精密研磨抛光系统

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精密研磨抛光系统相关的厂商

  • 东莞市创力研磨科技有限公司是一家专业从事金刚石单晶、多晶微粉、抛光液、研磨盘、抛光皮及微米、纳米尺寸超硬粉体材料、超精密研磨抛光产品的研发设计、生产制造、销售和售后服务于一体的科技型企业,公司拥有雄厚的专业技术力量,精湛的生产工艺和先进的加工设备,拥有国际上最先进的现代化检测仪器设备以及优质的服务得到了国内外高端客户的广泛好评及信赖。自创建以来,公司以提供高端应用的超精密研磨抛光材料,专业为客户提供全系列的研磨材料和全方位的技术服务,产品主要分为:金刚石粉体、研磨抛光液和抛光辅料三大系列,广泛应用于LED蓝宝石晶体、LED芯片、精密光学玻璃、半导体晶片、超硬材料精密工具以及硬盘、磁头、陶瓷、金属的研磨抛光表面加工领域,耐磨工件的表面复合镀领域。公司相继通过严格的ISO9001 /ISO14001和OHSAS18000管理体系,构建合理的运营管理机制,以技术创新为动力,协助客户提高产品性能和科技含量,使客户在其相关行业内长期保持创新优势,为客户创造了良好的经济效益。 公司崇奉“诚信、务实、创新、超越”的团队精神,将及时、有效地为客户提供优质的服务。
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  • 东莞市广泰精密仪器有限公司是一家研发生产、销售及维修仪器的服务型企业。主要生产销售的产品有:洛氏硬度计、维修硬度计、维氏硬度计、日本三丰MITUTOYO洛氏硬度计,日本Akashi显微维氏硬度计,维氏硬度计自动测量软件、里氏硬度计、布洛维硬度计、韦氏硬度计、巴氏硬度计、邵氏硬度计,金相切割机,金相镶嵌机,金相研磨抛光机,台湾盈亿研磨抛光机,台湾盈亿自动镶埋机,台湾盈亿大型精密切割机,金相显微镜,二次元影像测量仪,万濠投影仪,三丰量具等产品等一系列产品。经销的进口硬度计品牌有:MITUTOYO三丰硬度计、Akashi硬度计、FUTURE-TECH硬度计、Matsuzawa崧泽显微维氏硬度计、 BUEHLER标乐(威尔逊)等多种品牌的硬度计。硬度测量机广泛应用于机械、汽摩配件、电子电器、仪器仪表、建筑建工、冶金、航空航天、机械制造、橡胶塑料阀门管件、五金工具金属热处理、金属加工等行业,用于测试不锈钢、马口铁、铝型材、锻件、铸件、焊管、无缝钢管、塑料模具、镀层硬度、渗碳层等产品的硬度,是科研院所、大专院校、工矿企业的理想检测设备仪器。
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  • 长沙变色龙精密玻璃有限公司位于湖南长沙经济开发区,是一家从事玻璃深加工,集产品开发与销售为一体的综合企业,由一群有着十几年精密机械零件加工经验的从业者创立,我们熟悉玻璃,更加熟悉加工!我们深刻理解从产品选材、加工工艺制订、各个节点的检验等一系列制程的重要性,对于玻璃材料及其相关渠道了解全面而深入,理论与实践的结合日趋成熟。长期努力在高尖端玻璃技术的创新和研发,具备与众不同的精密玻璃加工能力满足各行各业对于高要求、高精度、高难度的玻璃制品的需求。以先进的加工技术、精良的生产设备、科学的质量管理、优质的产品、优惠的价格,以诚信、实力和优质产品获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈,我们将精心打造高品质的产品与您携手合作,共展宏图。 公司产品 公司批量供应;①肖特玻璃:B270、D263、Borofloat33 ②康宁玻璃:E-XG、大猩猩Gorilla Glass(2318、2319、2320、5318)等进口玻璃原材;③各种功能性玻璃:耐高温玻璃、紫外截止玻璃、红外截止玻璃、光致变色玻璃、蓝玻璃、石英玻璃(JGS1、JGS2、JGS3)、微晶玻璃等特种玻璃④硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃等各种材质玻璃;⑤超薄、超厚,等各种规格玻璃全力打造精密玻璃超市。 公司拥有优秀的技术工程师及管理人才和经验丰富的生产加工技术工人,精密玻璃加工包括:单、双面研磨抛光(超大尺寸研磨抛光)、玻璃激光加工、玻璃超声波加工等技术;检测台玻璃、曝光机玻璃、筛选机玻璃盘等高精度、高平面度、平行度要求的产品加工; 化学减薄(超薄减薄、局部成型减薄)、精细蚀刻; 超深孔、超长孔、微孔、细孔、斜孔、锥孔加工;微米级外形尺寸加工;微流道成型加工; 公司文化: 我们的公司从成立之初,就是选用最好的设备,采用恰当的加工方式,选择最合理的加工工艺,确保产品质量节约生产成本,提高客户产品竞争力;以实事求是的、严谨的做人做事态度,用完善的管理体系作保证,全心做好每个产品,真心服务每个客户;专业是我们不懈的坚持,不断创新的技术,赋予了玻璃新生命也是我们持续成长发展的动力,为客户创造价值是我们永不停止努力的方向。 企业使命: 我们勇当“中国精密玻璃”的先行者,争当“中国精密玻璃”的领导者!我们以“SCHOTT”、“CORING”为榜样,我们以“创造历史”为企业使命,誓为“中国精密玻璃”奋斗!
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精密研磨抛光系统相关的仪器

  • 【Gatan】697 Ilion II Datasheet 宽束氩离子抛光系统 品牌: GATAN 名称型号:氩离子抛光系统Ilion II 697制造商: GATAN公司经销商:欧波同有限公司产品综合介绍 产品功能介绍氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备,以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛,包括由多元素组成的试样,以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面,集成电路焊点,多层薄膜截面,颗粒、纤维断面,复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商,其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学,能源科学等领域, 客户范围涵盖全球的科研院所,高校,各类检测机构及大型工业企业实验室,并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商,是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业,总部位于香港,分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴,公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念,与蔡司,Gatan品牌强强联合,正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。 产品主要技术特点氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪,可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果,用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上,从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中,可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方,调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专利的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换( 1分钟),省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测3. 配方模式的控制界面,用于一键操作4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制5. 枪电压范围为100V到8000V的三元(阴极、阳极与聚焦极)构造潘宁离子枪6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度,增量为0.1度7. 扇形抛光角度可变且可程序化,范围从10度~90度8. 离子枪无需零件更换,寿命超过30,000小时9. Gatan专利的样品/挡板配置,装样简单,再次抛光位置准确10. 独特的离子束调制功能,可进行扇形抛光和平面抛光11. 洁净的真空系统,分子泵与隔膜泵搭配12. 操作简单,维护方便 抛光前- 俯视SEM图CuInSe2样品 抛光90S后SEM 图 CuInSe样品 产品主要技术参数: 1、 离子枪:两个配有稀土磁铁的三元构造(阴极、阳极与聚焦极)潘宁离子枪,聚焦离子束设计,高性能无耗材2、 抛光角度: +10° 到 -10° ,每个离子枪可独立调节3、 离子束能量:100 V 到 8.0 kV4、 离子束流密度:10 mA/cm2 峰值5、 抛光速度:300 μm/h(8.0 kV条件下对于硅试样)4.2样品台6、 样品装载: Ilion专利的样品挡板, 装样简单,再次抛光位置准确,可重复使用,配合Sample Stub可直接转至SEM中观察 7、样品旋转:0.5到6 rpm连续可调8、束流调制:独特的离子束调制功能,可进行扇形截面抛光(扇形角度为10到90度可调)和平面抛光。9、样品观察:数码变焦显微镜,配有PC及Digital Micrograph软件采集图像,通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像(300x–2,200x)与图像存储和分析10、液氮冷台:配置液氮冷台,样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤 4.3真空系统11、干泵系统:两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵12、压力:5x10-6 托基本压力,8.5x10-5托工作压力13、真空规:冷阴极型,用于主样品室;固体型,用于前级机械泵14、样品空气锁: 独特的Whisperlok设计,样品更换时间1Min,无需破样品室真空4.4用户界面15、10 英寸触摸屏: 操作简单,且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。16、配方操作模式:自定义不同的加工参数组合,实现一键操作。 产品主要应用领域: EBSD样品制备截面样品制备金属材料(合金,镀层)石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料电子半导体器件PCB电路版截面抛光SEM图镀锌钢板截面抛光Zn晶粒 Fe晶粒
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  • 自动研磨抛光系统 400-860-5168转3106
    ●不再手持物料研磨, 不再人工设定研磨机与抛光各项参数●系统自动取放物料, 对物料进行粗磨, 细磨,清洗以及抛光●自动控制研磨机与抛光机开关, 自动设定研磨的尺寸与精度●系统自动记录物料所有数据, 用于后续分析●可按要求将数据自动上传至实验室主系统
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  • GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料,光电材料等应用领域的精密磨抛设备。主要适用的材料包括:硅,砷化镓,铌酸锂,光纤,碳化硅,蓝宝石,碲锌镉等多种材料。设备结构及功能GNAD系列精密研磨抛光机包括主机,远程操控系统,夹具,真空系统,填料系统,研磨抛光盘等。主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料,整机防腐,适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。设备的功能参数,可由独立的远程操控系统控制。远程操控系统可根据用户工艺等具体要求选择无线或有线方式控制主机。夹具配备晶片研磨厚度在线监测装置,数字显示,监测精度1um,夹具自身对晶片的压力连续可调。真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求,真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。自动填料系统可根据不同的工艺要求,调整滴料速度,并在研磨料用完同时自动停机,以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。设备可支持双多通道进料系统同时工作,实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统,大大提升了磨抛效率的同时,也更好的控制样品平整度。GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却选配功能。盘温接近预设温度警戒值,设备会自动启动冷却功能,保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。设备参数 电源: 240V、10A / 110V、10A 晶圆尺寸: GNAD4 4”x 1/2/3 GNAD6 6”x 1/2 工作盘直径: 300mm-420mm 盘转速: 0-120rpm 摆臂摆动频率: 0-30spm 工作时间: 0-10小时 MCF公司可根据用户需求,提供完整的工艺方案,同时定制匹配方案的设备机型。具体设备详情请咨询MCF中国!
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精密研磨抛光系统相关的资讯

  • 飞纳电镜新搭档——1060 离子研磨抛光仪
    离子研磨抛光仪是一台高质量的 sem 样品制备台式精密仪器,满足几乎所有应用材料的制备。离子研磨抛光仪是通过物理科学技术来加强样品表面特性。使用的是惰性气体中具有代表性的氩气,通过加速电压使其电离并撞击样品表面。在控制的范围内,通过这种动量转换的方式,氩离子去撞击样品表面从而达到无应力损伤的 sem 观察样品。1060 ion milling 台式离子研磨抛光仪先进的样品制备技术如今 sem 在快速研究和分析高端材料结构和性能方面被认为是一种非常理想的手段方式,fischione 1060 是一个优秀的样品制备工具,是一台具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统,设计精巧,操作方便,性能稳定。1060 离子研磨抛光仪为 sem 呈现样品表面结构和分析样品特性提供了便利,是 sem 样品制备完美的工具,正不断用于制备高质量的 sem 样品,满足苛刻的成像及分析要求。专利的双离子束源fischione 1060 两束专利电磁聚焦离子束源可直接控制作用在样品表面的离子束斑点直径,操作者可以根据需求自己调节。两束离子束可以同时聚焦在样品表面,这样可以大大提高研磨抛光速度。1060 离子束源采用独特的专利电磁聚焦设计,这样的设计可以让离子束斑点直径可调,从而离子撞击的时候是直接撞击样品,且只可以撞击样品,同时样品溅出的材料不会沉积在样品夹具、样品仓或者样品表面上。离子研磨抛光仪有哪些应用sem 样品制备时常常需要研磨抛光。制样时即使再留意,常常一些不理想的形貌也会出现。随着 sem 技术的快速发展,即使一个微不足道的损伤也会限制样品表面的彻底观察分析。通过惰性气体离子研磨抛光解决样品表面之前的损伤是一个非常理想的方法。这是离子研磨的基本功能。块状样品事实上一些无机样品也受益于离子研磨抛光技术。当离子束低入射角度直接作用在样品上时,样品表面剩余的机械应力损伤,氧化层及残留物层均会被溅出,最终显现原始的形貌供 sem 观察和分析。ebsdebsd 是一项非常有用的技术,可以让 sem 获取更多晶体信息,因为通过 sem 获得的背散射电子信息能很好的反应材料晶体结构、晶向和晶体纹理。ebsd 对表面信息非常敏感,任何轻微的表面缺陷均能通过 ebsd 获得比较好的图案信息。因此通过离子研磨抛光来增强表面信息是非常有利的。为了让 ebsd 提高到更好的检测水平,离子研磨抛光能被用来去除精细样品材料的表面材料。使用二维的方法无法得到这一系列的技术产量切片技术。半导体截面观察在半导体行业的很多案例中,离子研磨抛光可以让失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者机械研磨样品会产生样品表面损伤,这些问题可以通过离子研磨抛光来解决,这也得力于多样化的样品夹具来优化了这些操作过程。使用飞纳台式电镜观察 1060 离子研磨抛光仪制样效果1060 离子研磨抛光仪标准版和专业版1060 离子研磨抛光仪技术参数离子束源两束电磁聚焦离子源加速电压范围: 100 ev - 6.0 kev,连续可调离子束流密度高达 10 ma/cm2可选择单束或者双束离子源工作独立控制两束离子束源加速电压 (仅专业版)样品台离子束入射角 0? 到 +10?最大样品尺寸:直径 25mm,高度 15mm样品高度自动感应360? 样品旋转样品往复摇摆,从 ±40? 到 ±60?真空系统两级真空系统:无油干泵和涡轮分子泵皮拉尼型真空计感应控制真空工作气体99.999% 纯度的氩气每离子束流速约 0.2 sccm,名义上所需压力为 15psi 采用自动气体流量控制技术,实现离子源气流的精密流量控制,含两个流量计气压源气动阀驱动氩气,液氮, 或者干燥空气;所需压力要求名义上 60 psi样品照明用户可选的反射照明自动终止计时器设定自动加工终止用户界面标准版内置触摸屏,包含基本设备功能模块专业版?内置触摸屏,包含基本设备功能模块?基于电脑,加工流程可通过参数编程并实时显示操作状态?操作灯光指示器(选配)辅助光学显微镜可选配一个 7-45 倍的体视显微放在与真空系统内用于直接观察样品;或者选配一个具有 2,000 倍的显微成像系统,用于定点成像并显示在电脑显示屏上尺寸标准版69cm*38cm*74cm*51cm (宽*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)专业版107cm*38cm*74cm*51cm (宽-含电脑显示器*底端到设备外壳高*底端到显微镜高*深)重量73 kg电源100/120/220/240 vac,50/60 hz,720 w
  • 飞纳电镜携帕纳科 XRF 及台式离子研磨抛光仪 1060 参加慕尼黑上海分析生化展
    慕尼黑上海分析生化展(analytica China)是亚洲最大的分析和生化技术领域的国际性博览会,是业内领军企业全面展示最新技术、产品和解决方案的最佳平台。慕尼黑上海分析生化展(analytica China 2016)将于 2016 年 10 月 10 - 12 日在上海新国际博览中心 N1,N2,N3 馆举行。飞纳电镜携帕纳科台式 XRF 及台式离子研磨抛光仪 1060 在 N3.3205 展出,欢迎广大参加本次慕尼黑上海分析生化展的观众们前来参观,体验飞纳台式扫描电镜,帕纳科台式 XRF 及台式离子研磨抛光仪三款台式科学仪器带来的突破与惊喜。一、台式扫描电镜: 飞纳电镜来自于世界领先的扫描电镜制造商 Phenom-World,是快捷、出众、可靠的电镜成像分析设备,主要应用于材料科学,生命科学,工业制造,地球科学,电子,鉴定,教育等领域。飞纳台式扫描电镜自推出以来,深受广大高校老师和学生的欢迎。 飞纳电镜独特的集成化设计,体积小巧,主无需配备专业的实验室,提供在诸多领域中要求的高分辨率以及高质量分析成像。高性价比、操作简便、快速成像的飞纳台式扫描电镜成为工程师,技术员,研究员以及科教专家观测微米以及纳米结构的首选。飞纳电镜具有以下主要优点:1)15 秒抽真空,30 秒快速成像,无需喷金,可直接观测样品;2)独家配置光学导航,方便用户实时定位扫描样品的位置;全触控界面及自动马达样品台,操作便捷;3)是世界上唯一采用 CeB6 灯丝的台式扫描电镜,寿命长(1500 小时,是普通钨灯丝寿命的 20-30 倍)、亮度高、色差低,图像细腻;4)独有的防震设计,能够最大限度的减小外界环境对电镜的干扰,采用软件保护硬件模式,对于电镜起到很好的保护作用;5)功能多样化的样品杯及软件拓展功能;应用软件终生免费升级,国外工程师可 24 小时通过网络对电镜的性能进行监测和调试,后期维护简单。 二、台式X射线荧光光谱仪 作为元素成分分析的一种方法,帕纳科台式 XRF 在环保领域、食品领域、材料领域、化学化工等众多领域有着广泛的应用。XRF 是一种物理分析方法,相比于化学方法,XRF 无需强酸消解等样品前处理步骤,不会产生二次污染,操作简单,检出限可达到 ppm 级。 帕纳科作为飞利浦的分支机构,现已成为全球最大的 X 射线分析仪器生产厂家,是专业的 X 射线仪器制造商。帕纳科台式 XRF 继承了飞利浦节能高效的传统,采用最新一代硅漂移探测器,具有优越的性能。其主要特点如下: 1.提供快速简单精确的元素分析方法,一般 3 分钟即可得到检测结果;2.超高的分辨率(135eV)以及优秀的检出限(ppm 级到亚 ppm 级),可检测元素范围 C(6)-Am(95);3.对样品状态的强大兼容性,可以测试规则、不规则样品、粉末样品、熔融样品以及液体样品等;4.超快学习上手性能,仅需简单培训即会操作使用;5.自主提供的独特的陶瓷光管,实现完美的仪器匹配和光管超长寿命;6.超小占地面积,占地面积不超过 0.2 平米;7.无损分析,无需强酸消解。在测定中不会引起化学状态的改变,同一试样可反复多次测量,重现性好。 三、台式离子研磨抛光仪:台式离子研磨抛光仪一台高质量的 SEM 样品制备台式精密仪器,满足几乎所有材料应用的样品制备。Fishione 具有目前最先进技术的离子研磨抛光系统,设计精巧,操作方便,性能稳定。可用于制备各种材料的高质量扫描电镜样品,满足苛刻的成像及分析所要求的样品制备。台式离子研磨抛光仪进行加工的材料来源种类十分广泛,包括由多元素组成的试样,以及具有不同机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝焊缝截面、集成电路焊点、芯片 BGA 切片、多层薄膜截面、颗粒纤维断面、复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的 SEM 样品。台式离子研磨抛光仪具有以下特点:1、具有高能量双离子束源,可同时聚焦在样品表面,大大提高了研磨抛光速度;2、具有预真空锁,将真空舱体与外部环境隔离,保证样品转移过程中极佳的真空环境;3、可以对样品进行实时的原位观察;4、具有高度自动感应功能,同时可利用编程对样品进行重复定位、调节旋转速度和往复摆动角度。
  • 2024高端研磨抛光材料技术大会圆满闭幕
    2024年7月9日,由中国粉体网主办的“2024高端研磨抛光材料技术大会”在河南郑州高新假日酒店隆重召开!本次大会聚焦高端研磨抛光材料应用及技术难点,面对行业的新机遇和新挑战,深入探讨了当前高端研磨抛光行业的发展方向,共寻产学研用交流合作。大会云集了高端研磨抛光材料及仪器装备企业,科研院所以及半导体等终端企业的 300多位行业精英。大会此次特邀我司总经理采访对话并在大会发言演讲:“高速离心纳米粒度仪在超硬材料和高效研磨领域的应用”。我司代理的美国CPS高精度纳米粒度分析仪一直服务于超硬材料、抛光液、氧化粉材料的TOP企业,帮助企业解决了纳米材料粒径的真实粒径分布测量,特别是100nm超细粒径的粒径测试,得到客户的认可,复购率逐年增加。此次展会让更多的企业了解我们仪器的解决方案,再次感谢您对儒亚科技的支持和关注,我们将继续努力不断创新产品,为全行业提高更优质的产品和一体化解决方案!落幕不散场,期待与您再次相遇!

精密研磨抛光系统相关的方案

精密研磨抛光系统相关的资料

精密研磨抛光系统相关的试剂

精密研磨抛光系统相关的论坛

  • 抛光和研磨

    复合材料里有紫铜和铁粉,要想抛光看金相,应该使用多少目的砂纸和研磨膏[img]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/12/202112160955500364_8889_5489251_3.png[/img]

精密研磨抛光系统相关的耗材

  • Allied研磨抛光系统
    Allied研磨抛光系统MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备,可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案,适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序,包括研磨盘的转速、方向,时间,样品的转速,研磨样品的力度(开/关,%),液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩,可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前,独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂,并用一个控制阀轻易的实现流控制。本机附带所有常用研磨头,用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点: 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计,阳极电镀处理,耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围:10-400RPM。轻推速度范围:10-150RPM。电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高(381 × 686 × 584毫米)。重量:136lb.(62kg)。美国设计制造。规格: PH系列研磨头规格:AD-5液体自动配送器提供自动的,无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机,或者可以作为一个独立的系统,使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致,提供良好重复性的结果,这增加了在实验室的生产率和效率,同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程,使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置,其中两个包含一个冲洗周期,以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。
  • 精密楔形研磨抛光具
    精密抛光具可用于光学显微镜,扫描电子显微镜及原子力显微镜样品的常规制备,也可通过有角度的研磨抛光得到楔形样品进行透射电镜表征观察和聚焦离子束微纳加工,再研磨抛光的过程中可适时在光镜下观察样品的状态。
  • OptiPrepTM光学元件抛光系统
    OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光,包括:1) 套圈(Ferrules):陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器(Connectors):MT/MT-RJ,ST,SC/FC(APC)3) 波导(Waveguides)4) 硅V形槽(Silicon V-groove)5) 光学芯片(Optical chip)6) 毛细管/玻璃镜片(Capillary/Glass Lenses)7) 光纤束(Fiber Bundles)8) 带状光纤(Ribbon Fiber)9) 裸光纤(Bare Fiber)双测微计(俯仰和侧滚)设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能,一方面可以实时监测,另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度,可以最大限度地利用整个研磨抛光盘,减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能,既可以处理精密的小样品,也可以处理大样品。特点:1) 可变转速:5-350 RPM,增量5 RPM;2) 触控开关控制所有功能;3) 1/4 HP(190W)电机,具持久减速齿轮箱,提供高扭矩输出;4) 数字计时器和转速表;5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制;6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转;7) 快速更换研磨盘设计,阳极氧化抗磨损和腐蚀;8) 耐腐蚀/冲击表面;9) 碗型冲洗防止碎片堆积;10) 带有调节阀的电子冷却控制装置;11) 前置数字指示器显示实时材料去除量(样品行程);12) 后置数字指示器显示垂直定位(静态),具有调零功能,分辨率1μm;13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘,并可以同时旋转;14) 6倍速样品自动摆动,可调节;15) 8倍速样品自动/半自动旋转;16) 凸轮紧锁系统,无需工具,可以精确定位夹具;17) 尺寸:15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm);18) 重量:95 lb. (43 kg);19) 装运尺寸:33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm);20) 装运重量:125 lb. (57 kg);21) 符合CE标准;22) 美国Allied公司设计制造。产品附件:
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