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[url=http://www.huaketiancheng.com/][b]ICP光谱仪[/b][/url]低温干灰化法又称氧等离子灰化法或低温干灰化,是用电激发的氧分解生物试料的专用低温灰化器,在相对温度比较低的情况下灰化,其挥发速度和等离子的流速、时间、功率和试的体积有关,其装置由消化室、供应系统、真空系统和高频电源组成。 其原理是:氧受高频出频电场激发产生的氧等离子体具有很强的氧化能力,使试料在(100~150)℃,有时市也在(60~70)℃下缓慢氧化,除去有机物,金属元素留在灰分中。该方法解决了高温干灰化头公期说发、滞留和吸附而损失痕量元素等问题,但是用该法灰化银、金、汞、卤素等元素损失依然严重,消化时间因试料而定,一般需要(4~8)h。 该技术主要优点是:有些元素Se As sb,pb、cd等较易挥发元素在低温灰化期间依然留在残渣里,解决了因污染和挥发损失以及湿法灰化中的某些不安全性;试料被金属污染的概率很小,回收率高。比如测定动物组织中的铍、镉和碲等易挥发元素及糖和面粉等试料的前处理就是采用这种低温干灰化法。
[em09509]“将沉淀(6-2.5)连同滤纸放入已恒重的铂坩埚中。低温灰化后,于850℃高温炉中灼烧40 min,取出后放入干燥器中冷至室温,称重。反复灼烧至恒重。”上面提到的低温灰化,是如何操作的?温度是多少?要放在马弗炉中吗?纸着起来后不会把炉内壁熏黑吗?
RT需要编制项目建议书,要求填写灰化仪一台,要求给出生产厂家、型号/规格、价格,必要的技术参数等离子清洗、刻蚀、灰化仪(Plasma Unit) 型号:K1050X 参考价格:面议 产地:英国 K1050X等离子清洗、刻蚀、灰化仪是针对实验室应用设计的,桶形的反应腔保证样品清洗、刻蚀、灰化的各向同性,抽屉式样品室门方便安装样品。可采用两种气体做为刻蚀源,氧气用于清洗样品表面污染,氩气用于表面刻蚀。 低温、“干洗”、易于控制是K1050X等离子清洗、刻蚀、灰化仪的最大特点。其原理是气体经等离子发生器电离成离子状态,能量在50~150电子伏特的离子流经样品表面,与样品表面的材料反应生成相应的气体,由真空系统排出反应腔,整个过程在样品表面不产生残留物,由于反应离子的能量低所以不损伤样品表面,由于过程不剧烈,所以刻蚀的过程易于控制。多种气源可以被用于不同的应用, 等离子发生器是一个水平布置的10cm直径 x 15cm深的石英腔体,有观察窗用于实时检测样品表面的异常变化,用90L/分钟的机械泵来达到等离子发生器的真空度,等离子发生器的功率最大到100W,功率和真空度可以调节以适应不同的应用,比如等离子清洗时可将功率调小而刻蚀则需要大功率。当需要得到一系列同等过程处理的样品时,可将系统设置为自动,自动控制功能启动时,系统会自动检测各参数变化从而得到可重复的结果。 对于经常并且长时间使用氧气进行灰化处理用户,我们建议采用抗氧化的泵及泵油,请在购买时说明选择Fomblin泵和Fomblin油。