激光解离镀膜系统

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激光解离镀膜系统相关的厂商

  • 广州新可激光设备有限公司
    创可激光，隶属于广州新可激光设备有限公司，13年品牌深耕，其三轴动态技术在光纤、co2和紫外激光打标雕刻系统中实现了无可匹配的刻印质量。销量超20，000台，专利认证超50个，荣获高新技术企业。创可激光致力于高端3D光纤，高功率二氧化碳以及紫外激光打标机的研发、生产与销售。满足市场对先进打标设备的需求。创可激光总部位于中国广州，国内拥有数十家分公司及办事处。并在日本、德国、美国、韩国等三十多个国家建立了代理机构，销售数量过万，品牌影响辐射全球。创可激光有一支专业的研发团队，研发内容涉及软件设计、机械设计、光路设计等多个方面。协助客户完成各种工艺难题与技术攻关。持续为客户提供全套的激光解决方案。超过十年的专业激光制造经验，追求完美细节，苛求品质第一。现正招募全球代理商，建立互动共赢的合作关系。
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  • 表面处理，真空镀膜
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  • 吉林省一博商贸有限公司
    吉林省一博商贸有限公司是一家集研发、销售、服务为一体的技术型企业，从事激光器、光学平台、位移台、光源、太阳光模拟器、太阳能光谱响应测试系统、光学镀膜产品及光电检测仪器研发，并提供系统的方案设计。激光器系列产品紫外、蓝紫光、蓝光、绿光、黄光、红光到红外各种功率，形成的多种半导体及全固态激光器的连续、脉冲系列产品。光学镀膜产品涵盖紫外、可见及红外滤光片。我公司另有自主研发的半导体激光器综合参数测试仪、激光器光谱测试仪、激光光束分析仪、激光功率计等光电测试仪器。
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激光解离镀膜系统相关的仪器

  • 基质辅助激光解离离子化－飞行时间质谱 400-612-9980
    仪器简介：通过凝胶渗透色谱的分离作用，将复杂的聚合物进行分离。分离的各组分通过自动点靶仪直接自动点在MALDI靶板上，将MALDI-靶板放入质谱仪进行直接分析，得到聚合物的检测结果。
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    厂商： 岛津企业管理（中国）有限公司
    品牌： 岛津/Shimadzu
    型号： AXIMA Performance
    价格： 面议
  • FlashSENS激光闪光光解光谱仪 400-628-5299
    FlashSENS激光闪光光解光谱仪FlashSENS 激光闪光光谱仪是卓立汉光公司开发的用于研究分子激发态行为，特别是反应历程的分析工具。该系统使用的激光闪光光解技术是基于动力学和瞬态光谱的检测，用来研究光化学、光生物学、光物理学体系中通过激光激发诱导产生的单重态、三重态的激发态分子，价键重排后的自由基和电子（质子）转移产生的正、负离子等瞬态中间体，探讨这些瞬态中间体的产生和衰退时间及各种性质和影响因素。FlashSENS 激光闪光光谱仪应用领域涵盖光化学（photochemistry）、光生物学（photobiology）、光物理学（photophysics）等多学科领域，主要应用包括： 分子内、分子间能量转移、电荷转移 电子能级跃迁、振动弛豫 电荷（空穴）转移（注入）时间 多激子效应(MEG)和俄歇复合 激发态吸收 染料敏化太阳能电池电子转移 半导体材料光催化电子转移 非线性光吸收 半导体载流子动力学 双光子或多光子吸收 单线态-三线态电子交换 单碳纳米管的光物理 量子点的能量转移和电子迁移的竞争 配合物同分异构体分析 CdSe/PbS量子点的非线性吸收 富勒烯衍生物太阳能电池性能 金属配位化合物的光物理 …… 激光闪光光解光谱仪系统特点： ■ 一体化的光学调校，系统性能更稳定■ 时间分辨率：7ns （可选：3ns Ultra Fast） ■ 内置超连续白光作为探测光，相比传统脉冲氙灯光源具有更高的探测效率■ 探测光点：5mm ■ 探测光光谱范围：190-2100nm ■ 适合于固体、液体等多种样品形态的样品架和测量光路■ 全自动测量操作，开机即用，操作简便■ 可升级至瞬态光电流、瞬态光电压测试系统 激光闪光光解光谱仪技术规格： SZ900-KM SZ900-SM 测量模式动力学测量模式光谱测量模式光谱范围300-1100nm 200-850nm 灵敏度* 0.05mOD 0.00024OD 泵浦激光单波长Nd:YAG激光器，1064nm，532nm，355nm，266nm 可调谐OPO激光器UV-NIR，210-2400nm 探测光源类型基于LDLS的超连续白光光源模式连续光谱范围190-2100nm 单色仪/光谱仪型号Omni-λ300i 焦距300mm 狭缝0.01-3mm连续可调，自动控制光谱范围330-2400nm（可扩展） 光谱分辨率优于0.1nm@1200g/mm 优于0.6nm@300g/mm 探测器类型标准硅探测器铟镓砷探测器ICCD 光谱范围300-1100nm 900nm~1600nm 180-850nm 暗电流0.5nA0.1nA 带宽45MHz 10MHz门宽- 7ns （可选3ns Ultra Fast）有效像素- 960*256像面尺寸- 25*6.7mm制冷温度- -25°C激光闪光光解光谱仪系统选型表 型号说明SZ900-KM 动力学测量模式，标准硅探测器，系统不包括激光器SZ900-SM 光谱测量模式，ICCD，系统不包括激光器SZ900-KSM 动力学+光谱双测量模式，标准硅探测器、InGaAs任选一种+ICCD，系统不包括激光器
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    厂商： 北京卓立汉光仪器有限公司
    品牌： 卓立汉光/ZOLIX
    型号： FlashSENS
    价格： 60万元
  • 基质辅助激光解析电离飞行时间质谱仪 400-860-5877
    JMS-S3000基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪，采用日本电子独自研发的SpiralTOF模式离子光学系统，它创新的技术在学术界已广为人知，其超高的质量分辨率和超高的质量准确度，遥遥领先于传统的装置。最为重要的是这种高分辨率的获得，并不以牺牲灵敏度为代价。本装置领军质谱分析最新技术，特别是在合成高分子、材料化学、生物高分子领域满足了日新月异的科技发展和研究需求。质谱工作模式：标准模式 TOF线性模式 TOF（选配件）串联模式TOF/TOF （选配件）
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    厂商： 日本电子株式会社(JEOL)
    品牌： 未知
    型号： JMS-S3000 SpiralTOF
    价格： 60万元
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激光解离镀膜系统相关的资讯

  • ​ 王方军、田瑞军等用高能紫外激光解离质谱实现蛋白质识别机制解析
    近日，中科院大连化学物理研究所研究员王方军团队与南方科技大学教授田瑞军、副教授李鹏飞等人合作，利用193nm紫外激光解离—质谱装置，实现了免疫共受体CD28磷酸化胞质端与激酶PKCθ的C2结构域识别结合机制解析。相关研究成果发表在Cell Chemical Biology上。与常规毫秒级碰撞诱导质谱解离（CID）相比，5ns单脉冲193nm紫外激光解离（UVPD）可直接激发非变性蛋白质骨架共价键至高能态引发高效解离，激发解离速率提升6个数量级，位点解离效率和碎片离子产率与其局部非共价作用和微观结构密切相关，通过碎片离子和解离产率分析可同时获得蛋白质序列和结构信息。目前，193nm紫外激光解离质谱尚未商品化设备，仅在少数实验室有自主搭建设备。免疫共受体CD28是癌症免疫治疗的重要靶点，其胞质端酪氨酸磷酸化激活引起的下游蛋白识别结合机制尚不清楚。本工作中，研究人员采用光亲和质谱法发现CD28磷酸化胞质端与激酶PKCθ的C2结构域特异性结合；利用193nm紫外激光解离质谱对C2结合前后进行了全序列覆盖位点光解离效率的差异分析，发现了光解离效率显著下降的三个关键结合区域和核心识别位点K49、H63、R68；证明了高能紫外激光解离策略在蛋白质动态识别结构变化分析中的高灵敏度和单位点分辨高精度优势。团队通过交叉学科联合攻关，在大连相干光源搭建了193nm紫外激光解离-高分辨质谱装置，在前期工作中通过高能光子对多肽分子的高效激发解离实现了多磷酸化肽修饰位点精确定位和蛋白质组学规模化序列鉴定。相关论文信息：https://doi.org/10.1016/j.chembiol.2022.01.005
    时间： 2022-07-15
    作者： ONE
  • 王方军：高能紫外激光解离质谱实现蛋白质识别机制解析
    近日，大连化物所生物分子结构表征新方法研究组（1822组）王方军研究员团队与南方科技大学田瑞军教授、李鹏飞副教授等人合作，利用193nm紫外激光解离—质谱装置，实现了免疫共受体CD28磷酸化胞质端与激酶PKCθ的C2结构域识别结合机制解析。 与常规毫秒级碰撞诱导质谱解离（CID）相比，5ns单脉冲193nm紫外激光解离（UVPD）可直接激发非变性蛋白质骨架共价键至高能态引发高效解离，激发解离速率提升6个数量级，位点解离效率和碎片离子产率与其局部非共价作用和微观结构密切相关，通过碎片离子和解离产率分析可同时获得蛋白质序列和结构信息。目前，193nm紫外激光解离质谱尚未商品化设备，仅在少数实验室有自主搭建设备。　　免疫共受体CD28是癌症免疫治疗的重要靶点，其胞质端酪氨酸磷酸化激活引起的下游蛋白识别结合机制尚不清楚。本工作中，研究人员采用光亲和质谱法发现CD28磷酸化胞质端与激酶PKCθ的C2结构域特异性结合；利用193nm紫外激光解离质谱对C2结合前后进行了全序列覆盖位点光解离效率的差异分析，发现了光解离效率显著下降的三个关键结合区域和核心识别位点K49、H63、R68；证明了高能紫外激光解离策略在蛋白质动态识别结构变化分析中的高灵敏度和单位点分辨高精度优势。　　大连化物所王方军和肖春雷研究员通过交叉学科联合攻关，在大连相干光源搭建了193nm紫外激光解离-高分辨质谱装置，在前期工作中通过高能光子对多肽分子的高效激发解离实现了多磷酸化肽修饰位点精确定位（Chin. Chem. Lett.，2018）和蛋白质组学规模化序列鉴定（Anal. Chim. Acta.，2021）。　　相关研究结果以“Motif-dependent Immune Co-receptor Interactome Profiling by Photoaffinity Chemical Proteomics”为题，于近日发表于Cell Chemical Biology上。
    时间： 2022-07-11
    作者： 情绪波动
  • 美亚光电成功开发红外激光解离光谱-质谱联用仪样机
    p　　近日，安徽合肥美亚光电技术股份有限公司(以下简称“美亚光电”)发布公告称公司收到国家科学技术部下发的《关于通报国家重大科学仪器设备开发专项部分项目综合验收结论的函》【国科资函201952号】——由美亚光电牵头实施，联合中国科学技术大学、复旦大学、同济大学、东华理工大学、安徽大学、第二军医大学附属东方肝胆外科医院等机构的国家重大科学仪器开发专项“红外激光解离光谱-质谱联用仪的研制与产业化”项目顺利通过综合验收。/pp　　该项目突破了多种高效率离子传输、高分辨率离子选择等核心技术，strong研制了多种离子源、射频电源等关键部件，开发了两种不同原理的红外激光解离光谱-质谱联用仪产业化样机/strong，并可应用于大气气溶胶污染物组份分析、生物能源的燃烧过程中间体诊断、肝细胞癌分子标志物筛选和早期诊断、典型持久性有机污染物的甄别分析、团簇化学等领域。/pp　　美亚光电技术股份有限公司专注于光电识别核心技术与产品的研发。公司产品包括人工智能色选机、X射线检测设备和高端医疗设备等，广泛应用于全球农产品加工、工业检测及医疗卫生等领域，市场占有率多年保持世界领先。/pp　　此次通过验收的项目于2012年被列为国家重大科学仪器设备开发专项项目，项目起止时间为2012年10月至2017年9月。项目总经费为9082万元，其中国家重大科学仪器设备开发专项资金4541万元，美亚光电将以自有资金投入经费4541万元。项目目标为攻克离子红外光谱结构分析、高性能离子质量选择和富集等关键技术，strong研制出具有自主知识产权的集红外光谱、质谱分析等功能于一体的红外激光解离光谱-质谱联用分析仪器/strong，并成功应用于大气气溶胶污染物组份分析、肝细胞癌分子标志物筛选和早期诊断。同时项目验收后3年内，形成年产10台的生产能力等。/p
    时间： 2019-10-16
    作者： 常用仪器-非坤
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  • 实验分析仪器--基质辅助激光解吸电离源结构原理及特点

    [b]1.基本原理 [/b]基质辅助激光解吸电离源（matrix-assisted laser desorption ionization ，MALDI）需要有基体参与电离过程，其基体一般都是在激光的作用下具有很强的电子吸收能力的有机酸。基体中的样品一般需要高度稀释，以免样品分子之间相互作用。 MALDI可以非常高效地提供生物大分子的分子离子（通常为[M＋H][sup]+[/sup]或[M＋Na][sup]+[/sup]。一般而言，有机酸（即基体）的酸性越强，离子化过程中产生的碎片就越多。值得注意的是，样品-基体的配合物必须形成晶体，如果形成的晶体不好，则意味着样品和基体之间的作用还不充分，难以获得理想的灵敏度和谱图。激发用的激光一般波长均为308nm，但是也可以用二氧化碳的IR激光器来进行激发。在激光的作用下，基体的分子被很快蒸发，样品分子和基体分子之间的作用力被很快削弱，使得样品分子也解离出来，形成离子而进入[url=https://insevent.instrument.com.cn/t/Mp][color=#3333ff]气相[/color][/url]，并且具有较大的动能。其工作原理见图1。[b]2.技术分类[/b]基质辅助激光解吸电离源属于光子激发的表面解吸离子源，其能量由激光的光子提供。[b]3.技术特点[/b]基质辅助激光解吸电离源技术具有非常高的灵敏度，需要的样品量一般为pmol～fmol之间，能够用于分子量大于10000Da的生物活性物质分析，还能够很方便地与TOF联用。在成像系统的辅助下，该离子源可以实现样品表面的分子成像。 [img=image.png,500,243]https://i3.antpedia.com/attachments/att/image/20220126/1643167183766409.png[/img]图1 基质辅助激光解吸电离源原理示意图

  • 【讨论】岛津这台质谱仪到底“高端”在哪？

    【讨论】岛津这台质谱仪到底“高端”在哪？

    近期，在食品药品检定研究院药品检验装备购置项目中，岛津公司的基质辅助激光解离离子化－串联飞行时间质谱仪成功中标。 http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2011/02/201102151650_277854_2197752_3.jpg上图是岛津公司目前最先进的基质辅助激光解离离子化－串联飞行时间质谱仪AXIMA Performance这台机器真的有那么牛吗？是不是也是在卖概念？岛津的这款质谱仪到底高端在哪？在哪些方面做了改进？有哪些应用是目前普通的质谱仪不能做的？……欢迎大家踊跃讨论~

  • 北京同洲维普科技有限公司刚刚发布了 行业经理-半导体、镀膜、等离子、划片机职位,坐标,敢不敢来试试？

    [b]职位名称：[/b] 行业经理-半导体、镀膜、等离子、划片机[b]职位描述/要求：[/b]职位描述：1. 开拓新市场,发展新客户,增加产品销售范围；2. 负责代理商发展与管理；3. 维护及增进已有客户关系；4. 负责销售区域内销售活动的策划和执行，完成销售指标。5.熟悉半导体材料制备领域镀膜、等离子、划片机行业[b]公司介绍：[/b] 北京同洲维普科技有限公司位于北京市昌平区宏福创业园，是一家集制冷、气动技术于一体的技术型企业。公司致力于将产品技术创新应用于环保、科研、医疗、工业生产线等领域中，为推动产业发展而努力。　　公司科研队伍由国内知名技术专家带队，通过不断创新，攻克多项技术难关，开发了多项跨行业技术应用系统。　　公司的主要产品及研究项目有：实验室冷水机、低温循环机、激光冷水机、工业冷水机、双温冷水机、金属...[url=https://www.instrument.com.cn/job/user/job/position/77333]查看全部[/url]

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激光解离镀膜系统相关的耗材

  • 无镀膜激光窗口片基片
    无镀膜激光窗口片基片TECHSPEC® Uncoated Laser Window Substrates具有 10-5 的表面质量及λ/10表面平整度采用熔融石英或 N-BK7 材料制成标准英制尺寸适合现成替代解决方案提供激光谱线镀膜版本通用规格涂层:UncoatedTECHSPEC® 无镀膜激光窗口片基片是设计用于高要求激光应用的激光质量窗口片基片。这些激光窗口片基片采用熔融石英制成，适合需要良好热稳定性的高功率激光应用；或者采用 N-BK7 制成，适合更注重成本的激光应用。熔融石英和 N-BK7 激光窗口片基片都具有 λ/10 表面平整度和 10-5 表面质量的精度级别，确保最大程度地减少对透射光束的干扰。TECHSPEC® 无镀膜激光窗口片基片提供直径 12.7 至 50.8mm 的标准英制尺寸可供选择，方便现成替换为现有激光系统。定制尺寸和镀膜可供选择，请联系我们进行定制咨询。产品信息基底Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码Fused Silica (Corning 7980)12.703.18#37-693N-BK712.706.35#38-055Fused Silica (Corning 7980)12.706.35#37-688N-BK719.106.35#38-056Fused Silica (Corning 7980)19.106.35#38-911Fused Silica (Corning 7980)25.403.18#37-694N-BK725.406.35#38-057Fused Silica (Corning 7980)25.406.35#37-689N-BK738.106.35#11-450Fused Silica (Corning 7980)38.106.35#38-912N-BK738.109.53#38-058Fused Silica (Corning 7980)50.002.00#37-666Fused Silica (Corning 7980)50.806.35#37-690N-BK750.809.53#38-059Fused Silica (Corning 7980)50.809.53#38-060Fused Silica (Corning 7980)55.001.50#37-667Fused Silica (Corning 7980)134.003.00#37-668
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
  • 超快增强型银镀膜激光反射镜
    超快增强型银镀膜激光反射镜?600 - 1000nm 之间的反射率大于 99%?群延迟色散低 (0 ±20fs2)?非常适用于 Ti:Sapphire 激光?提供标准英制尺寸通用规格表面质量:10-5平行度（弧分）:有效孔径 (%):90后表面:Commercial Polish涂层规格:Ravg99% @ 600 - 1000nm, 0°Rs99% @ 540 - 1000nm, 45°Rp98.5% @ 730 - 870nm, 45°GDD Specification:0 ±20fs2@ 600 - 1050nm波长范围 (nm):600 - 1050表面平整度:λ/10镀膜类型:MetalDamage Threshold, Pulsed:0.3 J/cm2@ 800nm, 48fs, 1 pulse (typical)0.16 J/cm2@ 800nm, 48fs, 100Hz, 1000 pulses (typical)涂层:Ultrafast-Enhanced Silve基底:Fused Silica产品介绍TECHSPEC® 超快增强型银镀膜激光反射镜具有采用介质镀膜增强的银镀膜，能在 600 - 1000nm 范围内提供更高的反射率。这些反射镜在其很宽的波长范围内具有很低的内在群延迟色散 (GDD)，因此非常适用于 Ti:sapphire 激光的基波波长。TECHSPEC 超快增强型银镀膜激光反射镜采用标准英制尺寸，可轻松集成到光学系统中。如需在其他超快激光波长范围内具有很低 GDD 的介质镀膜激光反射镜，请参阅我们的低 GDD 超快反射镜.请注意:若您的应用需要的 TECHSPEC 超快增强型银镀膜激光反射镜具有其他尺寸、角度或波长范围，请联系我们进行定制。技术数据产品信息Dia. (mm)厚度 (mm)产品编码12.706.35#13-05925.406.35#13-06050.809.53#13-061
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
  • IBS镀膜激光反射镜
    IBS镀膜激光反射镜IBS 反射镜镀膜具有低损耗、高反射的特点在设计波长下可保证的激光损伤阈值高达 15 J/cm2@1064nm超精密磨光的基片可提供百万分之一级别的水平散射性能Additional Sizes Coming Soon通用规格基底:Fused SilicaTECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜采用离子束溅射 (IBS) 技术镀膜。这些激光反射镜专为要求极其严苛的激光应用设计，这些应用要求在其激光线波长下获得最高的反射量。离子束溅射镀膜使这些镜面的表面粗糙度低于其他镀膜技术，从而减少散射。密集的镀膜使 TECHSPEC® IBS 镀膜激光反射镜具有较高的环境稳定性，性能受温度、湿度等环境因素影响极小。该反射镜专为常用的 Nd:YAG 波长设计，并经过优化，可在其设计波长下提供高损伤阈值。如果您的应用需要定制尺寸的 IBS 激光反射镜或定制的 IBS 反射镜镀膜，请与我们联系.产品信息DWL (nm)Dia. (mm)厚度 (mm)AOI (°)产品编码35525.406.3545#34-83853225.406.3545#34-842106425.406.3545#34-84526612.706.3545#33-06635525.405.0045#89-45053225.405.0045#89-451106425.405.000#89-452106425.405.0045#89-453
    供应商： 江阴韵翔光电技术有限公司
    品牌： 爱特蒙特
    价格： 面议
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