激光解离镀膜系统

仪器简介：通过凝胶渗透色谱的分离作用，将复杂的聚合物进行分离。分离的各组分通过自动点靶仪直接自动点在MALDI靶板上，将MALDI-靶板放入质谱仪进行直接分析，得到聚合物的检测结果。

FlashSENS激光闪光光解光谱仪FlashSENS 激光闪光光谱仪是卓立汉光公司开发的用于研究分子激发态行为，特别是反应历程的分析工具。该系统使用的激光闪光光解技术是基于动力学和瞬态光谱的检测，用来研究光化学、光生物学、光物理学体系中通过激光激发诱导产生的单重态、三重态的激发态分子，价键重排后的自由基和电子（质子）转移产生的正、负离子等瞬态中间体，探讨这些瞬态中间体的产生和衰退时间及各种性质和影响因素。FlashSENS 激光闪光光谱仪应用领域涵盖光化学（photochemistry）、光生物学（photobiology）、光物理学（photophysics）等多学科领域，主要应用包括： 分子内、分子间能量转移、电荷转移 电子能级跃迁、振动弛豫 电荷（空穴）转移（注入）时间 多激子效应(MEG)和俄歇复合 激发态吸收 染料敏化太阳能电池电子转移 半导体材料光催化电子转移 非线性光吸收 半导体载流子动力学 双光子或多光子吸收 单线态-三线态电子交换 单碳纳米管的光物理 量子点的能量转移和电子迁移的竞争 配合物同分异构体分析 CdSe/PbS量子点的非线性吸收 富勒烯衍生物太阳能电池性能 金属配位化合物的光物理 …… 激光闪光光解光谱仪系统特点： ■ 一体化的光学调校，系统性能更稳定■ 时间分辨率：7ns （可选：3ns Ultra Fast） ■ 内置超连续白光作为探测光，相比传统脉冲氙灯光源具有更高的探测效率■ 探测光点：5mm ■ 探测光光谱范围：190-2100nm ■ 适合于固体、液体等多种样品形态的样品架和测量光路■ 全自动测量操作，开机即用，操作简便■ 可升级至瞬态光电流、瞬态光电压测试系统 激光闪光光解光谱仪技术规格： SZ900-KM SZ900-SM 测量模式动力学测量模式光谱测量模式光谱范围300-1100nm 200-850nm 灵敏度* 0.05mOD 0.00024OD 泵浦激光单波长Nd:YAG激光器，1064nm，532nm，355nm，266nm 可调谐OPO激光器UV-NIR，210-2400nm 探测光源类型基于LDLS的超连续白光光源模式连续光谱范围190-2100nm 单色仪/光谱仪型号Omni-λ300i 焦距300mm 狭缝0.01-3mm连续可调，自动控制光谱范围330-2400nm（可扩展） 光谱分辨率优于0.1nm@1200g/mm 优于0.6nm@300g/mm 探测器类型标准硅探测器铟镓砷探测器ICCD 光谱范围300-1100nm 900nm~1600nm 180-850nm 暗电流0.5nA0.1nA 带宽45MHz 10MHz门宽- 7ns （可选3ns Ultra Fast）有效像素- 960*256像面尺寸- 25*6.7mm制冷温度- -25°C激光闪光光解光谱仪系统选型表 型号说明SZ900-KM 动力学测量模式，标准硅探测器，系统不包括激光器SZ900-SM 光谱测量模式，ICCD，系统不包括激光器SZ900-KSM 动力学+光谱双测量模式，标准硅探测器、InGaAs任选一种+ICCD，系统不包括激光器

JMS-S3000基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪，采用日本电子独自研发的SpiralTOF模式离子光学系统，它创新的技术在学术界已广为人知，其超高的质量分辨率和超高的质量准确度，遥遥领先于传统的装置。最为重要的是这种高分辨率的获得，并不以牺牲灵敏度为代价。本装置领军质谱分析最新技术，特别是在合成高分子、材料化学、生物高分子领域满足了日新月异的科技发展和研究需求。质谱工作模式：标准模式 TOF线性模式 TOF（选配件）串联模式TOF/TOF （选配件）

纳秒到秒级时域范围内的瞬态吸收光谱LP980是一款经典的先进的激光闪光光解光谱仪,赋予激光诱导的拉曼光谱（LIR）与击穿光谱（LIBS）新功能特点双样品舱-泵浦探测技术检测化学与生物的瞬态物种，激光诱导检测荧光与磷光寿命(低至ns)检测限- OD 0.002(快检测选项)， OD 0.0005(慢检测模式)自动滤光片塔轮用于消除二级衍射峰新的150W氙灯光源，100A脉冲电流-高光强，高SNR，为长寿测试提供更稳定的背景信号内部激光光束调整-防止外部光束干扰强大的综合软件包用于计算机全面控制仪器的所有组成与测试丰富的测试附件

品牌： GATAN 名称型号：精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商： 美国GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍： 产品功能介绍Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™ ) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。产品主要技术特点： 精密刻蚀镀膜仪 (PECS™ ) II，采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光，去除损失层，从而得到高质量的样品，用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS，EBSD，CL，EBIC或者其他分析，另外将这两支离子枪对准靶材溅射，可用来对样品做导电金属膜沉积处理，以防止样品在电镜中发生荷电效应。这款仪器被设计为不破坏真空，不将样品新鲜表面暴露在大气中，即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中，离子枪的角度可随时进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整， 用于优化离子枪的工作电流。PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品，避免离子束热损伤，消除可能的假象。集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换（ 1min），这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。 图片说明：（A）PECSII 抛光的样品表面的二次电子像，显示出高度孪晶的晶粒（B）PECSII 抛光后的锆合金的菊池花样（C）EBSD欧拉角分布图（D）IPFZ面分而战。照片由牛津大学材料学院Angus Wilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。数据是在配有Bruker Quantax EBSD系统的Zeiss Merlin Compact扫描电镜上采集。产品主要技术参数： 离子源*离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪，高性能无耗材*抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节离子束能量100 eV 到 8.0 keV离子束流密度10 mA/cm2 峰值离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节样品台样品大小：最大直径 32mm， 最大高度 15mm样品装载： 对于截面样品抛光采用 Ilion™ II 专利的样品挡板，二次再加工位置精确。样品抛光及镀膜功能：兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能，靶材数：2个靶材切换：无需破坏真空，可直接切换样品旋转：1 到 6 rpm 可调束流调制：角度可调的单束调制或双束调制真空系统干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵压力5 x 10-6 torr 基本压力8 x 10-5 torr 工作压力真空规冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵*样品空气锁Whisperlok专利技术，无需破坏主样品室真空即可装卸样品，样品交换时间 1 min用户界面*10 英寸触摸屏操作简单，且能够完全控制所有参数和配方式操作*操作界面语言：提供中文、英文等多种选择 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料

Orbitrap IQ-X Tribrid 质谱仪亮点自动化且易用的软件可简化设置和数据采集仪器控制软件采用预构建模板和随时可用的实验参数，旨在帮助您快速分析复杂样本。利用专用的 Auto-Ready 离子源硬件进行自动化仪器校准，确保仪器在您进行设置时就已准备就绪。智能采集可收集到更多有价值的数据智能实时库检索和 AcquireX 数据采集工具可实现MSn 数据采集的自动化，提升了分析效率，有助于您获得较多的带有可辨识片段的化合物，并进行更深入的分析。数据分析工具可进行快速、灵活和深入分析一套全面的、集成式数据采集和分析工具，使您能够快速地根据复杂样本生成信息丰富的、可靠的 MSn 数据。用于结构解析的液相色谱-质谱联用仪（LC-MS）配套软件工具解析 MSn 数据LC-MS 软件工具包括 MSn 质谱树、新型谱预测技术、计算机模拟解裂建模和前体离子指纹显示，可助您鉴定已知物质，并解析未知物的结构。硬件与数据采集技术仪器的硬件设计以及高效率、全面的数据采集工作流程，使 Orbitrap IQ-X Tribrid 质谱仪成为进行小分子鉴定、表征和定量化的shou选方案。仪器硬件设计与智能数据采集成熟的 Tribrid 架构将四极杆、线性离子阱和 Thermo Scientific Orbitrap HRAM 技术相结合，可获取每一个样本中的丰富的 MSn 数据。多项裂解技术，即碰撞诱导解离（CID）、高能碰撞解离（HCD）和可选紫外光解离（UVPD），可用于 MSn 的任何阶段，后续质量分析可在离子阱中进行，也可在超高分辨率 Orbitrap 质量分析仪中进行。Orbitrap IQ-X Tribrid 质谱仪之所以能够获得可靠的结果，要得益于yi流的技术。Auto-Ready 离子源通过专门的硬件规范校准和维护，确保性能在整个生命周期中都能表现出较好的一致性。Thermo Scientific EASY-IC 离子源利用第二离子源生成特定的校准物离子，将仪器的质量准确度实时调整到小于 1 ppm，对扫描到扫描变化和卓越的质量准确度进行校正。先进的四极杆技术包括分段四极滤质器，它可以在zui低0.4 m/z 的较窄隔离宽度下实现较高的传输，提高了灵敏度和选择度。在 m/z 200 下，超高场 Orbitrap 分析仪zui高可实现 500000 的分辨率，可区分靶标离子和干扰离子，对于精细同位素结构，可选分辨力zui高可达 1000000（1M）分辨率。双压线性离子阱可提供zui高 45Hz 的 MSn 速率，并对 CID、HCD 和可选 UVPD 这三种互补性的解裂类型进行灵敏的质量分析。

仪器简介：通过凝胶渗透色谱的分离作用，将复杂的聚合物进行分离。分离的各组分通过自动点靶仪直接自动点在MALDI靶板上，将MALDI-靶板放入质谱仪进行直接分析，得到聚合物的检测结果。基质辅助激光解离离子化－飞行时间质谱信息由岛津企业管理（中国）有限公司/岛津（香港）有限公司为您提供，如您想了解更多关于基质辅助激光解离离子化－飞行时间质谱报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

瞬态吸收技术主要用于测量光化学反应的过渡态；由于光化学的反应速度很快通常是纳秒（10-9 -10-6），短时间脉冲激光是理想的泵浦光，因此早起的瞬态吸收技术也被称为“激光闪光光解”。CEL-TAS2000瞬态吸收光谱(Transient absorption spectrum) 测试系统。在激光泵浦作用下，物质产生中间态的物种，通过对瞬态吸收光谱的探测可以得到中间态物种及浓度信息。瞬态吸收作为化学、新材料、生物领域必要的测试工具，探测灵敏度往往是科学探索中最重要的制约因素之一。瞬态吸收光谱测试系统采用新型的激光等离子体光源作为探测光，采用优化设计的低噪声探测器以及12-16bit的高动态范围示波器，将瞬态吸收的灵敏度（检测限）提升至0.1mOD以上，即便是在1000-1700nm近红外波段，也可轻松达到0.1mOD。激光闪光光解(Laser flash photolysis)是用来观测分子受光激发后，由基态S0跃迁到激发态Sn过程中发生的一系列变化和反应。它主要由激发光源、检测光源、信号检测和数据处理系统组成，通过利用一定强度的激发光源入射到所研究的体系中，结合时间分辨吸收和发射瞬态光谱及相应的动力学衰减曲线等方法来研究反应过程中激发单重态、激发三重态、自由基和正、负离子等瞬态反应中间体的一种有效手段。主要用来测量液体、固体、半导体、催化剂的瞬态吸收光谱的动力学分析及时间分辨的吸收光谱，包括以下几个方面：①光敏化反应研究，探讨激发态物种的能量转移、电子转移和质子转移等；②光解离机制研究，探讨解离中间体的反应动力学过程，吸收光谱参数的表征等；③光物理过程研究，解析物质分子被激发后衰变过程中发射光谱的特征和相关动力学参数表征；④光致氧化反应研究，通过光诱导产生氧化性自由基与目标物反应。产品优势u 等离子体超连续光源LDLSu 全反射光路u 四光栅，高杂散光抑制比，高光谱分辨率u 自主研发的高灵敏度探测器，超低噪声供电电源u 透射式，反射式，原位测试，低温样品测试环境u 高测试灵敏度，OD可达到5*10-5u 纳秒到秒级的时间尺度的优化测量u 全自动一键式测试瞬态吸收光谱测试系统的特点：1. 200-1700nm全波段范围内测试灵敏度均可达到0.1mOD以上；2. 针对损伤阈值低的样品，易光学漂白的样品、光电功能薄膜等材料优化设计；3. 内置电动滤光片轮，根据测试波段进行自动滤光，有效保护样品且降低系统杂散光干扰；4. 探测光采用激光等离子体白光光源；百微米尺寸点光源，更高收集和聚焦效率，更高的能量密度；极高的空间稳定性以及长达1万小时的寿命；5. 不仅局限于常规样品室。优质的探测光性能，允许进行更多实验环境的光路定制。如：显微镜微区光谱、低温样品环境、强磁场样品环境等；6. 四光栅光谱仪，更易拓展且保证系统效率；7. 针对瞬态吸收自主研发的低噪声探测器；无需对数据平均降燥亦无需牺牲时间分辨率即可得到0.1mOD的测试灵敏度；8. 最高16bit数据位可调示波器，超高的电压分辨率精度位系统灵敏度提供有力保障。 技术参数项目参数测试波长范围350nm-1700nm（瞬态吸收专用高动态范围Si探测器；波长探测范围：350-1000nm；[选配：InGaAs探测器；波长探测范围：900-1700nm]）时间分辨率优于5ns探测灵敏度优于0.1mOD光谱仪焦距长度：350mm焦距 ；光栅：3光栅自动切换光谱分辨率：0.04nm ；电动入口/出口狭缝及CCD出口；原装整机进口光谱探测器带有低噪声放大器的Si以及InGaAs探测器（单点模式）数据采集12bit/16bit高分辨率数字示波器探测光激光诱导白光光源190-2100nm；输出光斑尺寸100*100μm；使用寿命1万小时 ；光斑空间稳定性：1μm（光斑中心）；能量波动：0.1% ；能量衰减（1000小时）：1%样品室样品类型：澄清低散射稳定液体或固体薄膜／晶体（可测量带有荧光的样品） 样品架：液体/固体 标配常规样品室，根据要求定制的样品，支持低温设备泵浦光OPO激光器（原装整机进口）输出波长范围：210-2400nm；波长调节：计算机控制 ； 峰值输出能量：大于20mj重复频率：20Hz选配（1）近红外探测器NIR 探测器：瞬态吸收专用高动态范围InGaAs探测器；波长探测范围：900-1700nm（2）低温恒温器： DN2 77k-300k牛津液氮低温恒温器及支架

美国SVT公司超高真空解理机SVT公司的样品解理部件可以将15mm（其他尺寸可选）的方形样品解理成15个1mm×15mm的Bar条。所有解理出的bar条被收集到样品托，堆叠在一起进行下一步批量加工。独特设计的解理工具避免了器件被破坏以及样品互相黏在一起的可能性。此解理工具可完全适用于UHV环境。解理机可以增加钝化层沉积模块。解理后堆叠在一起的Bar条直接进入钝化室，不用暴露大气。 规格在线bar条解理加工15mm×15mm 样品（10mm-32mm可选）加工成15mm×1mm 样品（1mm-5mm宽度可选）8' ' 法兰接口可烘烤至180oC，（200oC可选）样品可以两种方向加工UHV环境兼容Cassette装取

自从1993年起SURFACE公司就从事脉冲激光沉积镀膜系统（以下简称PLD）的研发和制造工作，在这期间SURFACE公司不但向市场提供了标准的PLD系统，而且也提供专门为客户订制的PLD系统。经过了这么多年的发展，SURFACE公司开发出许多能够满足客户需求的产品和技术。以下就是由SURFACE公司独家提供的这些产品和技术的简要介绍： 一． 基本资料 1.、SURFACE基底运载系统 对机械手来说，热均匀和热隔离的有效性是十分重要的。这其中，精确的热电偶是关键的质量因素。 （图上的文字） SURFACE常规电阻1英寸基底运载器 嵌入式Omicron原子力基底夹 热电偶直接嵌入基底运载系统，30mm的基底中间区域 基底和银酱一起安装在激光切边运载器上。运载系统可转换并直接嵌入热电偶（请见另一页）这保证绝大多数的温度测量。 2、靶切换系统 超高真空技术需要反应釜通过一个负载锁的腔体进行相互作用。从一开始，SURFACE就意识到这一点，并设计了一个靶转盘来实现这一需求。 多层盖板避免了强热的基底转移到靶材。所有靶材是受保护，以防止交叉污染。盖板能够非常容易地被更换，无需工具。靶材将通过磁场操纵或位于中央转移腔的内部转移操纵手被转移。该耦合和靶材的精确检索是自动完成的。靶转盘和切换动力保证了均质烧蚀过程。 3、模块化的系统概念 SURFACE公司多年来一直从事于研发超高真空材料科学系统。在大多数情况下，一个系统的工作负载起始于一个单一的过程控制，往往过了一段时间以后，客户的需求会增多。为了通过附加的过程控制提升整套设备的功能，SURFACE公司认识到需要用完整的模块化概念来解决这个问题。 从向市场提供单一的腔体加上负载锁，一直到提供更多的扩展，而不需要冒任何将来转换而产生的风险。 可以方便客户的细节： 1、 转换过程有照相机支持 从开始我们的束工具生产，我们就决心让使用设备变得更加简便。最早我们使用了一个独立的监视器，连接一台独立的BW照相机。为了实现自动化，增加了第二个TTL监视器来观测实时的彩色照片和相关的其他过程数据。尤其是当我们的激光加热系统应用以后，另外一台显示器对显示实际得图表和数据非常有用。毫无疑问，所有的照片都能够被实时地存储在过程控制系统的硬盘驱动器上。 2、 整套系统的紧凑安装 实验室里的空间是昂贵的，所以任何空间都必须被非常有效地使用。SURFACE公司从一开始就设计将激光放置在控制箱的顶部，并可将其他的激光气舱加入这一过程。 将气舱整合到这个配置里面将使安装变得非常容易和迅速。 这种节约成本的设计克服了PLD安装之前昂贵的本地安装&mdash &mdash 所有项目都被包括在SURFACE的交货中。 气舱通过一个大的方便的管子与客户端的排气设备相连接。 3、 SURFACE公司的交货与交钥匙工程 这方面包括从SURFACE公司将系统直接运来（这些设备的生产基地都是在西欧及周边地区）。运输到客户的卸载地点是关键。但SURFACE公司帮助，甚至客户实验室的建设。客户只需要提供当地的交通和吊车来将货物运送到设备使用地。所有的运输路线在采购决定之前都会被考察到。 4、 SURFACE公司支持S3处理软件。 S3处理软件提供一个全新的立体支持：一键式操作，客户可以直接与SURFACE的技术支持团队进行沟通。软件使用中的问题和操作中的问题经常会发生，通过完全的远程操控，技术支持人员可以为客户提供设备使用各个阶段的帮助。这将防止一些不必要的困难的发生，并为客户提供快捷的响应。这个支持工具在SURFACE系统中是免费的，客户只需提供正确的网络链接。

Orbitrap Fusion Lumos Tribrid MS 的特点： 新型高灵敏度 API 接口将高容量离子转移管和电动离子漏斗结合，旨在提高离子通量，降低检测限先进的主动离子束传输组件可防止中性粒子和高速离子簇进入分离离子的四极杆中先进的四极杆技术结合高灵敏度和离子传输效率，使选中离子从分离窗口中心穿过先进的真空技术提高了向 Orbitrap 分析仪传输高分子量离子的速度全新的 ETD HD—高动态范围 ETD 显著提升了碎片离子覆盖范围高级峰值测定 (APD) - 一种用于改进数据依赖实验中母离子测定的新算法，大幅增加了独特肽段的识别数量和实验通量Tribrid 结构包括四极杆滤质器、线性离子阱以及 Orbitrap 质量分析器，用于尽可能提高由各项仪器操作高度并行化导致的占空比高达 500,000 FWHM 的超高分辨能力，m/z 为 200 时同位素保真度高达 240,000 FWHMOrbitrap 和线性离子阱 MSn 分析的采集速率高达 20 Hz应用智能 ADAPT&trade （所有动态可用并行时间）技术可实现完全并行化 MS 和 MSn 分析MS 和 MSn 实验的同步前体选择 (SPS) 可以显著提高鉴定的多肽和蛋白数量，当使用同量异序质量标签时，还能提高定量分析准确性片段化灵活性 — CID、HCD 和可选 ETD 和 EThcD 在 MSn 的任何阶段均可用，与 Orbitrap 或线性离子阱检测器检测一起，可以对代谢物、聚糖和其他小分子进行详细的结构确定通用方法适用于大部分肽段鉴定，无需针对浓度未知的样品进行方法优化，从而降低了常规肽段鉴定实验中样品和仪器对时间的要求直观、灵活的拖放式用户界面简化了方法开发，可实现独特而复杂的工作流程可选升级项包括 IC、ETD、UVPD 和 1M：Easy-IC - 内标校正提高了质量准确度Easy-ETD - 电子转移解离用于裂解多电荷母离子，例如翻译后修饰肽段和完整蛋白UVPD - 用于各种母离子（包括脂质、肽段和完整蛋白）的紫外光解离；其为 Orbitrap Fusion Lumos Tribrid MS 的独特功能m/z 200 时 1M - 1,000,000 FWHM 超高分辨率可改进同量异序化合物的结构定性和定量

价格货期电议美国 KRI 离子源应用于蒸镀直径 1.5m 天文望远镜镜片全反射膜 上海伯东代理美国 KRI 大尺寸霍尔离子源 EH 3000 HC, 离子束具有业界中最高广角的涵盖面积及最高密度的离子浓度, 在离子辅助镀膜工艺中 Ion Beam Assisted Deposition, IBAD 可以获得高均匀性及高致密性的膜层. EH 3000 HC 近日成功应用于直径 2.2m 蒸镀机, 用于蒸镀 1.5m 天文望远镜镜片. 通过使用上海伯东 KRI 离子源镀全反射膜, 高均匀性及高致密性的膜层可以保障光源有效反射, 尽可能减少吸收. 直径 2.2m 镀膜腔, 仅需安装1台 EH 3000 HC 霍尔离子源, 即可完成镀膜, 直接降低企业成本!上海伯东离子源蒸镀典型案例: 根据客户 2.2m 镀膜腔体尺寸, 基材尺寸和工艺条件, 推荐选用霍尔离子源 eh3000 HC, 配置中空阴极, 中和器, 自动控制器1. 设备: 2.2m 蒸镀镀膜机.2. 基材: 1.5m 天文望远镜镜片镀铝 Al, 最外层镀一层二氧化硅 SiO2, 做为保护膜3. 离子源条件: Vb:120V ( 离子束阳极电压 ), Ib:14A ( 离子束阳极电流 ), O2 gas:45sccm( 氧气 ).4. 离子源应用: 天文望远镜镜片镀全反射膜, 约3个小时 保障光源有效反射, 尽可能减少吸收.霍尔离子源 EH 3000 HC 主要技术参数尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”放电电压 / 电流: 50-300V / 20A可通气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2,离子束发散角度： 45° (hwhm)水冷 类似应用: 汽车头灯模块镀全反射膜, 使发光源的光全部反射出去照亮 美国 KRi 霍尔离子源凭借高密度的离子浓度, 广角度涵盖面积的离子束, 可控制离子的强度及浓度, 已广泛应用于离子辅助镀膜 IBAD , 获得高质量的膜层. 上海伯东美国 KRi 霍尔源可依客户镀膜机尺寸, 基材尺寸及工艺条件选择对应型号: EH 400, EH 1000, EH 2000, EH 3000. 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解离子源镀膜案例, 请查看官网或咨询叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

在极具挑战性的应用中表现突出，包括低水平 PTM 分析、使用同量异序标签进行多通路相对定量测定、完整蛋白表征以及使用新型 Thermo Scientific™ Orbitrap Fusion™ Lumos™ Tribrid™ 质谱仪对小分子进行 MSn分析。该系统结合了极明亮的离子源、选择性和离子传输均得到改进的分段式四极杆滤质器、用于改进向 Thermo Scientific™ Orbitrap™ 质量分析仪进行离子传输的先进真空技术，以及 ETD 片段化覆盖范围更宽的 ETD HD。较新创新包括用于改进数据依赖实验的高级峰值测定 (APD) 算法和两个新硬件选项：UVPD 是采用 213 nm UV 光和 1 M 分辨率实现的全新裂解技术，它提供了 1,000,000 FWHM 的超高分辨率，用于改进同量异序化合物的结构解析和定量。Orbitrap Fusion Lumos Tribrid MS 的特点：新型高灵敏度 API 接口将高容量离子转移管和电动离子漏斗结合，旨在提高离子通量，降低检测限先进的主动离子束传输组件可防止中性粒子和高速离子簇进入分离离子的四极杆中先进的四极杆技术结合高灵敏度和离子传输效率，使选中离子从分离窗口中心穿过先进的真空技术提高了向 Orbitrap 分析仪传输高分子量离子的速度全新的 ETD HD—高动态范围 ETD 显著提升了碎片离子覆盖范围高级峰值测定 (APD) - 一种用于改进数据依赖实验中母离子测定的新算法，大幅增加了独特肽段的识别数量和实验通量Tribrid 结构包括四极杆滤质器、线性离子阱以及 Orbitrap 质量分析器，用于尽可能提高由各项仪器操作高度并行化导致的占空比高达 500,000 FWHM 的超高分辨能力，m/z为 200 时同位素保真度高达 240,000 FWHMOrbitrap 和线性离子阱 MSn分析的采集速率高达 20 Hz应用智能 ADAPT™（所有动态可用并行时间）技术可实现完全并行化 MS 和 MSn分析MS 和 MSn实验的同步前体选择 (SPS) 可以显著提高鉴定的多肽和蛋白数量，当使用同量异序质量标签时，还能提高定量分析准确性片段化灵活性 — CID、HCD 和可选 ETD 和 EThcD 在 MSn的任何阶段均可用，与 Orbitrap 或线性离子阱检测器检测一起，可以对代谢物、聚糖和其他小分子进行详细的结构确定通用方法适用于大部分肽段鉴定，无需针对浓度未知的样品进行方法优化，从而降低了常规肽段鉴定实验中样品和仪器对时间的要求直观、灵活的拖放式用户界面简化了方法开发，可实现独特而复杂的工作流程可选升级项包括 IC、ETD、UVPD 和 1M：Easy-IC - 内标校正提高了质量准确度Easy-ETD - 电子转移解离用于裂解多电荷母离子，例如翻译后修饰肽段和完整蛋白UVPD - 用于各种母离子（包括脂质、肽段和完整蛋白）的紫外光解离；其为 Orbitrap Fusion Lumos Tribrid MS 的独特功能m/z200 时 1M - 1,000,000 FWHM 超高分辨率可改进同量异序化合物的结构阐明和定量

Zygo光学元件光学镀膜ZYGO世界一流的镀膜设计工程师和技术人员与我们的计量和光学制造团队紧密合作，为我们的客户提供“一站式购物”体验。这简化了您的供应链，降低了项目风险和整体时间。如果您的基材在镀膜后必须满足所有要求，请选择一个单一的垂直整合制造商。反射涂层保护性和增强金属（金、银、铝）铬镍铁合金、镍、铬和钛多层定制电介质设计减反射涂层UV到MWIR光谱范围（248nm到5μm）宽带（BBAR），单频或双频，还提供定制设计EMI网格上的减反射涂层特殊涂层高LIDT，包括飞秒激光应用滤波器分光镜ZYGO的优势工程设计、制造、计量、镀膜一应俱全直径达45英寸[1145mm]和重量达300磅[136kg]的大型基板在各种材料上沉积定制镀膜设计根据标准MIL、ISO规格在内部进行环境和耐久性测试成熟的涂层应力补偿技术ZYGO业界领先的计量系统会在镀膜后对所有规格进行认证我们还提供涂层翻新服务

基本介绍产品描述 手套箱蒸镀一体机 工作原理 本系统由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。性能特点蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制作，使整个薄膜生长和器件制备过程高度集成在一个完整的可控环境氛围的系统中，消除有机大面积电路制备过程中大气环境中不稳定因素影响，保障了高性能、大面积有机光电器件和电路的制备。技术参数材料：304不锈钢，厚度3mm 外表面：304不锈钢 内表面：油膜拉丝面使用说明设备用途 主要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等实验研究与应用。 采购须知面议

克普斯镀膜机真空腔体:——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司克普斯采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。常见真空腔体技术性能:材质:不锈钢、铝合金等腔体适用温度范围:-190°C~+1500°C(水冷)空封方式:氟胶O型圈或金属无氧铜圈出厂检测事项:1、真空漏率检测1.3*10-10mbar*//s2、水冷水压检测:8公斤24小时无泄漏检测.内外表面处理:拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等.不锈钢真空腔体加工,铝合金真空腔体的品质获得并通过|S0 -9001质量标准体系认证,所有产品均经过真空氦质谱检漏仪出厂,产品被用与航空航天、科研、核电、镀膜、真空炉业、能源、医药、冶金、化工等诸多行业,如有需要欢迎咨询！克普斯真空为高校、科研院所设计加工高真空、超高真空的真空腔体，可以根据客户的技术要求(PPT)开发设计，也可以按图(草图、CAD图、照片)设计加工。可以加工的真空腔体形状:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状 可以加工的真空腔体材质:不锈钢材质 (304、304L、316316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质等。真空产品设计能力、完善的真空机械加工体系以及快速的服务啦应支持，承接各种规格型号的真空室开发设计、按图定制等。我们为高真空或超高真空应用设计及制造的各种真空腔体，包括为高校和科研院所设计真空试验腔体、真空环境模拟腔体、真空放电测试腔体、真空激光焊接腔体、CVD反应腔体、真空镀膜室等。另外，客戶订制的真空室都可通过我们的工程设计，与您现有的真空系统融合，成为一套功能完整的系统。也可以通过我们的工程设计，预留标准接口及装配位置，方便您日后增配或更换真空部件，实现系统的升级或功能的转换。我们能定制的真空室结构与材质配置多种结构型态:方腔、圆柱型、D型及其它要求的形状:多种材质:不锈钢材质 (304、304L、316,、316L)、碳钢材质、铝材质、有机玻璃材质。所有材质是经过特别选择的，可达到低磁渗透性的要求。我们的开发设计人员均具有10年以上真空行业工作经验，独立开发设计上百套涵盖真空室的相关产品 我们使用业界*的CNC加工中心以及其它配套的加工机械，并业已形成完善的真空机械加工体系。我们的质量保证及售后服务能力我们的产品严格遵照相关标准，并执行原材料检验、加工在线检测、半成品检测及成品出厂检测，对于非标定制的产品与客户联合检测验收 需要特别指出的是对于真空室，所有接缝处、焊接处及法兰连接处都要通过严格的观察检验及氨质谱检漏仪检漏测试，并对整个系统进行漏率测试，系统漏率优于 8.0x10-8 Pa.L/S.实验室真空系统,真空腔体,真空探针台,克普斯镀膜机真空腔体

仪器简介：基质辅助脉冲激光沉积系统（MAPLE）是海军研究实验室于1994年开发的，使用准分子激光器沉积聚合物薄膜。多年来，基质辅助脉冲激光沉积系统已经有了很大的发展。商用基质辅助脉冲激光沉积系统现在很容易配备红外激光器和多目标机械手。中科院宁波材料所于2014年1月向我司订购一台MAPLE系统，该系统为国内首台“基质辅助脉冲激光沉积系统”！系统技术指标：最大衬底尺寸One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.最大衬底温度：300°C typical, but other heaters are available.MAPLE靶材温度： -194°C (80 K)压力操作范围：Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressureMAPLE靶材尺寸：Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.靶材到衬底(Throw) 距离：Variable from 2.5 to 4 inches光栅路径长度：Across complete MAPLE target标准的激光束射向靶材入射角度：60°主腔体本底真空：P 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.真空腔体：Box style chamber with easy substrate / target changes.激光波长：2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.VIS/NIR Resonant PLD/MAPLE System可见/近红外共振PLD/MAPLE系统

超高真空多腔体镀膜系统——按照客户要求，加工订制；——一对一专业出图设计；——可配套指定真空机组系统；——耐高温、耐腐蚀；——高质量、高精度；加工工艺，采用真空焊接技术拼装焊接；先进的真空捡漏设备，更加保证产品的质量；我公司采用三维建模软件，按照实际比例建立三维模型，根据客户文字、语言草图等需求描述，专业设计出适合客户所需产品方案（在方案定稿之前所有设计不收取任何费用）。为了生产出最匹配客户需求的产品，需要告知我公司以下几个问题点：1、产品在使用过程中是否有温度产生，高温和低温分别是多少摄氏度，是否需要通水或液氮冷却等内外在因素。2、对产品材质是否有特殊要求，真空领域腔体常用材质为：碳钢、铝、304不锈钢、316不锈钢等3、产品的链接方式，抽真空的方式，抽真空所用的真空泵等4、腔体真空度的要求，腔体抽完真空以后是否需要冲入保护气体或其他气体。通常常见真空腔体技术性能：材质：304不锈钢或客户指定材质。腔体适用温度范围：-190℃~+1200℃密封方式：氟胶“O”型圈或金属无氧铜密封圈出厂检测事项：1、真空漏率检测：标准检测漏率：1.3*10-8PaL/S 2、水冷水压检测：标准检测压力：8公斤24小时无泄漏检测。内外表面处理：拉丝抛光处理、喷砂电解处理、酸洗处理、电解抛光处理和镜面抛光处理等。实验室真空系统,真空腔体,真空探针台超高真空多腔体镀膜系统

JMS-S3000基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪，采用日本电子独自研发的SpiralTOF模式离子光学系统，它创新的技术在学术界已广为人知，其超高的质量分辨率和超高的质量准确度，遥遥领先于传统的装置。最为重要的是这种高分辨率的获得，并不以牺牲灵敏度为代价。本装置领军质谱分析最新技术，特别是在合成高分子、材料化学、生物高分子领域满足了日新月异的科技发展和研究需求。质谱工作模式：标准模式 TOF线性模式 TOF（选配件）串联模式TOF/TOF （选配件）

美国Denton金/碳镀膜机 丹顿真空公司位于美国费城，是世界著名真空镀膜设备制造商。从1964年成立至丹顿已为全球客户制造了数千台多种规格的蒸发设备、溅射和PECVD镀膜系统，用于大工业生产、科研开发和小规模制造。丹顿用于科研开发和小规模制造的中小型镀膜设备据美国市场占有率之首。Desk V HP 专用电子显微镜样品制备 – SEM TEM FE-SEM 金/碳镀膜机特点● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能

产品详情英国HHV科研用真空镀膜系统 Auto500,Ats500适合研究开发需求的多功能系统平台 ATS 500 AUTO 500 Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台，主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计，可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物理气相沉积工艺，甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。真空腔室安放在内部装载有真空泵系统的基座上。系统的真空系统由触摸屏操作显示的PLC自动控制。PLC显示操作面板以及其他工艺附件的控制面板都集中安装在真空腔室旁边的19”标准控制机柜上，操作十分方便。 Auto500既可以只配置单个镀膜源，也可以配置成多个不同的镀膜源，其工艺配置灵活性非常高，并且也很容易进行现场升级。 Auto500还可以配置一系列样品承载台，可实现样品旋转、倾斜、加热、冷却、偏压等。 真空系统可选无油干泵、分子泵及低温冷凝泵等。ATS500系统配置触摸屏控制方式和分子泵高真空系统。ATS500系统为复杂薄膜应用而设计，配合不同工艺附件适用于不同应用。 真空及控制系统：触摸屏控制系统集成在19”宽的标准控制机柜中，触摸屏系统可以自动控制真空系统和各种工艺附件的工作。?。带人机接口的PLC自动真空控制系统?。7英寸彩色触摸屏?。工艺菜单可以自动控制镀膜过程，包括镀膜源，开关，基片台旋转，基片台加热和其他相关工艺附件（针对所选附件）?。工艺真空显示，流量控制显示（针对所选附件）?。真空阀位置,泵状态和联锁状态?。警报或错误消息?。 USB端口. csv文件格式处理数据日志记录?。以太网端口的远程支持和诊断 系统操作模式:? 自动模式，按照工艺菜单运转? 手动模式，按照需求进行工艺过程配置? PLC中的关键设置密码保护 ATS500系统具有高产能真空系统，包括：? Edwards XDS20i型无油干泵，用于腔室粗抽真空以及分子泵的前级预抽泵? Leybold Turbovac 600C 560l/s 型涡轮分子泵? 涡轮分子泵通过ISO160真空法兰安装在真空室的后部? 使用皮拉尼规和冷电离潘宁规监控系统压力? 具有完善的互锁设计，确保操作人员的安全。 真空腔室：带水冷的真空腔室尺寸是500mm宽/直径，500mm高，采用304无磁不锈钢制造。腔室采用前方开门设计，门上安装有工艺观察窗潜望镜结构设计的玻璃挡片装置，可以观察腔室内部配置有一套可拆卸清洗的不锈钢腔室内衬板，便于腔室内壁的保护腔室后部有一个ISO160真空法兰连接真空系统腔室底板焊接到底部法兰，不可拆卸极限真空可达5E-7Torr。

v 产品概述：系统主要由真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成v 设备用途：是一种利用激光高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。PLD非常适合生长多元氧化物的多层膜和异质膜，轻松实现对化学成分较复杂的复合物材料进行材料生长。在生长过程中还可以实现引入活性或惰性及混合气等工艺气体，以提高薄膜生长品质v 基片尺寸：8inch（可向下兼容）v 加热温度：1000℃ 加热方式：辐射加热v 靶材：3*4”v 真空度：5*10-7Pav 气路系统：氧气、氮气、氩气v 模块：PLD+进样室v 激光窗口：配有闸板阀光路系统：激光扫描功能

. 1适用于铟等金属材料的蒸发镀膜2. 由真空镀膜室、蒸发源、工件架、分子泵真空获得和测量系统、膜厚控制仪、机架及电气控制系统等组成3. 配置多组蒸发源，均有电动挡板，多个水冷电极，蒸发源交替使用4. 工件架可放置不同尺寸样品，镀膜均匀性良好，蒸发距离较远，转速连续可调，样品盘水冷

一,＞99.5% 光纤镀膜反射镜 980/1310/1550/2000nm光纤全反射镜用于掺铒光纤放大器的实例。其中，将一个光纤后向反射器置于一根掺饵光纤的末端，将光朝着入射光的方向反射回光纤中。用一个环形器直接将输入光和放大输出光导入其合适的光路中，这样一来信号光可以两次通过增益光纤，更有效吸收利用了放大器的增益。后向反射器的另一个实际应用为构建可调后向反射器，如图2 所示。下游后向反射器的反馈信号会引起一些器件的不稳定，如激光二极管等。通过采用一个可调后向反射器，就可以确定器件对后向反射的灵敏度。可调衰减器可以让用户对器件引入标准反射。通过分析后向反射效应，用户可以计算器件的噪声水平、误码率、失真等参数。图1.采用后向反射器和一个环形器的全光纤放大器光纤镀膜反射镜 980/1310/1550/2000nm,光纤镀膜反射镜 980/1310/1550/2000nm产品特点● 温度误差小● 反射率高● 长期可靠性高技术参数参数单位数值工作波长 (λc)nm980/1060/1310/1550/2000带宽nm±10典型插入损耗dB0.8最大插入损耗dB1.0反射率%＞99.5Max. PDL at 23°C, λcdB0.2最大操作功率 (CW)mW300最大拉伸力N5光纤类型SMF-28e Fiber or Specify操作温度℃-5 to +70存储温度℃-40 to +85通用参数单位 ( mm )产品应用● 光纤电流传感器● 光纤网络测试和分析● 光纤传感订购信息FM-W□□□□-XXW□□□□: 工作波长98: 980m13: 1310m15: 1550nm20: 2000nmXX: 光纤以及连接头类型SN=SMF-28E Fiber + NoneSA=SMF-28E Fiber + FC/APCSP=SMF-28E Fiber + FC/PCPP=PM Fiber Fiber + FC/PCPA=PM Fiber Fiber + FC/APC二,LAYERTEC 大带宽低色散 金属反射镜 (铝、银或金涂层 适用于超快应用)铝、银或金的金属层一方面具有在宽带宽上反射光的优点，另一方面不改变各个波相对于彼此的相位位置。 因此，金属镜是短脉冲激光光束引导的理想选择。额外的介电涂层可保护金属层免受与空气成分（氧气、硫）的化学反应，并具有长期稳定性。 同时，可以在有限的光谱范围内提高反射率，而相位响应几乎不受影响。这种反射增强金属镜也经常用作扫描仪光学器件。金属是适用于低激光功率应用的成熟反射镜材料。 它们在宽光谱带宽（尤其是中红外范围）内提供高反射率，并且与色散相关的传播时间差异可以忽略不计。LAYERTEC 采用磁控溅射工艺生产杂散光损耗极低的金属涂层。我们生产金反射镜、银反射镜和铝反射镜。 对于银反射镜和铝反射镜，建议施加额外的保护层。 这可以防止它们氧化并允许对其进行清洁。此外，可以通过有针对性地应用其他层来提高特定波长的反射率。LAYERTEC 大带宽低色散 金属反射镜 (铝、银或金涂层 适用于超快应用),LAYERTEC 大带宽低色散 金属反射镜 (铝、银或金涂层 适用于超快应用)通用参数按涂层波长共87条Type波长R 反射率T 投射率 D (群延迟色散)入射角偏振规格种类HR157  nm0°unpol.8HR220  -  280  nmunpol.17HR220  -  280  nm  90  %0°unpol.1HR220  -  400  nm  90  %0°unpol.3HRHR248  nm352  nm  85  %  85  %0°0°unpol.unpol.1HR260  -  360  nm  90  %0  fs² 0  -  45°s,p-Pol.4HRHRHR266  nm400  nm800  nm  80  %  80  %  80  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°s,p-Pol.s,p-Pol.s,p-Pol.4HRHRHR266  nm405  nm810  nm  85  %  85  %  85  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°unpol.unpol.unpol.3RRR266  nm405  nm810  nm  85  %  85  %  85  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°unpol.unpol.unpol.38HR266  -  450  nm  90  %0°unpol.1R266  -  810  nm  85  %0  -  45°unpol.1HR400  -  700  nm  98  %0  fs² 0°unpol.3HR400  -  700  nm  98  %0°unpol.9三,LAYERTEC 转向镜 (高功率反射镜)生产过程中（抛光过程）的 45° 椭圆形转向镜（所谓的“香肠片”）偏转镜专门改变入射光的方向。 通过选择涂层，可以针对特定波长范围和特定入射角调整镜子的反射率。 此外，镜子还可以针对振荡（偏振）方向和高破坏阈值进行优化。LAYERTEC 生产几乎所有入射角和偏振类型的偏转镜，无论是针对一种波长优化的布拉格镜还是宽带镜。 例如，根据要求，可以适应高激光功率和/或短脉冲。 此外，还可以计算涂层在Max. 反射时的z低损耗或定义的残余透射率。LAYERTEC 转向镜 (高功率反射镜),LAYERTEC 转向镜 (高功率反射镜)通用参数高功率反射转向镜,产品列表210条(按涂层波长)类型波长范围R(反射率)T(透射率)D(群延迟色散)入射角偏振规格种类HR157  nm   89  % 45°unpol.3HR157  nm89  %45°unpol.1HR157  nm  92  %27°unpol.1HR162  nm  90  %45°unpol.1HR193  nm  95  %45°unpol.4HR193  nm  96  %30°unpol.1HRHRHR200  nm195  -  205  nm200  nm  95  %  97  %  93  %45°45°45°unpol.s-Pol.p-Pol.2HR205  nm  95  %45°unpol.1HRHRHRAR / HT210  nm205  -  215  nm210  nm400  -  1000  nm  95  %97  %93  %&ensp &ensp &ensp &ensp 2  %45°45°45°45°unpol.s-Pol.p-Pol.p-Pol.1HR213  nm  98  %45°unpol.1HR235  nm  97  %45°unpol.1HR248  nm  97  %45°unpol.1HR248  nm  99  %45°unpol.2HR248  nm  99.5  %45°unpol.1HRHR248  nm248  nm  99.7  %  99  %45°45°s-Pol.p-Pol.2HR252  -  268  nm  99  %45°s,p-Pol.1HRHR257  nm515  nm  98  %  99.5  %45°45°unpol.unpol.1HR257  -  262  nm  99.5  %45°unpol.1HR260  -  290  nm  99.5  %45°unpol.1HR262  -  266  nm  99.5  %45°unpol.2HR263  -  268  nm  99.5  %45°unpol.1HRHR266  nm400  nm  98  %  99  %45°45°s,p-Pol.s,p-Pol.2HRHRHR266  nm400  nm800  nm  98  %  99  %  99  %45°45°45°s,p-Pol.s,p-Pol.s,p-Pol.2HRPR266  nm532  nm  99  %  50  %45°45°unpol.unpol.1HRR266  nm532  nm  99  %  50  %45°45°unpol.unpol.2HR266  nm  99.5  %45°unpol.8HR266  nm  99.6  %45°unpol.1RRR266  nm405  nm810  nm  85  %  85  %  85  %0  -  45°0  -  45°0  -  45°unpol.unpol.unpol.4HR270  nm  99.5  %45°unpol.1HR270  nm99.6  %45°unpol.1HR270  nm  99.6  %45°unpol.1HR280  nm  99.5  %45°unpol.2HR308  nm  99.5  %45°unpol.1HR308  nm  99.8  %45°unpol.1HRHR308  nm308  nm  99.9  %99.5  %45°45°s-Pol.p-Pol.3HR313  nm  99.8  %45°unpol.1HRHR325  -  600  nm325  -  600  nm  99.5  %  98  %&ensp 0  fs² 45°45°s-Pol.p-Pol.1HRHRHRHR330  -  470  nm370  -  450  nm680  -  950  nm700  -  900  nm  99.8  %  99.6  %  99.8  %  99.6  %45°45°45°45°s-Pol.p-Pol.s-Pol.p-Pol.1HR340  -  500  nm  99  %0  fs² 45°p-Pol.3HRHR340  -  650  nm400  -  650  nm  99  %  99.5  %0  fs² 0  fs² 45°45°s-Pol.s-Pol.1HRHRHR343  nm515  nm1030  nm  99.4  %  99.8  %  99.9  %45°45°45°unpol.unpol.unpol.3HRHR343  nm1030  nm  99.5  %  99.9  %45°45°unpol.unpol.1四,LAYERTEC 激光反射扫描镜 (用于材料加工)扫描镜用于激光材料加工，使激光束在工件上快速灵活地移动。 它们的背面通常被磨成片状。 由于这种特殊的设计，它们非常薄且轻，以实现方向的快速改变。扫描镜是 LAYERTEC 产品系列的重要组成部分。 为此目的开发的层设计提供了高性能稳定性和必要的反射角不变性。 尤其是金属基镜与介电层的组合可增加功率激光器的反射率，从而允许在加工区域区域直接成像。LAYERTEC 激光反射扫描镜 (用于材料加工),LAYERTEC 激光反射扫描镜 (用于材料加工)通用参数扫描镜按型号9条型号规格正/背面形状及涂层涂层参数Turning Mirror 103512Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRu(22.5°,355nm)99%Scanning Mirror 100490Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRs,p(0-45°,420-670nm)99.9%Turning Mirror 168353Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRs,p(0-45°,420-670nm)99.9%Scanning Mirror 111448Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRs,p(0-45°,470-490nm)99.8%Scanning Mirror 100542Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRs,p(0-45°,532nm)99.9%Turning Mirror 107010Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2)HRs,p(0-45°,633nm)99.95%HR(0°,580-745nm)99.95%HRs,p(45°,545-660nm)99.95%Scanning Mirror 126680Corning 7980 2F or equal&emptyv = 25  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRs,p(22.5-45°,960-1090nm)99.9%Scanning Mirror 112673Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 3.05  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRu(0-45°,1064nm)99.8%Scanning Mirror 100482Corning 7980 2F or equal&emptyv = 12.7  mmt = 6.35  mmFront&ensp Side (S2)planeRear&ensp Side (S1)planeFront&ensp Side (S2) HRu(0-45°,1064nm)99.8%扫描镜 按涂层波长共7条类型波长范围R(反射率)T(透射率)D(群延迟色散)入射角偏振规格种类HR355  nm  99  %22.5°unpol.1HR420  -  670  nm  99.9  %0  -  45°s,p-Pol.2HR470  -  490  nm  99.8  %0  -  45°s,p-Pol.1HR532  nm  99.9  %0  -  45°s,p-Pol.1HRHRHR633  nm580  -  745  nm545  -  660  nm  99.95  %  99.95  %  99.95  %0  -  45°0°45°s,p-Pol.unpol.s,p-Pol.1HR960  -  1090  nm  99.9  %22.5  -  45°s,p-Pol.1HR1064  nm  99.8  %0  -  45°unpol.2公司简介筱晓(上海)光子技术有限公司成立于2014年,是一家被上海市评为高新技术企业和拥有上海市专精特新企业称号的专业光学服务公司，业务涵盖设备代理以及项目合作研发，公司位于大虹桥商务板块，拥有接近2000m² 的办公区域，建有500平先进的AOL(Advanced Optical Labs)光学实验室，为国内外客户提供专业技术支持服务。公司主要经营光学元件、激光光学测试设备、以及光学系统集成业务。十年来,依托专业、强大的技术支持，以及良好的商务支持团队，筱晓的业务范围正在逐年增长。目前业务覆盖国内外各著名高校、顶级科研机构及相关领域等诸多企事业单位。筱晓拥有一支核心的管理团队以及专业的研发实验室，奠定了我们在设备的拓展应用及自主研发领域坚实的基础。主要经营激光器/光源半导体激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子级联激光器、FP激光器、VCSEL激光器）气体激光器（HENE激光器、氩离子激光器、氦镉激光器）光纤激光器（连续激光器、超短脉冲激光器）光学元件光纤光栅滤波器、光纤放大器、光学晶体、光纤隔离器/环形器、脉冲驱动板、光纤耦合器、气体吸收池、光纤准直器、光接收组件、激光控制驱动器等各种无源器件激光分析设备高精度光谱分析仪、自相关仪、偏振分析仪，激光波长计、红外相机、光束质量分析仪、红外观察镜等光纤处理设备光纤拉锥机、裸光纤研磨机

纳秒到秒级时域范围内的瞬态吸收光谱LP980是一款经典的先进的激光闪光光解光谱仪,赋予激光诱导的拉曼光谱（LIR）与击穿光谱（LIBS）新功能特点双样品舱-泵浦探测技术检测化学与生物的瞬态物种，激光诱导检测荧光与磷光寿命(低至ns)检测限- OD 0.002(快检测选项)， OD 0.0005(慢检测模式)自动滤光片塔轮用于消除二级衍射峰新的150W氙灯光源，100A脉冲电流-高光强，高SNR，为长寿测试提供更稳定的背景信号内部激光光束调整-防止外部光束干扰强大的综合软件包用于计算机全面控制仪器的所有组成与测试丰富的测试附件

●本设备在成都光学镀膜机产业链发达基础上，在核心部件、控制系统和结构设计上吸收国际一流产品技术精髓，开发出surpass系列产品。本设备适用于高精密光通讯产品镀制光学膜: 电学膜、金属膜、激光膜、冷光膜、分光膜、增透膜、各种滤光片、玻璃片及塑胶（树脂）件上镀制增透膜、带通膜和截止膜等各种膜系的镀膜，能够根据客户需求定制。●形式：φ650-3500mm，箱式一体机，立式前开门，蒸发室和抽气室为整体焊接式，一体机系统。●真空系统：极限真空8X10-5Pa，主泵为复合分子泵低温泵扩散泵可选。●真空测量：配三路数字复合真空计，均采用安全防爆金属测量规。●工件架系统：客户需求定制，转速3～30rpm变频可调，工件盘为球形和行星工件盘可选。●烘烤系统：不锈钢铠装加热器匹配数字功率控制器和PID控制模块，烘烤温度300℃，温控精度1℃，过冲不超过2℃。●电子束蒸发源：E型电子束蒸发源系统（E型）1-2套，主体有屏蔽罩，配置独立高压控制柜。●旋转蒸发源：电动转位和点动转位，配置无氧铜坩埚和石墨坩埚各一套。●电阻蒸发源：2套电阻蒸发源。（选配）●膜厚测试系统：配瑞士inficon石英膜厚在线测量系统， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探头。●离子源辅助沉积系统：一套（选配离子源或高压离子轰击系统）。●控制系统：成熟可靠的真空镀膜控制系统，工业级10英寸触摸屏（工控机）和西门子PLC，能够实现抽真空、工转烘烤、自动充气、自动镀膜、自动冷却放气等镀膜生产流程；支持半自动和手动等镀膜操作方式。水、电、气路有故障自动报警和保护系统，采用声光报警。●说明：根据用户要求，公司愿与客户联合研发，共享知识产权，公司致力于工艺与设备完美匹配。

产品简介：450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。产品型号450型电子束蒸发镀膜系统技术参数系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。　　技术指标：　　极限真空度：≤6.7×10 Pa　　恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　真空室：真空室500x500 x600mm采用U型箱体前开门，后置抽气系统e型电子枪：阳极电压：6kv、8kv(1套)　　坩埚：水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml　　功率：0-6KW可调　　电阻蒸发源(可选)　　电压：5、10V　　功率：电流300A，输出功率3Kw1套，可切换水冷电　　极3根，组成2个蒸发舟　　基片尺寸：可放置4″基片　　样品台：基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm加热温度 ≤800°C±1°C，可调手动控制样品挡板组件1套　　气路系统：质量流量控制器1路　　石英晶振膜厚控制仪：监测膜厚显示范围：0-99μ9999?

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。 产品型号钙钛矿镀膜机主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW； 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999?

可以用于蒸镀半导体、金属膜，纳米级单层及多层功能膜。1、真空室：1.1、真空室内腔尺寸：600×600×700mm3。1.2、真空室材料： 整个真空室采用钢铁 SUS304 不锈钢材料制造，内表面抛 光，外表面喷丸处理；极限真空度高。1.3、真空室结构：真空室四周配有不锈钢防污染屏蔽板（提供两套、一套 备用）；前开门后置抽气系统结构， 四壁壳体外壳水冷，采用不锈钢水冷槽通水冷却。1.4、观察窗： Φ100mm 观察窗 2 个，观察窗内有遮挡活动板，配有两套防辐 射射玻璃（一套备用）。1.5、CF35 陶瓷封接引线法兰：2 个（照明及内烘烤引线 1 个、预留空置 6 芯电极法兰 1 个）。1.6、晶振膜厚仪接口 1 个。2、工件架旋转与烘烤：2.1、采用调速电机调节转速、磁流体密封；3 到 60rpm 无级调速。2.2、样品托盘尺寸分别为：可放 4 片 6 英寸样片且样品可公转可自转 2.3、样品加热温度。2.4、基片与蒸发源之间距离 350～550mm 可调，由腔外电动波纹管调节机构 在线控制。3、电子束蒸发源：3.1、用超高真空 E 型电子枪；3.2、270 °E 型电子枪及高压电源，电子枪功率 0--10KW 可调； 3.3、电子枪阳极电压：4kv、10 kv；两挡；3.4、电子束可二维扫描调节，最大扫描正负 15mm（X，Y）；3.5、六工位水冷式电动坩埚；每穴容积 11-22ml；3.6、可调角度气动控制蒸发挡板，采用磁流体密封；3.7、电子枪配有触摸屏，可远控； 3.8、带有高压灭弧自动复位功能。 电阻式蒸发源；配备一套电阻蒸发源，含一套 3KW 数字式蒸发电源。 4、真空抽气系统4.1、低温泵： 可达 8.0×10-6Pa，真空漏率≤10-7Pa.l/s，真空室从大气到 抽到≤6.0×10-4Pa，小于 20min；4.2、低温泵与真空室连接采用 DN250 气动插板阀门； 4.3、机械泵和低温泵连接采用不锈钢金属波纹管；4.4 系统漏率：系统停泵关机 12 小时后，真空室的真空度≤10Pa。5、石英晶体测厚仪：采用石英晶体振荡膜厚监控仪◇用于监控镀膜蒸发速率及控制膜层物理厚度◇配单个水冷探头◇监测膜厚显示范围：0～99 μ9999&angst ◇厚度分辨率：0.01&angst ◇速率显示分辨率： 0～9999.9 &angst ◇控制精度： 0.01 &angst ◇监测时间显示范围：1 分～99 小时6、真空测量系统：莱宝 PTR90N 全量程真空计。7、水冷系统配备水冷循环系统：满足设备需求（功率大于 2kW）。8、其他：8.1 不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等；8.2 产品相关的金属密封铜圈及氟橡胶密封圈 1 套8.3 电子枪灯丝 58.4 坩埚 108.5 配一套质量流量计（0-100sccm），用来控制工艺气体通断。 二 主要技术性能指标。

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率：≤1×10-7Pa5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度 400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸　　　　　 发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm7、加热温度：RT-180℃，测温、控温8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A