精密研磨抛光系统

Allied研磨抛光系统MetPrepTM和DualPrepTM 系列研磨抛光机适用于手工样品制备和半自动样品制备，可配置PH系列研磨头。不同的组合提供理想的解决方案，适应任何应用程序、实验室或材料。它的微处理器能够编程控制25个菜单程序，包括研磨盘的转速、方向，时间，样品的转速，研磨样品的力度（开/关，%），液体配送和喷淋控制。强力的传动电动机能够保证充足的扭矩，可以满足各种应用需求。研磨盘可以自由选择顺时针或逆时针旋转的速度。在工作启动前，独特的研磨盘轻推设计可以控制研磨剂和添加剂。采用一个电子螺线管供应冷却剂，并用一个控制阀轻易的实现流控制。本机附带所有常用研磨头，用户可以根据需要自由更换。可选设备AD-5的自动液体配送功能,用于在无人操作条件下自动完成预置的工作。特点： 采用触摸按键控制所有功能。研磨盘可随意的顺/逆时针旋转。背射光 LCD 显示。坚固的铝/钢机身结构。新式研磨盘设计，阳极电镀处理，耐磨损耐腐蚀。保护罩抗腐蚀抗冲击。研磨盘速度范围：10-400RPM。轻推速度范围：10-150RPM。电子冷却采用阀门调节控制。密码保护功能。15"宽× 27"深× 23"高（381 × 686 × 584毫米）。重量：136lb.（62kg）。美国设计制造。规格： PH系列研磨头规格：AD-5液体自动配送器提供自动的，无人值守的应用于研磨抛光悬浮液或润滑剂。它的功能可以应用于ALLIED的MetPrep3、MetPrep 4和DualPrep3研磨/抛光机，或者可以作为一个独立的系统，使用于任何品牌的抛光机。定时、量控、可变频率分配可以消除操作者之间的不一致，提供良好重复性的结果，这增加了在实验室的生产率和效率，同时降低耗材使用。直观的菜单导航和简单的逻辑编程，使自动配送器很方便的被使用。AD-5有5个定位配送装置，其中两个包含一个冲洗周期，以防止使用胶体悬浮液时堵塞。蠕动泵技术使得抛光表面不会产生雾气水滴。

精密抛光具可用于光学显微镜，扫描电子显微镜及原子力显微镜样品的常规制备，也可通过有角度的研磨抛光得到楔形样品进行透射电镜表征观察和聚焦离子束微纳加工，再研磨抛光的过程中可适时在光镜下观察样品的状态。

OptiPrepTM光学元件抛光系统—OptiPrepTMOptical element Polishing SystemOptiPrepTM抛光系统设计用于多种光学部件的抛光，包括：1) 套圈（Ferrules）：陶瓷、玻璃、不锈钢、塑料2) 连接器（Connectors）：MT/MT-RJ，ST，SC/FC（APC）3) 波导（Waveguides）4) 硅V形槽（Silicon V-groove）5) 光学芯片（Optical chip）6) 毛细管/玻璃镜片（Capillary/Glass Lenses）7) 光纤束（Fiber Bundles）8) 带状光纤（Ribbon Fiber）9) 裸光纤（Bare Fiber）双测微计（俯仰和侧滚）设计允许精密样品相对于抛光平面进行倾斜调整。刚性的Z向主轴确保预置的几何角度在整个研磨或抛光工艺过程都保持稳定。数字指示器设计使得量化材料去除量成为可能，一方面可以实时监测，另一方面可以在无人值守时进行预置。可变的转动和摆动速度，可以最大限度地利用整个研磨抛光盘，减少人为痕迹。可调负载控制扩展了设备性能，既可以处理精密的小样品，也可以处理大样品。特点：1) 可变转速：5-350 RPM，增量5 RPM；2) 触控开关控制所有功能；3) 1/4 HP（190W）电机，具持久减速齿轮箱，提供高扭矩输出；4) 数字计时器和转速表；5) 为OptiPrep?定位装置的操作集成控制；6) 研磨盘可以顺/逆时针旋转；7) 快速更换研磨盘设计，阳极氧化抗磨损和腐蚀；8) 耐腐蚀/冲击表面；9) 碗型冲洗防止碎片堆积；10) 带有调节阀的电子冷却控制装置；11) 前置数字指示器显示实时材料去除量（样品行程）；12) 后置数字指示器显示垂直定位（静态），具有调零功能，分辨率1μm；13) 精密主轴设计确保样品垂直于研磨盘，并可以同时旋转；14) 6倍速样品自动摆动，可调节；15) 8倍速样品自动/半自动旋转；16) 凸轮紧锁系统，无需工具，可以精确定位夹具；17) 尺寸：15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)；18) 重量：95 lb. (43 kg)；19) 装运尺寸：33" W x 31" D x 15" H (838 x 787 x 381 mm)；20) 装运重量：125 lb. (57 kg)；21) 符合CE标准；22) 美国Allied公司设计制造。产品附件：

主要特点 1、可对样品进行研磨减薄和精细抛光处理 2、全数显式控制转速 3、进水和排水一体化设计，方便操作 4、采用耐腐蚀的不锈钢机体 5、固定和可调两种转速模式设计 6、结构设计坚固合理，使用寿命长

主要特点 1、可对样品进行研磨减薄和精细抛光处理 2、全数显式控制转速 3、进水和排水一体化设计，方便操作 4、采用耐腐蚀的不锈钢机体 5、固定和可调两种转速模式设计 6、结构设计坚固合理，使用寿命长

蓝宝石研磨抛光笔采用上等的蓝宝石作为研磨抛光头，可对精密器械某些零部件进行研磨抛光处理。研磨抛光对象可以是硬钢、碳化物、玻璃陶瓷等软硬材料。刀尖规格：1.5× 2.3× 14mm刻刀全长：120mm

Radian™ 系统能够以用户可选择的可变角度抛光光纤。可互换适配器适用于各种直径和材料类型的光纤。高速加工可对裸光纤、玻璃棒或光纤束进行抛光。旋转台可与各种工件夹具互换，用于抛光光纤连接器。 Radian™ 是实验室、研发和小批量制造应用的理想选择。将 Radian' s™ 的多功能性扩展到裸光纤处理之外。适配器可用于抛光各种行业标准和定制连接器/套圈类型，以及杆/透镜。将组件抛光成平面、UPC 和有角度的几何形状。技术参数研磨光纤参数角度范围0度至45度角度重复性± 0.5度研磨速度可用户调节研磨片尺寸4”备注：Radian™ 研磨机的精密转动平台可以连续调节以实现大范围光纤尖部角度研磨研磨角度可调可支持连接头研磨 示例图相关问答总结1、你好，60°可以抛光吗？也许使用更长的光纤支架？是的。 Radian 和 NOVA 均提供适配器，可将抛光角度扩展至 60 度。我们将直接通过电子邮件发送两个系统的报价单。2、Radian 和 NOVA 裸纤抛光机有什么区别？基本上，NOVA 具有 Radian 的所有功能，并增加了 1) 视频检测 2) 自动化和可编程 3) 多光纤支持，4) 连接器支持等等。3、抛光速度是否可调？是的，压板旋转速度可由用户控制。产品特点● 角度可以调节（0-45deg）● 可付费升级更换成裸芯片研磨机● 精度高● 抛光速度可调产品应用光纤激光器半导体加工

金刚石研磨抛光片适用于：集成电路交叉切片TEM /FIB前的样品打薄处理非密封试样抛光光纤研磨（4英寸和5英寸都可以）微米（um）8”（不带背胶）8”（带背胶）10”（不带背胶）12”（带背胶）12”（不带背胶）3550-3003850-3011850-312383050-3004050-3012050-3104050-3016050-312401550-3004550-3012550-3016550-31245950-3005050-3013050-3017050-31250650-3005550-3013550-3105550-3017550-31255350-3006050-3014050-3106050-3018050-31260150-3006550-3014550-3106550-3018550-312650.550-3007050-3015050-3107050-3019050-312700.2550-3007350-301530.150-3007550-3015550-3019550-31275组合包50-30076 (每个微米精度各1张)50-30156 (每个微米精度各1张)B型金刚石研磨片B型金刚石研磨片的金刚石颗粒中含有树脂聚合迈拉膜的陶瓷珠。随着陶瓷珠的磨损，新的金刚石颗粒暴露出来以允许连续的、强力的材料研磨。与标准金刚石研磨片相比，B型膜片提供了一级级的粗磨，通常是用于封装的样品。微米（um）8”（不带背胶）8”（带背胶）12”（带背胶）950-30050B50-30130B50-30170B650-30055B50-30135B50-30175B350-30060B50-30140B50-30180B150-30065B50-30145B50-30185B0.550-30070B50-30150B50-30190B氧化铝、碳化硅和氧化硅研磨片分为氧化铝、碳化硅和硫化硅三种，分别是由聚酯薄膜涂以含有氧化铝、碳化硅、氧化硅粒子的树脂所组成的。推荐用于细磨和研磨那些边缘保持很重要的样品。氧化铝：用于铁的材料、玻璃的研磨碳化硅:推荐用于有色金属和聚合物研磨氧化硅:建议作为一种替代胶和布的材料进行SEM和TEM样品最后的抛光。特点：*微米级优质磨料在30到0.01微米等级下精密生产完成*高精度的保证均匀性和平面度*抗水、油和大多数溶剂*颜色编码可快速分辨*用于封装或非封装的样品*不推荐用于研磨头的应用微米（um）氧化铝（不带背胶，pk/50）氧化铝（带背胶，pk/50）碳化硅氧化铝（pk/50）氧化硅3050-2004050-200751550-200801250-20045950-2005050-2012050-20085550-2005250-2012350-20090350-2005550-20125150-2006050-2013050-200950.350-2006550-201350.0550-200670.0150-20097（pk/20）组合包50-20070（每个微米精度各10张）50-20070（每个微米精度各10张）

1. 金刚石抛光膜DIAMOND LAPPING FILM钻石颗粒，背衬是3mil厚度的涤纶。大小8英寸和12英寸两种可选，粒度大小可选，背衬有粘附（PSA）和不粘附（PB）两种，单张起售。货号产品名称规格50350-01Diamond Lapping Film， P/B, 0.1um8英寸50350-03Diamond Lapping Film， P/B, 0.25um8英寸50350-05Diamond Lapping Film， P/B, 0.5um8英寸50350-10Diamond Lapping Film， P/B, 1um8英寸50350-15Diamond Lapping Film， P/B, 3um8英寸50351-01Diamond Lapping Film， PSA, 0.1um8英寸50351-02Diamond Lapping Film， PSA, 0.25um8英寸50351-03Diamond Lapping Film， PSA, 0.5um8英寸50351-04Diamond Lapping Film， PSA, 1um8英寸50351-05Diamond Lapping Film， PSA, 3um8英寸2. 研磨纸1um的金刚石抛光膜抛光后紧接着用到的“蓝研磨纸”和“绿研磨纸”。样品最终观察前的最后抛光程序用到。可以呈现一个完美平整无痕的观测平面。只有8英寸一个规格，背衬有粘附(PSA)和不粘附（PB）之分。单张起售。货号产品名称规格50336-PBTrue Blue Film 蓝研磨纸8英寸（20.3cm）50338-PBFinal Green Film 绿研磨纸8英寸（20.3cm）50336-PSATrue Blue Film8英寸（20.3cm）50338-PSAFinal Green Film8英寸（20.3cm）

主要特点 1 、超平抛光盘（ 平面度为每2 5 × 2 5 m m 小于 2.5&mu m） 2、超精旋转轴（托盘端跳小于0.010mm） 3、两个加工工位 4、带有数字式显示的无级调速 5、可自动停止工作的定时器 6、可配备自动送液的滴料器或循环泵

氧化铝和碳化硅研磨/抛光垫由微米极，高强度聚酯为微米极均匀分散的碳化硅或氧化铝颗粒提供统一的基底，可重复使用，主要应用于金属，塑料，金相学，薄膜，软盘，光线连接器的研磨抛光，尺寸：8英寸包装：25张/包

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光膏美国QMAXIS金刚石抛光膏，高品质的金相研磨抛光膏，用于以玻璃、陶瓷、硬质合金等高硬度材料制成的量具、刃具、光学仪器、医疗器械和其它高光洁度工件的加工，以及金相试样制备的研磨抛光。尤其适用于易被金刚石颗粒嵌入的、对水敏感的材料的研磨抛光。既有PolyPaste 多晶金刚石抛光膏，也有MonoPaste 单晶金刚石抛光膏。订货信息如下：PolyPaste 多晶金刚石和MonoPaste 单晶金刚石抛光膏

美国QMAXIS研磨抛光片原装进口美国QMAXIS研磨抛光片，是将微米级、纳米级的金刚石、或氧化铝、或碳化硅微粉，用高分子粘合体系均匀地涂布在高强度的Mylar片（麦拉片）表面，具有出色的平整度、边缘保持和共面性。研磨抛光片适用于玻璃、陶瓷、硬质金属、复合材料、光纤、光学元件、半导体、芯片、电路板以及用于SEM和TEM分析的微电子元器件的研磨、减薄和抛光。适合手动研磨抛光，干法、湿法均可。订货信息：DiaFilm 金刚石研磨抛光片 包装规格：5片/包颜色粒径8in [203mm] 带背胶8in [203mm] 不带背胶绿色30μmGFD-08-30GFDX-08-30橙色15μmGFD-08-15GFDX-08-15蓝色9μmGFD-08-9GFDX-08-9棕色6μmGFD-08-6GFDX-08-6粉红色3μmGFD-08-3GFDX-08-3淡紫色1μmGFD-08-1GFDX-08-1灰白色0.5μmGFD-08-05GFDX-08-05浅灰色0.1μmGFD-08-01GFDX-08-01订货信息：AlumiFilm氧化铝研磨抛光片 包装规格：100片/包颜色粒径4in [102mm] 带背胶8in [203mm] 带背胶绿色30μmGFA-04-30GFA-08-30黄色12μmGFA-04-12GFA-08-12蓝色9μmGFA-04-9GFA-08-9粉红色3μmGFA-04-3GFA-08-3淡绿色1μmGFA-04-1GFA-08-1白色0.3μmGFA-04-03GFA-08-03订货信息：CarbiFilm碳化硅研磨抛光片 包装规格：100片/包粒径4in [102mm]带背胶5in [127mm]带背胶8in [203mm]带背胶30μmGFC-04-30GFC-05-30GFC-08-3012μmGFC-04-12GFC-05-12GFC-08-129μmGFC-04-9GFC-05-9GFC-08-93μmGFC-04-3GFC-05-3GFC-08-31μmGFC-04-1GFC-05-1GFC-08-1

产品简介：磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。产品型号磁性树脂金刚石研磨抛光盘技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ200mm、Φ300mm、Φ381mm如有特殊要求请与我司销售人员联系！

美国QMAXIS金刚石研磨抛光盘美国QMAXIS金刚石磨盘，适用于试样的研磨阶段——高去除率，良好的边缘保持，平整的表面。不仅减少研磨步骤，缩短制样时间，而且节约砂纸、抛光布和抛光液的使用，更经济。定期使用磨石对其表面进行修整，可提高试样表面的效果，延长磨盘使用寿命。——FlexiDGD 柔性金刚石磨盘，磁性被衬——MetDGD 金属粘接金刚石磨盘，带背胶FlexiDGD 柔性金刚石磨盘FlexiDGD柔性金刚石磨盘以更高的去除率，只用几个不同微米数的磨盘即可完成研磨过程，从而简化了研磨步骤，缩短了试样制备时间。FlexiDGD可代替传统的碳化硅砂纸，更经济、更快捷，试样表面更光洁。FlexiDGD在使用过程中用水冷却。订货信息如下：FlexiDGD 柔性金刚石磨盘 磁性背衬 包装规格：1片/包MetDGD 金属粘结金刚石磨盘MetDGD金属粘结金刚石磨盘的基层是钢板，锋利、块状的金刚石颗粒通过电镀粘结到钢板上。MetDGD用于高硬度材料，如金属和陶瓷等的粗磨至精细研磨。MetDGD在使用过程中用水冷却。订货信息如下：MetDGD 金属粘结金刚石磨盘 带背胶 包装规格：1片/包金刚石磨盘磨石Dressing Stick 磨石，用于修整新的或者使用后的金刚石磨盘，不仅可以去除残留在金刚石磨盘表面的研磨屑，而且可有效延长金刚石磨盘的使用寿命。订货信息如下：

美国QMAXIS金相研磨抛光专用金刚石抛光膏原装进口美国QMAXIS金刚石抛光膏，含有高浓度的金刚石，与水基、或酒精基、或油基的抛光冷却润滑液配合使用。广泛用于不规则样品的手动研磨抛光，尤其适合易被金刚石颗粒嵌入的和对水敏感的材料的研磨和抛光。PolyPaste多晶金刚石抛光膏MonoPaste单晶金刚石抛光膏订货信息：PolyPaste 多晶金刚石抛光膏颜色粒径10g/支白色0.25μmPPP-025-10灰色1μmPPP-1-10黄色3μmPPP-3-10橙色6μmPPP-6-10绿色9μmPPP-9-10蓝色15μmPPP-15-10订货信息：MonoPaste 单晶金刚石抛光膏颜色粒径5g/支20g/支白色0.25μmPMP-025-5PMP-025-20灰色1μmPMP-1-5PMP-1-20黄色3μmPMP-3-5PMP-3-20橙色6μmPMP-6-5PMP-6-20绿色9μmPMP-9-5PMP-9-20蓝色15μmPMP-15-5PMP-15-20

磁性树脂金刚石研磨抛光盘适用于UNIPOL系列研磨抛光机。技术参数1、粒度：80#、120#、150#、180#、240#、320#、400#、500#、600#、800#、1200#、1500#、1800#、2000#2、直径：Φ150mm、Φ200mm、Φ250mm、Φ300mm、Φ320mm、Φ381mm

产品分类：吉致碳化硅研磨抛光半导体晶圆抛光产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅sic研磨垫/sic精抛垫产品特点：吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。产品工艺及用途：适用于sic碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。吉致sic碳化硅抛光液储存方法：通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射，零度以下因产生不可再分散结块而失效。吉致cmp抛光液/slurry抛光液价格：吉致的cmp金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致抛光液品质可以替代进口同类产品。本土化生产的优势使吉致cmp抛光液产品交货周期快，抛光液价格实惠亲民。吉致cmp抛光耗材适用范围吉致拥有成熟的加工工艺和生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

美国QMAXIS磨盘更换系统美国QMAXIS磨盘更换系统，包括工作铝盘、磁性盘、铁盘及橡胶盘等，满足各工艺阶段不同研磨、抛光材料的更换。精工制造的品质，人性化的设计，无需工具即可快速更换，省时、省力、耐用。订货信息如下：

产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

主要特点 1、本机动作模仿人手操作，下盘不动， 由上压杆带动样品做8字形往复运动。 可 做调整， 研磨压力及速度均可做调整。 2、采用多机同时工做，可实现无人看守快 速抛光。 3、该机价格便宜，经久耐用，操作方便。

总览Cila 2.0 连接器和电缆组件光纤抛光和检查系统可以利用精密机器设计、专业开发的抛光菜单和在线明场检查来抛光和检查所有商业和军用风格的光纤电缆组件。自动化、耐用、低运营成本和人体工程学是 Cila 的主要优势。技术参数产品特点坚固耐用、符合人体工程学的设计和构造自动化，按钮操作自动气磨功能取代了大多数其他机器的手动去毛刺操作通用、UPC型工件夹具将容纳所有商用光纤连接器，包括FC、ST、SC、LC、MU、SMA型，以及所有圆形、环保、公母MIL型连接器专用于FC/APC、SC/APC、LC/APC和MIL型斜角终端的工作支架抛光端面的明视场视频检测高产能工艺的一致性–通常是45秒的产能/UPC连接器符合行业公认的端面公差，常见一次通过率为98%下面的图表详细说明了在Cila 2.0上抛光的二十个SC连接器，然后对其进行干涉检查。左:MIL样式 右:LC/UPC、SC/UPC、FC/APC、SMA气隙

产品名称：铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务李女士17706168670

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介：为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料，适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在蓝宝石基片抛光应用中提供了可靠的解决方案。吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。3.避免敞口长期与空气接触。吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使得吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠的抛光解决方案！

美国QMAXIS磨盘更换系统原装进口美国QMAXIS磨盘更换系统，包括铝盘、磁性盘、铁盘、特氟龙特盘、橡胶盘和砂纸卡箍，选择多样，组合灵活，可快速更换不同的研磨、抛光材料，省时、省力。订货信息：类型产品描述包装规格产品编号8in[203mm]10in[254mm]12in[305mm]Aluminum Platen铝盘工作铝盘，用于粘贴磁性盘；不带背胶的砂纸用砂纸卡箍直接固定在铝盘上1个/包GPA-08GPA-10GPA-12MagDisc磁性盘带背胶，用于吸附铁盘、特氟龙铁盘或橡胶盘，也可以直接吸附带磁性背衬的金刚石磨盘或抛光布1片/包GPM-08GPM-10GPM-12MetDisc铁盘标准金属盘，用于粘贴带背胶的金刚石磨盘、砂纸或抛光布5片/包GPI-08GPI-10GPI-12TefDisc特氟龙铁盘带特氟龙不粘涂层，易于粘贴和移除带背胶的金刚石磨盘、砂纸或抛光布5片/包GPT-08GPT-10GPT-12RubberDisc橡胶盘磁性/带背胶，与磁性盘配合使用，用于粘贴不带背胶的砂纸。替代金属盘，弥补金属盘盘面易变形、盘边易出现凸凹或毛刺等缺陷。防腐、耐用，更经济5片/包GPR-08GPR-10GPR-12PaperBand砂纸卡箍用于固定不带背胶的砂纸个GPB-08GPB-10GPB-12

金刚石喷雾抛光剂广泛应用于TEM、SEM、光学显微镜及金相等领域的精密研磨、抛光工作。其金刚石喷洒均匀，适合手动与半自动抛光，具有显著的优越性。 可提供不同规格（粒度）的抛光剂，以应用于不同材料。

无锡吉致电子25年研发生产——钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.我司产品优点： 1.悬浮性好，不易沉淀，使用方便。2.颗粒分散均匀，不团聚，软硬度适中，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷。3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。4.分散性好、乳液均一，程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度。5.无粉尘产生，关注环保和人体健康安全。可定制化：我们的抛光液可以根据客户需求定制不同的PH、粒径、浓度、稳定离子等。包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。本土化生产使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。吉致电子CMP抛光耗材适用范围吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效抛光解决方案！

总览Bare Fiber Polishing and Inspection,Cila 2.0裸光纤抛光和检测系统可以有效地获取、对齐、定位和抛光大量形状奇特的裸光纤。内置检测系统，提供高分辨率成像和参考，使其在对公差要求高的应用方面有突出表现，如在抛光角度、径向对准(PM光纤)和精确光纤突出长度等方面。技术参数产品特点该配置支持高价值光纤组件的单组抛光用于过程监控和检测的高分辨率视频检测系统。角度精度:±0.05度，线性精度:±5um可在0-82度范围内通过数字读数进行精确角度调整未切割的裸光纤抛光(单层或带状)保偏光纤对准和抛光刻面、雕花和其他复杂的端面抛光精确测量长度、角度和径向对准的计量选项 可调角度抛光读数 PM光纤用强力构件进行角度抛光，以实现角度对准 裸光纤抛光-棱纹、凿纹、锥形、直形、角形 在线端面检查和轮廓观察AOL开放实验室报告单 以下由AOL实验室人员填写：测试日期2021.12.20测试工程师 戴佳豪测试产品MP-BFPS裸纤研磨及观察系统、塑料光纤审核 王秀祥实验目的测试MP-BFPS裸纤研磨及观察系统研磨塑料光纤效果实验仪器MP-BFPS裸纤研磨及观察系统、塑料光纤 塑料成像光纤，直径0.5mm研磨前端面检测图1um金刚石研磨后端面检测图最终抛光后端面检测图

MetaDi钻石悬浮液和浆料是高质量的单晶和多晶金刚石抛光产品，可提供可重复的性能并提供出色的样品质量。 严格控制Buehler的MetaDi钻石悬浮抛光剂和糊剂产品，以防止粒径或浓度出现任何偏差。 这样可确保每个样品的抛光结果均具有可重现性，并具有高质量的表面光洁度。 基于微米尺寸的颜色编码的钻石悬浮液和糊剂有助于防止抛光表面上的交叉污染。 由于对水的敏感性或钻石的嵌入，某些材料与传统的水基悬浮液不兼容。 与水敏感的材料一起使用时，油基MetaDi单晶金刚石悬浮液以及MetaDi金刚石浆料提供了多种选择。最终抛光悬浮液旨在去除表面变形的最后一层，并准备样品进行分析。 肉眼可能看不到变形，但是对于某些标本分析技术，必须将其消除。金刚石抛光金刚石悬浮液及研磨膏 规格产品金刚石类型材料去除表面变形应用MetaDi Supreme 多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小最快的材料去除和最小的表面变形MetaDi Supreme 无色多晶金刚石悬浮液多晶最佳极小适用于容易被染色且会影响图像分析的材料MetaDi 单晶金刚石悬浮液单晶较好小对于大多数材料来所去除效果较好MetaDi 油基单晶金刚石悬浮液单晶较好小适用于水敏感的材料MetaDi Suspension 稀释单晶金刚石悬浮液单晶较好小与自动化系统一起使用时，悬浮液和增量液组合可保持一致性MetaDi 超多晶研磨膏多晶较好极小适用于需要高效去除且容易嵌入金刚石颗粒的软材料MetaDi 单晶研磨膏 (天然)单晶好小高浓度的金刚石研磨膏适用于容易嵌入金刚石颗粒的材料MetaDi II 单晶研磨膏 (合成)单晶好小中等高浓度的金刚石研磨膏适用于非常容易嵌入金刚石颗粒的材料最终抛光产品类型范围应用MasterPrep 氧化铝氧化铝终抛液0.05µ m~8.5pH较适合铸铁、钢、不锈钢、铜、聚合物、矿物质、微电子、贵金属MasterMet 硅胶硅胶终抛液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterMet 2 非结晶硅胶非结晶硅胶终抛液适用于抛光液配送系统0.02µ m~10.5pH化学-机械的抛光方法，较适合铝、难熔金属、微电子中的硅、陶瓷MasterPolish 终抛混合高浓度氧化硅和硅胶的终抛液0.05µ m~9pH含有极少量水分，适用于水敏感材料，适用于大多数镁合金、钴合金、大多数铁合金、镍和金属基复合材料MasterPolish 2 终抛氧化铁抛光液0.06µ m~10pH化学-机械的抛光方法，适用于蓝宝石、玻璃、氧化铝、氮化硅和金属/陶瓷复合材料MicroPolish Alumina 氧化铝团聚氧化铝终抛液与相同颗粒尺寸的其他氧化铝终抛液相比，具有更高的去除率颗粒尺寸可选： 0.05µ m、0.3µ m、 1µ m适用于镁、铅及其合金，提供抛光液和抛光粉两种选择MicroPolish II Alumina 氧化铝高质量的非团聚氧化铝终抛液比结晶氧化铝终抛液可得到更高质量的表面颗粒尺寸可选：0.3µ m、 1µ m适用于大多数矿物和金属，提供抛光液和抛光粉两种选择

根据研磨的精细程度，金刚石的粒度有大有小。粒度一半都是用微米来表示，粒度越小，越适合精抛，粒度越大越适合粗抛，重复性稳定性一致，去除划痕，效果区分明显。金刚石悬浮抛光液适合手动和全自动抛光，使用起来非常方便，是由金刚石微粉组分的。产品特点1、普通磨料：单晶，灰色状液体，通用性强、性价比高、磨削力强 ，悬浮均匀无沉淀2、进口磨料：进口磨料彩色状液体，有效预防不同粒度交叉污染、磨削力强、耐用，重复性稳定性一致，去除划痕，效果区分明显3、多晶磨料：多晶金刚石磨料、低变形、悬浮性好，磨削力强，研磨效果好，重复性稳定性一致，去除划痕，防止圆角产生效果区分明显1、 每一颗金刚石磨粒均经国际先进气流粉碎工艺而成，完全保证了金刚石的纯度和磨削性能5、采用严格的分级粒度，金刚石颗粒形貌呈球形八面体状，粒径尺寸精确、公差范围窄，使研磨效果更好划痕去除率更高，新划痕产生更少6、原料均符合环保要求、无毒，不含易燃的水基材料7、金刚石悬浮液中含一定剂量的冷却润滑组分，实现了金刚石经久耐磨的磨抛力与冷却、润滑等关键性能有效结合产品规格型号特性粒度容量MDS单晶悬浮液广泛应用于超硬材料、硬质合金等硬质材料的研磨抛光；既可以提高磨削速率，又可以将磨削过程中产生的大量热量迅速排走，从而避免工件表面被烧伤0.05um、0.25um、0.5 um、1 um、1.5 um、 2.5 um、3 um、 3.5 um、 5 um、 6 um、7 um、9 um、10 um、 14 um、15 um、20 um、28 um、 40 um500ml/瓶4L/瓶PDS多晶悬浮液磨抛过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤，为后续精密抛光加工提供了良好的条件，广泛应用于光学晶体、陶瓷、超硬材料。0.5 um、1 um、3 um、、 6 um、9 um200ml/瓶500ml/瓶