元件原子级涂覆系统

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元件原子级涂覆系统相关的厂商

  • 博信成立于2001年,是由公司几位主管持股的私营企业。博信是一家专为机械视觉,现代工业,科研教育,激光应用,医疗仪器和自动化设备提供光学产品和技术服务的生产型公司,也是从事产品外包及订约制造高精度光学元件公司的战略伙伴。产品销往许多国家和地区,在行业内拥有良好声誉。博信拥有300多名员工。拥有标准的光学生产车间和超净车间1.1万多平方米。拥有Satisloh、Optotech、Trioptics、Mahr、Leybold、Zygo、Lambda、Hitachi、Ak-100、Fujinon、LungPien等先进的加工设备和检测仪器500多台套。提供从研发设计,样品试制,到批量生产的完整服务。博信主要产品包括柱面镜、复曲面镜、非球面镜、球面镜、平面镜以及高精度光学元件,同时擅长异形非标和大尺寸光学元件的加工。博信设有光机装校车间和电子集成车间,现已形成一套完整的光机电生产链。经过多年的管理优化,博信已经建立成为一支包含研发设计,生产加工,工艺和设备改造,质量控制和营销服务等的完整团队,可满足客户提出的各项产品,技术、生产、质量,采购需求。公司始终以“不断创新,诚实守信,质量第一,客户至上”为发展宗旨,提供高质量的产品和服务给广大客户!
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  • 登封市明辉高温元件有限公司位于河南省登封市。这里有巍巍的五岳之尊—嵩山,有远名中外的千年古刹——少林寺。高速公路直达郑州、洛阳、许昌。交通十分便利。我公司是目前业内生产电热元件种类多、产品型号全的厂家之一。产品几乎涵盖全部电加热领域,广泛适用于电子、化工、冶金、机械、陶瓷、玻璃等多种行业。生产订做硅碳棒、硅钼棒高温元件,硅碳棒夹具,硅钼棒夹具,碳化硅加热片等窑炉附件。以诚信为本、以技术创先是我公司的企业宗旨。企业生产设备优良、工艺技术成熟稳定、检测设备齐全、服务系统完善,供货及时。欢迎来电了解。
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  • 400-878-6829
    帕克(Park)公司的创始人是世界上第一台原子力显微镜发明组的一员,1986年研制了世界首台商用原子力显微镜,一直致力于原子力显微镜技术的开发与应用,帕克(Park)在原子力显微镜的发展过程中一直占有重要的一席之地。本公司作为纳米显微镜和计量技术领域的领导革新者,一直致力于新兴技术的开发。我们的总部遍及中国大陆,宝岛台湾,韩国,美国,日本,新加坡和德国等地,我们为研究领域和工业界提供世界上最精确,最高效的原子力显微镜。我们的团队正在坚持不懈的努力,力求满足全球科学家和工程师们的需求。随着全球显微镜市场的迅速增长,我们将持续创新,不断开发新的系统和功能,确保我们的产品始终得到最有效最快捷的使用!Park产品主要有以下特点: 1.非接触工作模式:全球唯一一家真实实现非接触式测量模式的原子力显微镜厂家,非接触模式使原子力针尖磨损大大降低,延长了探针寿命,提高了测量图像的重复性; 2.高端平板扫描器:所有产品型号均采用的高端平板扫描器,远远优于传统的管式扫描器 3.全球最高的测量精度:Z轴精度可达0.02nm; 4.智能扫描Smartscan:仪器操作极其简单,可实现自动扫描,对操作者无特殊要求,并且有中文操作界面; 5.简单的换针方式:换针非常方便,采用磁拖直接吸上即可,不需调整激光光斑; 6.Park拥有全球最广泛的工作模式:可用于光学,电学,热学,力学,磁学,电化学等方面的研究与测试。
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元件原子级涂覆系统相关的仪器

  • Optical Coating System/光学涂覆系统NANO-MASTER(那诺-马斯特)NOC-4000光学涂覆系统提供最先进的技术,系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片功能。在一个腔体中实现原子级清洗和光学样片抛光,然后把样片传送到第二级腔体中对同一样片进行表面涂覆,整个过程不间断真空。产品应用:光学涂层溅射IBAD离子束辅助沉积离子束刻蚀清洗离子束辅助反应刻蚀红外涂层表面处理产品特点:RF射频偏压样品台膜厚监测仪极限真空5x10-7Torr高精度及高重复性高品质膜层原子级的洁净表面原子级清洗和抛光通过LabView软件实现PC计算机全自动控制自动上下载片两个腔体之间自动传送菜单驱动,4级密码访问保护完整的安全联锁占地面积46”D x 44”W选配项:向下/向上溅射共溅射DC,RF以及脉冲电源离子束辅助沉积电子束源等离子源
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  • 仪器简介:桌面型原子层沉积系统由哈佛大学纳米科学中心薄膜沉积工艺研究首席科学家Dr. Philippe de Rouffignac设计,基于多年纳米薄膜制备的丰富经验以及对科研工作者切实研究需要的了解,推出了此桌面型、高性能的原子层沉积系统。首台设备自2015年在CNS安装以来,到目前为止已有超过1500人次使用,人性化的设计、便捷的操作和优质的成膜工艺,赢得了众多科研工作者的赞誉。原子层沉积技术可沉积材料:氧化物: Al2O3, ZrO2, HfO2, Ta2O5, SnO2, RuO2, ZnO, SrTiO3等氮化物: TiN, NbN, TaN, Ta3N5, MoN, WN, TiSiN, SiN等 单一物质: Si, Ge, Cu, Mo, W, Ta, Ru等 半导体材料: GaAs, Si, InAs, InP, GaP, InGaP等原子层沉积系统可以广泛应用于: 半导体领域:晶体管栅极电介质层(高k材料),光电元件的涂层,晶体管中的扩散势垒层和互联势垒层(阻止掺杂剂的迁移),有机发光显示器的反湿涂层和薄膜电致发光(TFEL)元件,集成电路中的互连种子层,DRAM和MRAM中的电介质层,集成电路中嵌入电容器的电介质层,电磁记录头的涂层,集成电路中金属-绝缘层-金属(MIM)电容器涂层。 纳米技术领域:中空纳米管,隧道势垒层,光电电池性能的提高,纳米孔道尺寸的控制,高高宽比纳米图形,微机电系统(MEMS)的反静态阻力涂层和憎水涂层的种子层,纳米晶体,ZnSe涂层,纳米结构,中空纳米碗,存储硅量子点涂层,纳米颗粒的涂层,纳米孔内部的涂层,纳米线的涂层。技术参数:1. 腔室专为R&D设计和优化,样品尺寸达直径4’’,支持扩展6‘’;2. 反应腔温度可控范围:RT-350℃;3. 前驱体源温度可控范围:RT-150℃;4. 腔室处理压力可控范围:0.1-1.5 torr;5. 源扩展多达5个;6. 快速循环处理功能;7. 气路优化设计、腔体小型化设计;8. 一分钟多达6-10;9. 成熟的薄膜Recipes内置程序;10. 触屏PLC控制;11. 可配套手套箱使用;12. 可配备臭氧发生器;具体规格,欢迎与我公司联系。
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  • 原子层沉积技术可沉积材料:氧化物: Al2O3, ZrO2, HfO2, Ta2O5, SnO2, RuO2, ZnO, SrTiO3等氮化物: TiN, NbN, TaN, Ta3N5, MoN, WN, TiSiN, SiN等 单一物质: Si, Ge, Cu, Mo, W, Ta, Ru等 半导体材料: GaAs, Si, InAs, InP, GaP, InGaP等原子层沉积系统可以广泛应用于: 半导体领域:晶体管栅极电介质层(高k材料),光电元件的涂层,晶体管中的扩散势垒层和互联势垒层(阻止掺杂剂的迁移),有机发光显示器的反湿涂层和薄膜电致发光(TFEL)元件,集成电路中的互连种子层,DRAM和MRAM中的电介质层,集成电路中嵌入电容器的电介质层,电磁记录头的涂层,集成电路中金属-绝缘层-金属(MIM)电容器涂层。 纳米技术领域:中空纳米管,隧道势垒层,光电电池性能的提高,纳米孔道尺寸的控制,高高宽比纳米图形,微机电系统(MEMS)的反静态阻力涂层和憎水涂层的种子层,纳米晶体,ZnSe涂层,纳米结构,中空纳米碗,存储硅量子点涂层,纳米颗粒的涂层,纳米孔内部的涂层,纳米线的涂层。技术参数:1. 腔室专为R&D设计和优化,样品尺寸达直径4’’,支持扩展6‘’;2. 反应腔温度可控范围:RT-350℃;3. 前驱体源温度可控范围:RT-150℃;4. 腔室处理压力可控范围:0.1-1.5 torr;5. 源扩展多达5个;6. 快速循环处理功能;7. 气路最优化设计、腔体小型化设计;8. 一分钟多达6-10;9. 成熟的薄膜Recipes内置程序;10. 触屏PLC控制;11. 可配套手套箱使用;12. 可配备臭氧发生器;
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元件原子级涂覆系统相关的资讯

  • 评估智能手机镜头中光学元件的透过率
    评估智能手机镜头中光学元件的光学性能-透过率1.前言刚刚发布的华为P30手机因后置拍照评分高登上DXO榜首,随后三星发微博表示不服,并称其S10+手机拍照总分高。可见,手机/数码相机以及摄像机中光学元件的微型化和先进性已取得重大进展。但是要获得还原度高的图像,就需要精确评估镜头中微透镜和滤光片的光学特性。日立UH4150不仅拥有独特的光学系统,大型的样品室,还可以进行专属定制,是测量相机中光学元件的理想工具。2.测量附件2.1微小样品测量附件由于手机照相机镜片太小,将照射到样品的光通量调节到小于样品尺寸比较困难。使用微小样品测量附件可以解决这个问题,该附件包括聚光镜/参照光束膜/样品支架。样品支架可以根据透镜的尺寸和形状灵活配置。附件如图1所示。图1 微小样品测量附件图片及结构(左)微小样品支架 (右)微小样品测量附件2.2 全积分球附件透射光束的形状受散射和折射影响大的样品,如透镜,需要使用积分球消除检测器的局域性。60mm标准全积分球附件和高灵敏度积分球在透镜测量中都可使用。图2 ф60mm的全积分球附件(仪器顶部视图)3.测量实例智能手机相机中CMOS和CCD传感器在近红外区域具有高度的敏感性。而人眼只能看到380nm-700nm的可见光,因此,为了重现肉眼看到的图像,需要切断对成像质量形成干扰的700nm以上波长的光。很多相机和摄像机,通过加入红外截止滤光片,达到上述效果。具体详细测量数据请参考:https://www.instrument.com.cn/netshow/sh102446/s910399.htm4.总结现在智能手机更新换代频率加快,各大品牌都在系统,拍照,内存等多种参数方面竞相提升。手机镜头从单摄到如今的双摄,甚至华为新出的三摄,手机成像原件的进步,手机摄影的方便与快捷,都让我们对手机摄影爱不释手。日立高新技术通过独特的技术,开发的固体样品分析专家紫外/可见/近红外分光光度计,能够对相机镜头的光学元件进性准确评估,促进科技产品更加飞速的发展。 日立高新技术公司是日立集团旗下的一家仪器设备子公司。全球雇员超过10000人,在世界上26个国家及地区共有百余处经营网点。企业发展目标是"成为独步全球的高新技术和解决方案提供商",即兼有掌握先进技术水准的开发、设计、制造能力和满足企业不同需求的解决方案提供商身份的综合性高新技术公司。其产品涵盖半导体制造、生命科学、电子零配件、液晶制造及工业电子材料。其中,生命科学领域产品包括电子显微镜、原子力显微镜和分析仪器(色谱、光谱、热分析)等。 参考文献:张帆. 手机摄影艺术的发展与表现[D]. 2016.驱动之家.屠榜DxO Mark之后 华为P30 Pro再获TIPA 2019拍照手机大奖[N].2019
  • 量子导航领域又一突破:原子自旋陀螺仪原理样机研制成功
    全空域、全时域的无缝定位导航是未来定位导航产业的技术制高点。随着量子精密测量技术的快速发展,基于量子精密测量的陀螺及惯性导航系统具有高精度、小体积、低成本等优势,将对无缝定位导航领域提供颠覆性新技术。  “十二五”863计划地球观测与导航技术领域主题项目“基于磁共振的微小型原子自旋陀螺仪关键技术”由北京自动化控制设备研究所承担,项目研究开展一年半取得突破性进展。项目组攻克了核自旋-电子自旋耦合极化与检测等精密量子操控技术,完成了小型化磁共振气室、高效磁屏蔽等元件的精密设计与制造,并研制成功我国首个基于磁共振的原子自旋陀螺仪原理样机。样机零偏稳定性优于2° /h,成为世界上第二个掌握该技术的国家,与美国技术差距从10年缩小到7年。  项目所取得的研究成果为进一步提高基于磁共振的微小型原子自旋陀螺仪的精度与集成度,为支撑我国量子导航领域的发展打下了坚实的技术基础。原子陀螺仪的技术突破使现有应用于高端装备的无缝定位导航系统的体积、质量、功耗、成本等下降约两个数量级,将应用于大众定位导航市场,可在微小体积、低成本条件下实现米级定位精度,提供不依赖卫星的全空域、全时域无缝定位导航新能力。
  • 业界首款基于纳米硅元件的气相色谱问世(图)
    2013年2月14日,APIX(Analytical Pixels Technology)公司宣布推出其第一款专为工业、石化等领域设计开发的商用产品:GCAP™ 气相色谱仪,可用于过程监控、能源分配,安全以及环境控制等。GCAP™ 气相色谱仪  GCAP™ 由APIX公司设计、组装并测试,代表了新一代的气体色谱仪器。在GCAP™ 灵活且多功能的体系结构中安装有小型的纳米硅元件。据悉,这一元件已获得CEA-Leti以及加州理工学院授权,并由CEA-Leti位于格勒诺布尔的先进半导体工厂生产,而整个系统的组装与测试工作则在APIX公司设在格勒诺布尔的工厂完成。  APIX联合创始人兼CTO Pierre Puget博士表示:“GCAP建立在高密度硅柱和传感器的基础上,可允许在多种不同模式中运行,包括常规、多维或并行分析,这使GCAP成为了一款可用于工业应用、研究实验室、先进气体分析和生物医学筛查等领域的理想工具。”  Pierre Puget博士补充到,GCAP的主要功能之一是它可以在多种不同的载气中运行,这得益于系统内部超级灵敏的纳米硅传感器。尤其是GCAP可以过滤空气作为载气,从而代替昂贵且笨重的瓶装气体,可以做到现场操作,实时分析,并显著减少运行成本。  据悉,2013年3月17-21日,APIX将出席在美国费城举办的PITTCON 2013,展位号是441。  APIX公司成立于2011年,总部设在格勒诺布尔,主要生产并销售由CEA-Leti和加州理工学院共同研究开发的气相色谱仪产品。CEA-Leti是法国著名的科研机构,专门从事微电子学和精微技术研究的实验室。

元件原子级涂覆系统相关的方案

元件原子级涂覆系统相关的资料

元件原子级涂覆系统相关的论坛

  • 【资料】液压伺服系统

    【资料】液压伺服系统

    液压伺服系统是使系统的输出量,如位移、速度或力等,能自动地、快速而准确地跟随输入量的变化而变化,与此同时,输出功率被大幅度地放大。液压伺服系统的工作原理可由图1来说明  液压伺服系统以其响应速度快、负载刚度大、控制功率大等独特的优点在工业控制中得到了广泛的应用。  电液伺服系统通过使用电液伺服阀,将小功率的电信号转换为大功率的液压动力,从而实现了一些重型机械设备的伺服控制。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/12/200912151106_190054_1634361_3.jpg[/img]  图所示为一个对管道流量进行连续控制的电液伺服系统。在大口径流体管道1中,阀板2的转角θ变化会产生节流作用而起到调节流量qT的作用。阀板转动由液压缸带动齿轮、齿条来实现。这个系统的输入量是电位器5的给定值xi。对应给定值xi,有一定的电压输给放大器7,放大器将电压信号转换为电流信号加到伺服阀的电磁线圈上,使阀芯相应地产生一定的开口量xv。阀开口xv使液压油进入液压缸上腔,推动液压缸向下移动。液压缸下腔的油液则经伺服阀流回油箱。液压缸的向下移动,使齿轮、齿条带动阀板产生偏转。同时,液压缸活塞杆也带动电位器6的触点下移xp。当xp所对应的电压与xi所对应的电压相等时,两电压之差为零。这时,放大器的输出电流亦为零,伺服阀关闭,液压缸带动的阀板停在相应的qT位置。  液压传动中具有随动作用的液压自动控制系统。在这种系统中,大功率的液压元件(包括液压伺服阀和液压执行元件) 跟随小功率的指令信号元件动作。执行元件所控制的通常是位置、速度等机械量。指令信号元件又称参考信号元件,它发出代表位置、速度或其他量的指令信号。大功率与小功率之比可以达几百万倍以上。液压伺服系统是反馈控制系统,反馈回来代表实际状态的信号与指令信号比较,得到误差信号,如果误差不是零,便进行调节。例如在高射炮自动瞄准系统中,雷达跟踪飞机,并将信号送给指挥仪,指挥仪计算出高射炮管应处的位置,炮管的实际位置与指挥仪算出的指令位置在系统中不断进行比较和调节,直到误差小于许可值时才射击。液压伺服系统通常应包括:实际状态的测量反馈元件;小功率指令信号的传递元件和大功率液压执行元件;期望状态和反馈状态的比较元件;差值信号的放大元件。液压伺服系统分为机械液压伺服系统、电液伺服系统和气液伺服系统。它们的指令信号分别为机械信号、电信号和气压信号。电液伺服系统因电气控制灵活而得到广泛的应用;气液伺服系统用于防爆的环境或容易获得气压信号的场合。液压伺服系统应具有必要的性能:工作稳定;对指令信号反应快;稳态误差小;对干扰不敏感。液压伺服系统是自动控制系统中应用最广泛的一种。在精密加工的定位系统中,液压伺服系统能保证小于0.1微米的加工误差。世界上许多巨大天文望远镜的动作,都是用星光作为伺服系统的指令信号,通过液压伺服系统和执行元件进行跟踪的。  液压伺服系统的组成  液压伺服系统是由液压动力机构和反馈机构组成的闭环控制系统﹐分为机械液压伺服系统和电气液压伺服系统(简称电液伺服系统)两类。其中﹐机械液压伺服系统应用较早﹐主要用於飞机的舵面控制和机床仿型装置上。随著电液伺服阀的出现﹐电液伺服系统在自动化领域占有重要位置。很多大功率快速响应的位置控制和力控制都应用电液伺服系统﹐如飞机﹑导弹的舵机控制系统﹐船舶的舵机系统﹐雷达﹑大炮的随动系统﹐轧钢机械的液压压下系统﹐机械手控制和各种科学试验装置(飞行模拟转台﹑振动试验台)等。   液压伺服系统的优缺点  液压伺服系统与电气伺服系统相比有三个优点﹕  (1)体积小﹐重量轻﹐惯性小﹐可靠性好﹐输出功率大﹔  (2)快速性好﹔  (3)刚度大(即输出位移受外负载影响小)﹐定位准确。  缺点是加工难度高﹐抗污染能力差﹐维护不易﹐成本较高。

  • 原子荧光的辅助系统

    原子荧光的辅助系统如氢化物发生系统等。希望大家论论一下新进展和使用过程中出现的问题。

元件原子级涂覆系统相关的耗材

  • 测压元件测试系统 59887
    可通过这种多用途、易操作的仪器来测量张力、压力或扭矩,可定购额外的测压元件来进行多范围测量。仪器会自动识别测压元件和力/扭矩传感器。大型、背光显示屏可提供加压状况的图形显示,成功/失败发光二极管显示屏可实现快速地测试鉴定。 随机配备:可充电镍氢电池、110伏交流适配器/充电器、和便携盒 精确的“S”型测压元件 一个可用于多功能测力计上的经济型测量设备 这种测压元件为常规需要一个外载荷测量设备的测力应用提供了一个经济的解决方案。坚固的钢结构设计非常经久耐用,这种测压元件通过一个量程粘贴标签、电缆、和一个测力计连接器来实现校准。注意:精确的“S”型测压元件只能与59887-00型测力计相匹配。技术参数:59887-01多功能测力计 精度:±0.1% 满刻度 采样频率:平均模式:5000赫兹;峰值模式:2赫兹、10赫兹、或2000赫兹 负载:量程的150% 输出:RS-232接口,模拟(±4伏直流) 存储:100个读数 显示:图形液晶显示屏,背光 环境温度:50至95华氏度(10至35摄氏度) 供电:可充电镍氢电池或交流适配器(包括) 电池使用时间:20小时 尺寸:3英寸宽 x 8-1/4英寸高 x 1-1/4英寸厚主要特点:带外部压力和张力传感器的高级测力计 多功能测力计具有一个可达5000赫兹的高速取样率,并具有声/光报警器和RS-232接口 增加了可用于WINDOWS?平台的数据绘图软件,可让你的系统增加许多可选功能,包括:自动量程、迹线比较、比例更改、表格打印输出、以及其它功能! 可同时以条状图的形式显示实时和峰值读数
  • 测压元件测试系统 59887
    可通过这种多用途、易操作的仪器来测量张力、压力或扭矩,可定购额外的测压元件来进行多范围测量。仪器会自动识别测压元件和力/扭矩传感器。大型、背光显示屏可提供加压状况的图形显示,成功/失败发光二极管显示屏可实现快速地测试鉴定。 随机配备:可充电镍氢电池、110伏交流适配器/充电器、和便携盒 精确的“S”型测压元件 一个可用于多功能测力计上的经济型测量设备 这种测压元件为常规需要一个外载荷测量设备的测力应用提供了一个经济的解决方案。坚固的钢结构设计非常经久耐用,这种测压元件通过一个量程粘贴标签、电缆、和一个测力计连接器来实现校准。注意:精确的“S”型测压元件只能与59887-00型测力计相匹配。 技术参数:59887-01多功能测力计 精度:±0.1% 满刻度 采样频率:平均模式:5000赫兹;峰值模式:2赫兹、10赫兹、或2000赫兹 负载:量程的150% 输出:RS-232接口,模拟(±4伏直流) 存储:100个读数 显示:图形液晶显示屏,背光 环境温度:50至95华氏度(10至35摄氏度) 供电:可充电镍氢电池或交流适配器(包括) 电池使用时间:20小时 尺寸:3英寸宽 x 8-1/4英寸高 x 1-1/4英寸厚主要特点:带外部压力和张力传感器的高级测力计 多功能测力计具有一个可达5000赫兹的高速取样率,并具有声/光报警器和RS-232接口 增加了可用于WINDOWS?平台的数据绘图软件,可让你的系统增加许多可选功能,包括:自动量程、迹线比较、比例更改、表格打印输出、以及其它功能! 可同时以条状图的形式显示实时和峰值读数
  • OptiPrepTM光学元件抛光系统
    OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光,包括:1) 套圈(Ferrules):陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器(Connectors):MT/MT-RJ,ST,SC/FC(APC)3) 波导(Waveguides)4) 硅V形槽(Silicon V-groove)5) 光学芯片(Optical chip)6) 毛细管/玻璃镜片(Capillary/Glass Lenses)7) 光纤束(Fiber Bundles)8) 带状光纤(Ribbon Fiber)9) 裸光纤(Bare Fiber)双测微计(俯仰和侧滚)设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能,一方面可以实时监测,另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度,可以最大限度地利用整个研磨抛光盘,减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能,既可以处理精密的小样品,也可以处理大样品。特点:1) 可变转速:5-350 RPM,增量5 RPM;2) 触控开关控制所有功能;3) 1/4 HP(190W)电机,具持久减速齿轮箱,提供高扭矩输出;4) 数字计时器和转速表;5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制;6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转;7) 快速更换研磨盘设计,阳极氧化抗磨损和腐蚀;8) 耐腐蚀/冲击表面;9) 碗型冲洗防止碎片堆积;10) 带有调节阀的电子冷却控制装置;11) 前置数字指示器显示实时材料去除量(样品行程);12) 后置数字指示器显示垂直定位(静态),具有调零功能,分辨率1μm;13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘,并可以同时旋转;14) 6倍速样品自动摆动,可调节;15) 8倍速样品自动/半自动旋转;16) 凸轮紧锁系统,无需工具,可以精确定位夹具;17) 尺寸:15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm);18) 重量:95 lb. (43 kg);19) 装运尺寸:33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm);20) 装运重量:125 lb. (57 kg);21) 符合CE标准;22) 美国Allied公司设计制造。产品附件:
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