沉积系统构成。 l可以用于基于纳米粒子的器件加工，可在结构、化学组分、封装等不同环节上对纳米结构单元进行操纵。l可用于纳米粒子膜的大规模工业化制备。l工艺过程高效、快速和低成本。v创新的镀膜、沉积设备 v新型的纳米颗粒制备设备 纳米粒子源通过气相聚集过程及差分束流系统形成纳米团簇束流，由质量选择器进行筛选，然后在高真空下以声速（低能）或被加速（高能）沉积于基底上。1、纳米团簇束流沉积系统——纳米团簇源l纳米粒子的平均直径：0.5～35nm（1 ～ 106个）可调。 l纳米粒子的尺寸分布（FWHM）：2～5nm。 l可选用多靶套件。 l可选用粒子弯头，实现多种团簇沉积或取样。 l相比传统磁控溅射系统，节约大约50%氩气。 l靶材可以是金属（包括碱金属、贵金属和特高熔点金属，例如：锇、钨）、非金属（常温常压下固态非金属单质和化合物）、半导体（例如硅、锗）、能在真空存在的固态有机材料等。2、纳米团簇束流沉积系统——质量选择器l基于德国科学家的时间飞行法对小团簇进行原子数级的质量选择，可以从“白”束流中分选出pA-nA流量的单原子数组分束流，质量选择精度为0.5 ～2%。 l1-200单原子可控。l尺寸选择精度：亚纳米级。 l通量：1010/s ～ 1011/s(1-10nA)。l选择后束流原子数在1 ～10000之间，选择精度优于20，可达200。3、纳米团簇束流沉积系统——沉积系统l纳米薄膜沉积速度可监控，并在0.05 ～2nm/s连续可调。 l标准纳米束流直径：0.5 ～25mm可调，可选配样品X-Y扫描器，制备150×150mm以上样品。 l可实现加速动能为1 ～40keV的荷能纳米粒子沉积。 l系统背景真空度可达10-9Torr。 l控制沉积速度（声速）并配合控温台（选配）实现沉积过程不升温。 l可选配快速降温组件，实现退火，得到一些特殊相。 l可用于制备纳米颗粒。
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    厂商： 贰零壹捌科技（天津）有限公司
    品牌： 未知
    型号： 11
    价格： 100万 - 200万元
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  • 【网络讲堂参会邀请】如何沉积纳米粒子 ——纳米粒子单层膜沉积实用指南
    如何沉积纳米粒子——纳米粒子单层膜沉积实用指南 纳米颗粒的二维致密单层膜沉积是多种技术和科学研究的基础。例如，纳米粒子单层膜可以作为传感器上的功能层，也可以用来生产用于纳米球光刻的胶体掩模。但是，怎样才能高效、可靠地得到具有三维自由度的纳米颗粒溶液，并将这些颗粒限制在横跨大基底的(二维)单层中呢?传统的纳米颗粒沉积技术纳米颗粒沉积技术种类繁多。一些相对简单和快速的方法包括溶剂蒸发、浸渍镀膜和旋涂镀膜。然而，这些技术可能会浪费大量的纳米颗粒，并且无法有效控制纳米颗粒的密度和配位结构。溶剂蒸发溶剂蒸发容易产生所谓的咖啡渍圈环效应，这种效应是由马朗戈尼流动引起的。这将导致不均匀沉积，中心的纳米粒子沉积稀疏，而边缘则形成多层纳米粒子沉积。 浸渍镀膜另一方面，如果只是用纳米粒子覆盖基底，浸渍镀膜将是一种很好的技术。然而，使用这种方法沉积纳米颗粒单分子层是非常具有挑战性的。同时，浸渍镀膜需要大量的纳米颗粒，这在处理昂贵纳米颗粒材料时将成为一个大的限制因素。 旋涂镀膜旋涂镀膜也是一种很有吸引力的方法，因为它易于规模化放大，而且在半导体工业中是一种众所周知的技术。然而，使用这种方法，薄膜的质量和多个工艺参数紧密相关，如：自旋加速度、速度、纳米颗粒的大小、基材的润湿性和所用溶剂。这使得对薄膜属性的精确控制变得非常困难。而且，一般旋涂镀膜需要大量的纳米颗粒溶液。 气液界面的单层镀膜在这里，气液界面沉积纳米颗粒单层提供了一种高度可控的沉积方法，可以将其沉积在几乎任何基底上。纳米颗粒被限制在气液界面，界面面积逐渐减小，使得纳米颗粒更加紧密地聚集在一起，从而可以实现控制沉积密度的目的，因为单位区域面积沉积的纳米颗粒的数量很容易计算，这样对纳米颗粒的需求量就会大大降低。 单层薄膜形成后，可以通过简单的上下提拉基底即可将界面上的薄膜转移到基底上。 在线网络研讨会报名如果您对如何制备纳米颗粒单分子膜感兴趣，想获取更多这方面的知识，请报名参加由伦敦大学学院的Alaric Taylor博士举办的题为“纳米颗粒单分子层薄膜沉积实用指南”的网络研讨会。报告人Alaric Taylor简介：Alaric Taylor博士是伦敦大学学院工程和物理科学研究委员会（EPSRC）研究员，他在纳米光子材料的制造，尤其是通过在气-液界面开发胶体单层自组装方面有很高的造诣。 报告内容：? 详细讲解纳米颗粒沉积的具体操作? 指出需要注意的事情? 讲述纳米颗粒沉积的技巧 报告时间：2018年9月13日下午3:00（北京时间）报名联系：如需参会，请填好下列表格中的信息发送至，邮箱：lauren.li@biolinscientific.com；姓名单位邮箱电话特别提醒：因为可能会涉及电脑、系统、耳机等调试问题，建议大家提前5-10分钟进入链接。
    时间： 2018-08-31
    作者： 百欧林
  • ACS Nano：原子层沉积技术助力复杂纳米结构的合成和精准调控取得新进展
    MoS2(二硫化钼)，由于其优异的带隙结构(直接带隙为1.8 eV)，高表面体积比和的场效应晶体管(FET，field effect transistor)性能，已成为具代表性的二维过渡金属硫族化合物（TMDC, transition-metal dichalcogenide）。使用纳米晶（Nano-Crystal，NC）修饰MoS2，即可以保持每个组成部分的立特性，同时又提供了复合材料产生的协同特性，大的扩展了MoS2材料的应用领域。控制纳米晶（NC）在 MoS2基底上的形貌，包括浓度，尺寸大小和表面体积比，对电子器件的整体性能影响是至关重要的。原子层沉积技术（ALD，Atomic layer deposition）是基于自限制的表面化学反应，对缺乏表面活化学反应基团的二维材料可实现选择性表面纳米晶修饰，其中NC大小可以通过循环次数来控制。美国斯坦福大学化学工程学院的Stacey F. Bent教授，通过使用台式三维原子层沉积系统-ALD发现了一种合成ZnO修饰MoS2基杂化纳米结构（纳米片或纳米线）的新方法。ZnO纳米晶的特性，包括浓度、大小和表面体积比，可以通过控制ZnO循环次数以及ALD磺化处理得到的MoS2衬底的性能来进行系统的合成和调控。通过材料化学成分（XPS以及 Raman），显微镜观察(TEM, SEM)和同步加速器X射线技术(GIWAXS) 分析ZnO与ALD沉积次数的相互关系，并结合量子化学计算的结果，作者阐明了ZnO在MoS2衬底上的生长机理及其与MoS2衬底性能的关系。MoS2纳米片的缺陷密度和晶粒尺寸可以由MoO3的硫化温度进行控制，ZnO纳米晶会选择性地在MoS2表面的缺陷位置处成核，且尺寸随着ALD循环次数的增加而增大。ALD循环次数越高，ZnO纳米晶的聚结作用越强，使得ZnO在MoS2衬底表面的覆盖和自身尺寸大幅增长。此外，复合结构的几何形貌可以通过改变MoS2衬底的取向进行调控，即采用MoS2的垂直纳米线（NWs，nanowires）作为ALD ZnO NCs的衬底，可以大幅改善复合结构的表面体积比。该类材料有望用于一些新拓展的领域，尤其是依赖过渡金属卤化物和NCs相互耦合结构的，如基于p−n异质结的传感器或光电器件。该工作发表在2020年的国际知名期刊ACS Nano (2020, 14, 1757−1769)上。图1. （a）ZnO@MoS2复合纳米结构示意图；（b）800°C-MoS2表面的HR-STEM图像；（c）两步合成二硫化钼的工艺，即在三个不同的退火温度下（600,800,和1000°C）下使用H2S硫化ALD 合成的MoO3；（d）600 °C-, 800 °C-, 和1000 °C-MoS2的Raman光谱图,（e）Zn 2p XPS谱图（循环次数为50次）,（f）相对原子比 Zn/(Zn + Mo),（g）TEM图像，（h）表面覆盖度，（i）MoS2表面ZnO颗粒的数密度及（g）GIWAXS（grazing incidence wide-angle X-ray scattering，掠入射小角X射线散射） 图样（不同沉积次数下）；（k）800 °C-MoS2 纳米线的SEM，TEM和HR-TEM图像；（l）DEZ（diethylzinc，二乙基锌）反应的量子化学计算结果,在MoS2的边缘位和基面上进行DFT分析,黄色和绿色原子分别表示S和Mo。 上述工作中作者团队采用的原子层沉积设备来自于美国ARRADIANCE公司的GEMStar系列台式三维原子层沉积系统-ALD(如图2所示)，其在小巧的机身（78 * 56 * 28 cm）中集成了原子层沉积所需的所有功能，可多容纳9片8英寸基片同时沉积。全系配备热壁，结合前驱体瓶加热，管路加热，横向喷头等设计，使温度均匀性高达99.9%，气流对温度影响减少到0.03%以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上膜厚的不均匀性小于99%，而且更适合对超高长径比的孔径3D结构等实现均匀薄膜覆盖，对高达1500：1长径比的微纳深孔内部也可实现均匀沉积。GEMStar系列ALD系统广泛应用于高深宽比结构沉积，半导体微纳结构制备，微纳粉末包覆等，服务于锂离子电池，超电容器，超电容器，LED等研究领域。图2. 美国ARRADIANCE公司生产的GEM-tar系列台式三维原子层沉积系统 参考文献：[1]. Il-Kwon, et al., Synthesis of a Hybrid Nanostructure of ZnO-Decorated MoS2 by Atomic Layer Deposition., ACS nano., 2020,14(2), 1757-1769.
    时间： 2022-01-15
    作者： QUANTUM量子科学
  • 一文了解原子层沉积（ALD）技术的原理与特点
    什么是原子层沉积技术原子层沉积技术（ALD）是一种一层一层原子级生长的薄膜制备技术。理想的 ALD 生长过程，通过选择性交替，把不同的前驱体暴露于基片的表面，在表面化学吸附并反应形成沉积薄膜。 20 世纪 60 年代，前苏联的科学家对多层 ALD 涂层工艺之前的技术（与单原子层或双原子层的气相生长和分析相关）进行了研究。后来，芬兰科学家独立开发出一种多循环涂层技术（1974年，由 Tuomo Suntola 教授申请专利）。在俄罗斯，它过去和现在都被称为分子层沉积，而在芬兰，它被称为原子层外延。后来更名为更通用的术语“原子层沉积”，而术语“原子层外延”现在保留用于（高温）外延 ALD。 Part 01.原子层沉积技术基本原理 一个完整的 ALD 生长循环可以分为四个步骤： 1.脉冲第一种前驱体暴露于基片表面，同时在基片表面对第一种前驱体进行化学吸附2.惰性载气吹走剩余的没有反应的前驱体3.脉冲第二种前驱体在表面进行化学反应，得到需要的薄膜材料4.惰性载气吹走剩余的前驱体与反应副产物 原子层沉积（ ALD ）原理图示 涂层的层数（厚度）可以简单地通过设置连续脉冲的数量来确定。蒸气不会在表面上凝结，因为多余的蒸气在前驱体脉冲之间使用氮气吹扫被排出。这意味着每次脉冲后的涂层会自我限制为一个单层，并且允许其以原子精度涂覆复杂的形状。如果是多孔材料，内部的涂层厚度将与其表面相同！因此，ALD 有着越来越广泛的应用。 Part 02. 原子层沉积技术案例展示 原子层沉积通常涉及 4 个步骤的循环，根据需要重复多次以达到所需的涂层厚度。在生长过程中，表面交替暴露于两种互补的化学前驱体。在这种情况下，将每种前驱体单独送入反应器中。 下文以包覆 Al2O3 为例，使用第一前驱体 Al(CH3)3（三甲基铝，TMA）和第二前驱体 H2O 或氧等离子体进行原子层沉积，详细过程如下：反应过程图示 在每个周期中，执行以下步骤： 01 第一前驱体 TMA 的流动，其吸附在表面上的 OH 基团上并与其反应。通过正确选择前驱体和参数，该反应是自限性的。 Al(CH3)3 + OH = O-Al-(CH3)2 + CH4 02使用 N2 吹扫去除剩余的 Al(CH3)3 和 CH4 03第二前驱体（水或氧气）的流动。H2O（热 ALD）或氧等离子体自由基（等离子体 ALD）的反应会氧化表面并去除表面配体。这种反应也是自限性的。 O-Al-(CH3)2 + H2O = O-Al-OH(2) + (O)2-Al-CH3 + CH4 04使用 N2 吹扫去除剩余的 H2O 和 CH4，继续步骤 1。 由于每个曝光步骤，表面位点饱和为一个单层。一旦表面饱和，由于前驱体化学和工艺条件，就不会发生进一步的反应。 为了防止前驱体在表面以外的任何地方发生反应，从而导致化学气相沉积（CVD），必须通过氮气吹扫将各个步骤分开。 Part 03. 原子层沉积技术的优点 由于原子层沉积技术，与表面形成共价键，有时甚至渗透（聚合物），因此具有出色的附着力，具有低缺陷密度，增强了安全性，易于操作且可扩展，无需超高真空等特点，具有以下优点： 厚度可控且均匀通过控制沉积循环次数，可以实现亚纳米级精度的薄膜厚度控制，具有优异的重复性。大面积厚度均匀，甚至超过米尺寸。 涂层表面光滑完美的 3D 共形性和 100% 阶梯覆盖：在平坦、内部多孔和颗粒周围样品上形成均匀光滑的涂层，涂层的粗糙度非常低，并且完全遵循基材的曲率。该涂层甚至可以生长在基材上的灰尘颗粒下方，从而防止出现针孔。 ALD 涂层的完美台阶覆盖性 适用多类型材料所有类型的物体都可以进行涂层：晶圆、3D 零件、薄膜卷、多孔材料，甚至是从纳米到米尺寸的粉末。且适用于敏感基材的温和沉积工艺，通常不需要等离子体。 可定制材料特性适用于氧化物、氮化物、金属、半导体等的标准且易于复制的配方，可以通过三明治、异质结构、纳米层压材料、混合氧化物、梯度层和掺杂的数字控制来定制材料特性。 宽工艺窗口，且可批量生产对温度或前驱体剂量变化不敏感，易于批量扩展，可以一次性堆叠和涂覆许多基材，并具有完美的涂层厚度均匀性。
    时间： 2024-02-27
    作者： 复纳科学仪器
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  • 天津兰力科：氧化铝模板中直流电沉积镍纳米线
    提出了一种在多孔阳极氧化铝PAA (porous anodic alumina)模板中直流电沉积镍纳米线的新方法。以PAA模板为阴极,在氯化钾溶液中通过电解腐蚀阻挡层,利用极化曲线研究了PAA模板中氢离子和镍离子的电化学行为。用扫描电镜表征了PAA、镍纳米线的形貌 用X射线衍射表征了纳米线的结构。结果表明,腐蚀阻挡层后的PAA伏安图上出现1个阳极氧化峰,镍离子在PAA模板中于- 110 V发生电沉积。扫描电镜显示镍纳米线直径为70～80 nm,与PAA的孔径相符。XRD表征证明了所制得的纳米线阵列为(111)取向的面心立方结构镍。通过电解腐蚀阻挡层后,能够直接在PAA中使用直流电沉积镍纳米材料。
  • 原子层沉积 ALD 在纳米材料方面的应用
    在微纳集成器件进一步微型化和集成化的发展趋势下，现有器件特征尺寸已缩小至深亚微米和纳米量级，以突破常规尺寸的极限实现超微型化和高功能密度化，成为近些年来的热点研究领域。微纳结构器件不仅对功能薄膜本身的厚度和质量要求严格，而且对功能薄膜/基底之间的界面质量也十分敏感，尤其是随着复杂高深宽比和多孔纳米结构在微纳器件中的应用，传统的薄膜制备工艺越来越难以满足其发展需求。ALD 技术沉积参数高度可控，可在各种尺寸的复杂三维微纳结构基底上，实现原子级精度的薄膜形成和生长，可制备出高均匀性、高精度、高保形的纳米级薄膜。
  • 纳米粒子光刻需要高度有序的粒子沉积
    考虑使用纳米微球光刻技术的人都会很快注意到制备胶体掩膜的一些问题。乍一看，似乎在固体基底上获得纳米颗粒只是将固体浸入到纳米粒子溶液中。对于某些应用来说，这种做法可能是正确的，但对于纳米微球的光刻技术来说，这几乎是不可能成功的。如果要想形成均匀的单层纳米颗粒，则需要一个可控性更好的制备技术。LB膜沉积技术则是首选的方法。
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  • 求教一下电化学沉积纳米颗粒

    有那位大侠作这方面的：用电化学工作站CHI660沉积铂纳米颗粒的，在玻碳电极上。指导一下啊，或者相关的资料介绍一下》QQ：469387067。laomao007@sina.com

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纳米多层沉积自动机相关的耗材

  • 原子层沉积(ALD)
    原子层沉积(ALD)是一项真正意义上的纳米技术，使纳米超薄薄膜以一种精确控制的方式沉积。原子层沉积ALD有两个特征 自限性原子分层技术增长和高保形涂层。这些特征在半导体工程、微机电系统和其他纳米技术的应用程序使用方面展现许多优势。原子层沉积的优势原子层沉积的过程正是每个周期中单个原子层沉积的过程，完全控制的沉积是一个获得纳米尺度的过程:保形涂层即使在高深宽比和复杂的结构中也可以实现可实现针孔和无颗粒沉积一个非常广泛的材料与原子层沉积是可能的，例如:氧化物：Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, SrTiO3, Ta2O5, Gd2O3, ZrO2, Ga2O3, V2O5, Co3O4, ZnO, ZnO:Al, ZnO:B, In2O3:H, WO3, MoO3, Nb2O5, NiO, MgO, RuO2氟化物：MgF2, AlF3有机杂化材料：Alucone氮化物：TiN, TaN, Si3N4, AlN, GaN, WN, HfN, NbN, GdN, VN, ZrN金属：Pt, Ru, Pd, Ni, W硫化物：ZnSALD工具比较Feature功能OpALFlexAL基板**200毫米晶圆**200毫米晶圆液体和固体的前驅物**4路+水、臭氧和气体**8路+水,臭氧和气体**前驅物温度200oC200oC拥有快速传递系统Mfc控制下的气体管道：1)热气体的前体（例如，NH3, O2）2)等离子气体（例如，O2, N2,H2）2个内部结构。多达8个外部安装气路多达10个外部安装气路等离子体选择/現地升级选项載片开腔闭锁或片匣可集群其他流程模块不可可以- 第三方公司MESC模块作为特殊选择载盘温度范围25oC – 400oC25oC – 400oC (部分550oC)椭偏仪接口可以可以快速脉冲ALD阀门接头套管10 ms可以可以原子层沉积系统包括FlexAL和OpAL 兩款。
    供应商： 牛津仪器科技（上海）有限公司
    品牌： 牛津仪器
    价格： 面议
  • deconex 22HPF-x全自动机洗固体清洗剂
    deconex22HPF-x，实验室清洗剂，机洗专用清洗剂，高效碱性清洗剂，全自动机洗固体清洗剂，机洗专用固体清洗剂，碱性浓缩清洗剂产品名称：deconex 22 HPF-X全自动机洗固体清洗剂型 号：deconex 22 HPF-X品 牌：瑞士波洱Borer产品类型：碱性浓缩清洗剂deconex22HPF-X高效碱性清洗剂主要用途:deconex 22 HPF-x是高浓缩强碱性清洗剂，不含磷，有非常好的去污和分散作用，甚至可以去除干燥及烧结过的污垢。本产品还非常适合动物笼舍的清洗。此外，deconex 22HPF-x还适合于清洗磷酸盐分析应用中的器皿，例如细胞膜形成和磷酸酶分析实验。主要成分：碱，络合剂，鳌合剂，腐蚀抑制剂等deconex22HPF-X全自动机洗固体清洗剂理化参数：PH值(1%水溶液中)：12.5生物降解率：90%使用方法：稀释浓度：根据污染物程度3-7ml/L(体积比)接触时间：5-15分钟清洗温度：根据器皿材料55-80℃规格：6公斤、12公斤deconex22HPF-X实验室清洗剂以下产品适用于实验室手工浸泡清洗：货号产品名称简要应用描述包装规格500325.00-F10Wdeconex 12 Basic碱性浓缩液体、手工/超声清洗1.3kg500325.00-K05Wdeconex 12 Basic碱性浓缩液体、手工/超声清洗7kg518000.00-F10Wdeconex 15 PF-x碱性浓缩液体、手工/超声清洗1kg518000.00-K10Wdeconex 15 PF-x碱性浓缩液体、手工/超声清洗10kg518110.00-KK5Wdeconex FORMULA 1碱性浓缩液体、全自动机洗6kg518110.00-K10Wdeconex FORMULA 1碱性浓缩液体、全自动机洗12kg以下产品为自动机洗产品：货号产品名称简要应用描述包装规格519200.00-KK5Wdeconex 22 LIQ-x碱性浓缩液体、全自动机洗6kg519200.00-K10Wdeconex 22 LIQ-x碱性浓缩液体、全自动机洗12kg516900.00-KK5Wdeconex 22 HPF-x碱性浓缩液体、全自动机洗6kg516900.00-K10Wdeconex 22 HPF-x碱性浓缩液体、全自动机洗12kg518110.00-KK5Wdeconex FORMULA 1碱性浓缩液体、全自动机洗6kg518110.00-K10Wdeconex FORMULA 1碱性浓缩液体、全自动机洗12kg502100.00-KK5Rdeconex 25 Organacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂5kg502100.00-K10Rdeconex 25 Organacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂10kg502200.00-KK5Rdeconex 26 Mineralacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂5kg502200.00-K10Rdeconex 26 Mineralacid酸性浓缩液体、全自动机洗中和剂10kg以下产品为实验室设备消毒和擦拭-适用于细胞培养客户：货号产品名称简要应用描述包装规格513200.00-S05Adeconex SOLARSEPT即用型仪器设备表面消毒剂0.5L以下产品适用于需真空密封设备，代理原有硅油适用。耐高低温。货号产品名称简要应用描述包装规格514215.00-CA15glisseal N真空润滑脂60g514205.00-D10Gglisseal N真空润滑脂1kg514310.00-CA15glisseal HV真空润滑脂60g514315.00-D10Gglisseal HV真空润滑脂1kg如何选择borerdeconex专业清洗剂：实验室类型主要污染物适合清洗剂清洗方式分析实验室多种复杂有机物，水溶性无机盐等deconex 12BASIC手工浸泡超声波清洗有机痕量分析实验室多种复杂有机物，水溶性无机盐等deconex 15PF-x手工浸泡超声波清洗制备实验室简单有机物，无机盐等deconex 15PF-x手工浸泡超声波清洗微生物实验室培养基，油脂，蛋白质等deconex 12 BASIC手工浸泡超声波清洗环境和水质分析实验室金属氧化物，微量元素离子，简单有机物deconex 15PF-x手工浸泡超声波清洗石油化工实验室石油及其衍生产物deconex FORMULA 1手工浸泡超声波清洗乳品厂实验室乳脂，蛋白，香料deconex 12 BASIC手工浸泡超声波清洗食品厂实验室油脂，淀粉，糖分deconex 12 BASIC手工浸泡超声波清洗啤酒厂实验室氨基酸，糖分等deconex 12 BASIC手工浸泡超声波清洗实验动物和畜牧业排泄物，食物残渣deconex 12 BASIC适合预清洗动物排泄物手工浸泡超声波清洗
    供应商： 北京莱博瑞杰科技有限公司
    品牌： 波洱
    价格： 面议
  • 超高分辨TERS针尖增强拉曼探针/Nano IR纳米红外探针
    NEXT-TIP SL公司成立于2012年，是西班牙研究委员会 (CSIC) 的衍生公司。其生产的TERS针增强拉曼探针和纳米红外探针，基于纳米粒子沉积技术，形成具有可控尺寸和成分的纳米颗粒涂层，具有超高的横向分辨率，大大提高了使用寿命。TERS针增强拉曼探针Next-Tip TERS 探针的出色性能与其形态特征有关。这些探头的设计经过开发，具有优异的 AFM 性能和超强的拉曼信号。突破针增强拉曼探针的限制：&bull 高可靠性，使用户能够专注于样品的表征。&bull 高达3 nm的超高分辨率&bull 超高灵敏度，可获得完全清晰/稳定的光谱，质量优于传统TERS。增强因子和对比度增强系数 (EF) 值是根据探针针的增强电场来量化拉曼信号的增强的参数。这个参数基于对比度值。对比度值根据在同一点的近场和远场扫描收集的实验数据计算。金TERS探针保证对比度高于20，银TERS探针保证对比度高于40，使得Next-Tip TERS 探针的增强系数高达105 -106。寿命银镀层的TERS探针由另一层金纳米粒子保护，以避免氧化和污染，保持等离激元的效应。致密的金纳米颗粒涂层提升了金属层厚度，大大提高了探针的耐用性。此外，纳米颗粒沿探针表面形成的不规则结构延长了其测量的寿命。性能可控的涂层沉积过程可实现坚固探头的高可重复性和高分辨率。此外，这种涂层工艺可以在针的点放置一个或两个纳米颗粒，实现超高空间分辨率。测量显示 AFM 分辨率小于5 nm，TERS 分辨率小于10 nm。TERS针增强拉曼探针类型高分辨率TERS在锐的硅基针上附着尤其致密，不规则和锐的纳米颗粒涂层，可获得超高空间分辨率和高质量的成像。基础TERS: 通过致密、不规则、颗粒状坚固的纳米颗粒涂层，用优化的涂层产生超强的拉曼信号，获得准确的成像和光谱数据。各型号参数对比银芯基础TERS探针高分辨金TERS探针高分辨银芯TERS探针型号NT-EASY-TERS-70银NT-EASY-TERS-300银NT-TERS-E-85金NT-TERS-E-335金NT-TERS-E-85银NT-TERS-E-335金共振频率（kHz）703008533585335力常数（N/m）2262.8452.845悬臂长度（μm）240160240160240160TERS针增强拉曼探针 测量结果1L MoS2/AuCNT/Graphene Oxide单层过渡金属二硫化物（TMDC）拉曼激发模式高精度表征参考文献：Alvaro Rodriguez, Matěj Velický , Jaroslava &Rcaron áhová, Viktor Zólyomi, János Koltai, Martin Kalbá&ccaron , and Otakar Frank. Activation of Raman modes in monolayer transition metal dichalcogenides through strong interaction with gold. Phys. Rev. B 105, 195413 – Published 10 May 2022. DOI: https://doi.org/10.1103/PhysRevB.105.195413Nano IR纳米红外探针纳米红外光谱的原理是基于一个锐的金属涂层前沿，激发激光束落在该前沿上。探针针的电磁场由于局部表面等离激元共振和避雷针效应的共同作用而具有局域限制和增强的效果。更强的纳米红外信号Next-Tip探针得到的红外信号比常用AFM探针高出几倍（约5倍）。下图显示了使用相同带宽激光源的两种探针在硅上获取的未标准化的近场振幅光谱。更高的纳米红外信噪比与使用标准的探针得到的光谱相比，使用Next-Tip探针得到的光谱具有更小的背景干扰，从而得到更高的SNR和更清晰的光谱。下图显示了使用两种探头在13.6秒内记录的PMMA的三阶解调纳米红外吸收光谱。Nano IR纳米红外探针类型各型号参数对比象鼻形金字塔形型号NT-IR-E-85NT-IR-E-335NT-IR-P-75NT-IR-P-330共振频率（kHz）8533575330力常数（N/m）2.8452.842悬臂长度（μm）240160225125
    供应商： QUANTUM量子科学仪器贸易（北京）有限公司
    品牌： NEXT-TIP
    价格： 面议
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