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特性描述相关的耗材

  • 固相微萃取萃取头, 客户定制, 请描述具体的用途或规格, 灰色, 3支/盒c
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  • ProteCol™ – 产品描述和货号
    ProteCol&trade &ndash 产品描述和货号分析柱描述固定相孔径粒径柱类型内径长度货号ProteCol&trade -P C18 HQ105(具有极端惰性,适用于对惰性要求高的分析)C18 HQ100Å 5µ PEEK内衬4.6mm250mm250100C18 HQ100Å 5µ PEEK内衬4.6mm150mm250102C18 HQ100Å 5µ PEEK内衬2.1mm250mm250105C18 HQ100Å 5µ PEEK内衬2.1mm150mm250107ProteCol&trade -P C18 HQ103(具有极端惰性,适应于对惰性要求高的分析)C18 HQ100Å 3µ PEEK内衬2.1mm150mm250200C18 HQ100Å 3µ PEEK内衬2.1mm100mm250202ProteCol&trade -P C18 HPH125(对高PH值耐受性好,适用于较宽的PH范围)C18 HPH120Å 5µ PEEK内衬4.6mm250mm250110C18 HPH120Å 5µ PEEK内衬4.6mm150mm250112C18HPH120Å 5µ PEEK内衬2.1mm250mm250115C18 HPH120Å 5µ PEEK内衬2.1mm150mm250117ProteCol&trade -G C18 HQ305(300Å 孔径固定相,适用于肽的分析)C18 HQ300Å 5µ 玻璃内衬4.6mm250mm250120C18 HQ300Å 5µ 玻璃内衬4.6mm150mm250122C18 HQ300Å 5µ 玻璃内衬2.1mm250mm250125C18 HQ300Å 5µ 玻璃内衬2.1mm150mm250127ProteCol&trade -G C18 HQ303(300Å 孔径固定相,适用于肽的分析)C18 HQ300Å 3µ 玻璃内衬2.1mm150mm250130C18 HQ300Å 3µ 玻璃内衬2.1mm100mm250132C18 HQ300Å 3µ PEEKsil&trade 300µ m150mm250135C18 HQ300Å 3µ PEEKsil&trade 300µ m100mm250137C18 HQ300Å 3µ PEEKsil&trade 150µ m150mm250140C18 HQ300Å 3µ PEEKsil&trade 150µ m100mm250142ProteCol&trade -G C18 HQ203(200Å 孔径固定相,适用于肽的分析)C18 HQ200Å 3µ 玻璃内衬2.1mm150mm250150C18 HQ200Å 3µ 玻璃内衬2.1mm100mm250152C18 HQ200Å 3µ PEEKsil&trade 300µ m150mm250155C18 HQ200Å 3µ PEEKsil&trade 300µ m100mm250157C18 HQ200Å 3µ PEEKsil&trade 150µ m150mm250160C18 HQ200Å 3µ PEEKsil&trade 150µ m100mm250162ProteCol&trade -G C8 HQ1003(1000Å 孔径固定相,适用于蛋白质分析) C8 HQ1000Å 3µ 玻璃内衬2.1mm150mm250170C8 HQ1000Å 3µ 玻璃内衬2.1mm100mm250172C8 HQ1000Å 3µ PEEKsil&trade 300µ m150mm250175C8 HQ1000Å 3µ PEEKsil&trade 300µ m100mm250177C8 HQ1000Å 3µ PEEKsil&trade 150µ m150mm250180C8 HQ1000Å 3µ PEEKsil&trade 150µ m100mm250182ProteCol&trade -G C8 HQ125(C8的高品质固定相) C8 HQ120Å 5µ 玻璃内衬4.6mm250mm250190C8 HQ120Å 5µ 玻璃内衬4.6mm150mm250192C8 HQ120Å 5µ 玻璃内衬2.1mm250mm250195C8 HQ120Å 5µ 玻璃内衬2.1mm150mm250197ProteCol&trade C18 GP125(通用型C18)C18 GP
  • TE258反射型爱莎测试图卡 扫描仪特性测试卡
    TE258旨在表征滑动/打印扫描仪。它适合为扫描仪创建颜色管理配置文件。The TE258 is designed to characterise slide/print scanners.It is suitable to create color management profiles for scanners1、厂家货源正品官方直售,公司生产周期短,出厂严格检测,货品品质保障,可通过国家计量院计量。2、关于尺码机身和包装尺寸为手动测量,由于测量工具和测量方法不同的因素,会存在1cm误差,但是不用影响运输和使用。3、关于颜色本店产品都是实拍图片,但是由于不同显示器分辨不同以及色温和对比度差异有所不同。4、关于客服可以通过阿里旺旺随时联系我们,如果旺旺回复不及时,也可以拨打我们的热线电话 张工:13310057377(技术与销售一体,直达客户需求)5、关于售后我们将提供完整的售后服务,包括15天退货,正品保证,交期保障等等。6、关于发货本店根据货物及客户需求,尽可能选择快捷方便的物流运输服务,一般情况发顺丰快递!

特性描述相关的仪器

  • Helios 5 Laser PFIB【产品描述】Thermo Scientific™ Helios™ 5 Laser PFIB 拥有无与伦比的功能,适用于极大体积的三维分析、无镓样品制备和精确的微加工。该产品配备创新型全集成飞秒激光,可在保证最高切割面品质的情况下实现最快的材料去除率,是毫米尺度范围纳米分辨率下最快的高质量表面下和三维表征设备。【技术参数】飞秒激光PFIB最大体积:2000×2000×1000 μm3最大束流:~1 mA(等效于离子束电流)切割束流:74 μA束斑尺寸:15 μm激光集成:3束(SEM/PFIB/激光)完全集成在样品室中,并具有相同的重合点,实现精确、可重复的切割位置和三维表征。一次谐波:波长1030 nm(红外),脉冲宽度280 fs二次谐波:波长515 nm(绿),脉冲宽度300 fs电子光学:☆三束重合点 WD=4 mm(与SEM/FIB相同)☆可变物镜(电动)☆偏光:水平/垂直☆重复率: 1 kHz~1 MHz☆光束定位精度:250 nm保护挡板:自动SEM/PFIB保护挡板软件:☆激光控制软件☆激光三维连续切片工作流程☆EBSD激光三维连续切片工作流程☆激光编程控制脚本*安全性:互锁式激光防护罩(1 类激光安全)【特点与应用】☆最快的毫米级横截面材料去除,材料去除率比典型的Ga + FIB要快15,000倍☆通过在更短的时间内采集更大的体积来实现统计学相关的表面下和三维数据分析☆准确、可重复的切割位置,三束交于样品上同一点☆通过提取表面下TEM薄片或块体进行三维分析来实现深层表面下特征快速表征☆ 实现对不导电或对离子束敏感等具有挑战性的材料进行高吞吐量处理☆实现对空气敏感样品的快速和简单表征,无需在不同仪器之间传送样品来进行成像和获取横截面☆Helios 5 PFIB平台的所有功能都非常可靠,包括最高质量的无镓 TEM和APT样品制备以及极高分辨率成像能力
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  • Helios 5 DualBeam【产品描述】新一代的赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 产品系列业界领先的高性能成像和分析性能。它经过精心设计,可满足材料科学研究人员和工程师最广泛的 FIB-SEM 使用需求。Helios 5 DualBeam 重新定义了高分辨率成像的标准:最高的材料衬度,最快、最简单、最精确的高质量样品制备,用于 S/TEM 成像和原子探针断层扫描(APT)以及最高质量的表面下和三维表征。在 Helios DualBeam 系列久经考验的性能基础上,新一代的 Helios 5 DualBeam 进行了改进优化,所有这些都旨在确保系统处于手动或自动工作流程的最佳运行状态。【技术参数】半导体行业技术参数:Helios 5 CXHelios 5 HPHelios 5 UXHelios 5 HXHelios 5 FX样品制备与 XHR 扫描电镜成像最终样品制备 (TEM薄片,APT)STEM 亚纳米成像与样品制备SEM着陆电压20 eV~30 keV20 eV~30 keV分辨率0.6 nm@15 keV1.0 nm@1 keV0.6 nm@2 keV0.7 nm@1 keV1.0 nm@500 eVSTEM分辨率@30 keV0.7 nm0.6 nm0.3 nmFIB制备过程最大材料去除束流65 nA100 nA65 nA最终最优抛光电压2 kV500 VTEM样品制备样品厚度50 nm15 nm7 nm自动化否是是样品处理行程110×110×65 mm110×110×65 mm150×150×10 mm100×100×20 mm100×100×20 mm+5轴(S)TEM Compustage快速进样器手动自动手动自动自动+自动插入/提取STEM 样品杆 材料科学行业技术参数:Helios 5 CXHelios 5 UX离子光学具有卓越的大束流性能的Tomahawk HT 离子镜筒具有卓越的大束流和低电压性能的Phoenix 离子镜筒离子束电流范围1 pA – 100 nA1 pA – 65 nA加速电圧500 V – 30 kV500 V – 30 kV最大水平视场宽度在束重合点处为0.9 mm 在束重合处点为0.7 mm 离子源寿命1,000 小时1,000 小时两级差分抽吸两级差分抽吸飞行时间校准飞行时间校准15孔光阑15孔光阑电子光学Elstar超高分辨率场发射镜筒Elstar超高分辨率场发射镜筒磁浸没物镜磁浸没物镜高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电流高稳定性肖特基场发射枪提供稳定的高分辨率分析电流电子束分辨率最佳工作距离下0.6 nm @ 30 kV STEM0.6 nm @ 30 kV STEM0.6 nm @ 15 kV0.7 nm @ 1 kV1.0 nm @ 1 kV1.0 nm @ 500 V (ICD)0.9 nm @ 1 kV 减速模式*在束流重合点0.6 nm @ 15 kV0.6 nm @ 15 kV1.5 nm @ 1 kV 减速模式* 及 DBS*1.2 nm @ 1 kV电子束参数电子束流范围0.8 pA ~ 176 nA0.8 pA ~ 100 nA加速电压范围200 V ~ 30 kV350 V ~ 30 kV着陆电压20 eV ~ 30 keV20 eV ~ 30 keV最大水平视场宽度2.3 mm @ 4 mm WD2.3 mm @ 4 mm WD探测器Elstar 镜筒内 SE/BSE 探测器 (TLD-SE, TLD-BSE)Elstar 镜筒内 SE/BSE 探测器 (ICD)*Elstar 镜筒内 BSE 探测器 (MD)*样品室内 Everhart-Thornley SE 探测器 (ETD)红外相机高性能离子转换和电子探测器 (SE)*样品室内 Nav-Cam 导航相机*可伸缩式低电压、高衬度、分割式固态背散射探测器 (DBS)*可伸缩STEM 3+ 探测器*电子束流测量样品台和样品样品台高度灵活的五轴电动样品台压电陶瓷驱动 XYR 轴的高精度五轴电动工作台XY110 mm150 mmZ65 mm10 mmR360° (连续)360° (连续)倾斜-15° ~ +90°-10° ~ +60°最大样品高度与优中心点间隔 85 mm与优中心点间隔 55 mm最大样品质量样品台任意位置 500 g 样品台任意位置 500 g 0° 倾斜时最大 5 kg最大样品尺寸直径 110 mm可沿样品台旋转时直径 150 mm可沿样品台旋转时优中心旋转和倾斜优中心旋转和倾斜【特点与应用】?更易于使用:Helios 5 对所有经验水平用户而言都是最容易使用的 DualBeam 系统。操作人员培训可以从几个月缩短到几天,其系统设计可帮助所有操作人员在各种高级应用程序上实现一致、可重复的结果。 ?提高了生产率:Helios 5 和 AutoTEM 5 软件的先进自动化功能,增强的可靠性和稳定性允许无人值守甚至夜间操作,显著提高样品制备通量。 ?改善时间和结果:Helios 5 DualBeam 引入全新精细图像调节功能 FLASH (闪调)技术。借助 FLASH 技术,您只需在用户界面中进行简单的鼠标操作,系统即可“实时”进行消像散、透镜居中和图像聚焦。自动调整可以显著提高通量、数据质量并简化高质量图像的采集。平均而言,FLASH 技术可以使获得优化图像所需的时间最多缩短 10 倍。
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  • Scios 2 DualBeam【产品描述】Thermo Scientific Scios 2 DualBeam是一款超高分辨率分析系统,可为最广泛类型的样品,包括磁性和不导电材料提供出色的样品制备和三维表征性能。 Scios 2 DualBeam系统创新性的功能设计,优化了样品处理能力、分析精度和易用性,是满足科学家和工程师在学术和工业环境中进行高级研究和分析的理想解决方案。Scios 2 DualBeam可快速轻松地定位制备各类材料的高分辨S/TEM样品。系统配备Thermo Scientific Auto Slice&View软件,可以高质量、全自动地采集多种三维信息。无论是在STEM模式下以30 kV来获取结构信息,还是在较低的能量下从样品表面获取无荷电信息,系统可在最广泛的工作条件下提供出色的纳米级细节。Scios 2 DualBeam可帮助所有经验水平的用户更快、更轻松地获得高质量、可重复的结果,此外,系统专为材料科学中最具挑战的材料微观表征需求而设计,配备了全集成化、极快速MEMS热台,可在更接近真实环境的工作条件下进行样品表征。【特点与应用】使用Sidewinder HT离子镜筒快速、简便地制备高质量、定位TEM和原子探针样品;Thermo Scientific NICol 电子镜筒可进行超高分辨成像,满足最广泛类型样品的最佳成像需求;各类集成化镜筒内及极靴下探测器,采集优质、锐利、无荷电图像,提供最完整的样品信息;可选ASV4软件,精确定位感兴趣区域,获取优质、多模态内部和三维信息;高度灵活的110 mm样品台和内置的Thermo Scientific Nav-Cam相机实现精确样品导航;专用的DCFI漂移抑制技术和Thermo Scientific SmartScan等模式实现无伪影成像和图形加工;灵活的DualBeam配置,优化解决方案满足特定应用需求。【技术参数】发射源:高稳定型肖特基场发射电子枪分辨率:最佳工作距离下30 keV下STEM 0.8 nm1 keV下1.6 nm1 keV下电子束减速模式1.4 nm电子束参数:探针电流范围:1 pA ~ 400 nA 加速电压范围:200 V ~ 30 kV 着陆电压范围:20 eV ~ 30 keV最大水平视场宽度:7 mm WD时为3 mm,60 mm WD时为7.0 nm导航蒙太奇功能,可额外增大视场宽度离子光学:卓越的大束流Sidewinder离子镜筒加速电压范围:500 V~30 kV离子束流范围:1.5 pA ~ 65 nA15孔光阑标配不导电样品漂移抑制模式离子源寿命至少1000 小时离子束分辨率30 kV下3.0 nm样品室:电子束和离子束重合点在分析工作距离处(SEM 7 mm) 端口:21个内宽:379 mm样品台:灵活五轴电动样品台XY范围:110 mmZ范围:65 mm旋转:360° 连续倾斜:-15° ~ +90°XY重复精度:3 μm最大样品尺寸,直径110 mm,可沿X、Y轴完全旋转时最大样品高度,与优中心点间隔为85 mm最大样品质量 5 kg(包括样品托)同心旋转和倾斜样品托:标准多功能样品托,以独特方式直接安装到样品台上,可容纳18个标准样品托架(φ12mm)、3个预倾斜样品托、2个垂直和2个预倾斜侧排托架(38°和90°),样品安装无需工具每个可选的测排托可容纳6个S/TEM铜网各种晶片和定制化样品托可按要求提供(可选)探测器系统:可同步检测多达四种信号样品室二次电子探测器ETD镜筒内背散射电子探测器T1镜筒内二次电子探测器T2镜筒内二次电子探测器T3(选配)IR-CCD红外相机(观察样品台高度)图像导航彩色光学相机Nav-Cam+™ 高性能离子转换和电子探测器ICE可伸缩式低电压、高衬度、分割式固态背散射探测器DBS电子束流测量控制系统:64 位操作系统、键盘、光学鼠标图像显示:24寸LCD显示器,最高显示分辨率1920×1200支持用户自定义的GUI,可同时实时显示四幅图像本地语言支持多功能控制板与Joystick操纵杆(可选)
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  • 冷轧和拉丝不锈钢表面的显微测量和特性描述
    冷轧和拉丝不锈钢表面的显微测量和特性描述 使用仪器:BMT WLI Lab (20倍物镜) 短相干干涉仪 使用此仪器测量两个工件约0.8mm×0.7mm面积的表面轮廓。测量结果如图1。图2显示假彩色高度轮廓。图3为两条垂直加工方向的轮廓线。我们可轻松看出两个表面的区别,表1也列出了测量出的粗糙度参数。平均区域粗糙度参数Sa不能独立反映相关功能表面的特性,如耐磨性和密封性等。 轧制过程使大的区域变平,可看到图2中由于酸处理出现的刻蚀孔。此表面结构显示出一些表面微凸体和许多气孔,图4是典型的振幅分布函数和Abbott曲线。图中的数值参数给定为Ssk=-1.97。数值小于0反映了带有一个平台和一个相对深的凹谷的表面轮廓。这样一个表面同样也表示Svk/Spk比值会很大Svk/Spk=7.7(表1),这是一个典型的特点。 而且在拉丝表面上的凹槽比轮廓峰要明显。但是这个差异比轧制表面的情形小得多,而且振幅分布接近于高斯函数。所以Ssk以及Svk/Spk的比值(系数)要小些。
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  • 土壤理化特性的描述

    我想问一下各位老师,我们在土壤采样的时候需要描述土壤的理化特性,但是其中有一个土壤的结构,我想问一下土壤的结构有标准将其明确的分为哪几类吗,还有那个砂砾含量,我看166上写的是按体积来进行,那我们写的时候用目测来进行判断填写数据就行了吗,还是有其他的要求?

  • 标准中对检测设备计量特性描述参差不齐,是否有相关指导性文件可以参考?

    标准中对检测设备计量特性描述参差不齐,是否有相关指导性文件可以参考?有助于编制标准或者理解标准?比如,有的标准对设备只提分辨率不提准确度或者最大允许误差,比如有的最新标准还用精度概念?!比如,有的标准在表示最大允许误差,不确定度或者准确度等级还是错误表示方式?比如,有的标准对温度传感器要求明天过于高或者都逼近计量标准的要求……如何合理正确编制理解检测标准的设备特性?

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  • 认监委发布《强制性产品认证目录描述与界定表》
    2012年12月19日,国家认监委发布《强制性产品认证目录描述与界定表》公告,涉及产品共22大类157种产品。详情如下:中国国家认证认可监督管理委员会2012年第30号国家认监委关于印发强制性产品认证目录描述与界定表的公告  为进一步明确强制性产品认证适用范围,规范强制性产品认证活动和监督管理工作,国家认监委修订了《强制性产品认证目录描述与界定表》,共22大类157种产品,现予发布。  国家认监委2007年第9号公告自即日起废止。  本公告内容由国家认监委负责解释。  附件:强制性产品认证目录描述与界定表.pdf  国家认监委  2012年12月11日
  • 原料药中杂质分离和特征描述战略性方法
    原料药中杂质的分离和特征描述的战略性方法 迈克尔 道. 琼斯, 玛丽安 特渥辛, 罗布 Plumb,宋相晋, 约翰 Shockcor, 乔斯 卡斯特罗 佩雷斯 和 安德鲁 奥宾 沃特世公司, 米尔福德市, 马萨诸塞州, 美国, 01757 简介 监测化合物中的杂质对于生产制剂和原料药的公司来说是有既得利益的,除了法规要求外,还有其它很多原因。杂质的鉴定可以帮助发现潜在未知的降解途径,虚假的过程/专利保护侵害,和/或遗传毒性影响。杂质的分析是劳动密集型的工作,包括方法开发,杂质分离技术和各种各样的分析方法,以得出所感兴趣杂质的真实结构。 这篇文章介绍了一种战略性的方法,该方法应用了高分离液相色谱理论和强制降解研究,以最大化生产原料药喹硫平中的杂质。高分离液质联用和核磁被用来解释结构。 方法学 分析 仪器: ACQUITY 超高效液相 色谱柱: ACQUITY UPLC™ BEH C18 规格: 100 x 2.1mm, 1.7µ m 流动相: A: 20mM Ammonium 碳酸氢铵, pH10 B: 乙腈 梯度: 见图 1 和 2 柱温: 650C 进样量: 3 µ L 检测器: ACQUITY PDA @ 250 nm ACQUITY SQD 扫描范围 100-1000amu 质谱条件 仪器: Waters SYNAPT™ 软件: Masslynx™ 4.1 离子源: ES+ 毛细管电压 (kV): 3.2 提取电压 (V): 4.0 脱溶剂气温度 (0C): 350.0 源温度 (0C): 120.0 脱溶剂气流速 (L/Hr): 650.0 锁定质量: 300pg/µ L白氨酸/脑啡肽@ 50µ L/min 质谱/质谱参数设置 飞行时间 椎孔电压 (V): 15 碰撞能 (V): 变化从15到30 采集范围: 质谱 100 - 1000Da 质谱/质谱 50—600 Da 制备 沃特世质谱引导的纯化系统 泵 2454二元溶剂管理器 进样/收集器 2767 检测器 2998 光电二极管阵列 质谱 3100 色谱柱 100X19mm XBridge, 5 um 溶剂 A = 10 mm 碳酸氢铵 pH 10 溶剂 B = 乙腈 流速 25/mL/min 梯度 B 经过10分钟 从5% 到60% 95% 有机相保持5分钟 核磁 仪器参数见图9 观察,制备和分离 喹硫平的酸解 该杂质鉴定方法(以前建立的)被用来鉴定喹硫平原料药在0.1mol/L盐酸中降解的主要杂质。图1: pH 9 的碳酸氢铵, ACQUITY BEH C18 2.1x100 mm 1.7um, 乙腈, 0.8mL/min. 650C, 20 分钟, 15-39%B到10.5分钟, 39-43%B到14.4分钟, 43-95%B到18分钟, 保持95%B到20分钟.制备分离的准备 此方法为了更快的速度、更低的温度和更短的色谱柱,而进行了再优化,同时又能保持主要杂质和喹硫平间足够的分辨率 . 为什么呢? 在从超高效液相方法转换到制备型高效液相时,有些因素必须要考虑: 保持分离效率: L/dP (柱长度/颗粒度) 例如: 50 mm、1.7 um色谱柱的L/Dp为29,411,和具有30,000 L/Dp 值的150mm、5um制备柱等效 能使用更短的制备柱吗?在杂质402的分离中,100 mm的制备柱仍能提供足够的柱效以完全分离杂质。 在放大制备梯度中,对于制备流速,柱体积数必须保持合适的数值。如果这些因素都被考虑到,从超高效液相方法转换到制备型高效液相是能保证相似的选择性的。 从超高效液相放大到制备色谱 传统上, 从分析型高效液相放大到制备型高效液相使用同样的色谱柱长度和颗粒度,并运用下面的公式: Fp= Fa [(Dp)2]/[Da2] 注: Fp=制备柱的流速 Fa=分析柱的流速 Dp=制备柱的内径 Da=分析柱的内径 其它工具: Waters 制备放大计算器可以计算每个梯度段的时间,柱长度的变化和进样量。 聚焦梯度 *克利里等. 纯化过程中聚焦梯度的影响, Waters 应用文献 720002284EN 质谱引导的自动纯化 主要杂质m/z =402的分离在分析和化学上都很容易。 最大化产出: 8g/mL 喹硫平的储备液在 600C、0.1mol/L的盐酸中加热回流8小时, 以增加m/z=402 杂质的 产量 制备上样研究允许色谱柱进样20uL。 图3: 强制降解样品的制备色谱 仪器优势: 分离是通过Masslynx™ Fractionlynx™ 软件中的自动质量触发进行的。 ACQUITY BEH C18的方法可以无缝转换到XBridge C18 制备柱 通过超高效液相对感兴趣杂质的再优化可提供快速方法,以通过UPLC-SQD, UPLC-oaTof, 和/或UPLC MS/MS进一步确认分析 鉴定,确认和特征描述 分离的确认 通过质谱引导的纯化系统收集的m/z = 402的馏分被收集并挥干。该分离步骤得到了28.6mg m/z = 402的杂质。用甲醇稀释得到浓度为286µ g/mL和2.86µ g/mL的溶液,并用3分钟的UPLC-SQD方法进样以确认分离的质量 . 图4: 被分离杂质m/z=402的UPLC UV/SQD 确认 质量精度的重要性 杂质的质荷比为402,等于喹硫平(m/z = 384)加合了18 amu。样品进样到Waters SYNAPT™ MS可得到精确质量数以确认元素组成 . 图5: m/z = 402杂质的元素组成. 双键等价值(DBE) 、低的同位素匹配度(low i-Fit)、毫道(mDa)和结果都支持第一个分子式 加合可以在喹硫平结构中氧化一个点,同时减少一个双键 . 图6: 建议的结构. A.) 硫代氧化物 或 B.氮代氧化物 )? 氮代氧化物为基础的结构的确认 通常, 在低PH流动相的反相液相中,含有氮代氧化物杂质的化合物在原料药后被洗脱出来。超高效液相是在pH=9.0下进行的,所以使用pH=3.0的甲酸铵和乙腈的梯度检测速度变快 。 图7: 酸性流动相条件下进样时,酸降解喹硫平的洗脱顺序。因为感兴趣的峰在喹硫平原料药前被洗脱出来,所以氮代氧化物的可能性不大 . 质谱/质谱分析 精确质量数质谱/质谱分析是为了确认任何碎片数据的存在已进一步支持喹硫平的硫代氧化物降解形式。指示性的碎片最有可能是分子量很低的碎片,在那里所发生的裂解可以区分硫代氧化物和氮代氧化物。 图 8: 裂解分析显示了硫代氧化物/裂解为基础的结构。 通过分析m/z = 137.0063的碎片可得出: -元素组成是 C7 H5 O S -质量精度为 0.2毫道尔顿 -双键等价值(DBE) = 5.5, 对于环结构转换为4.5,而对于硫代氧化物为1.0。 如果N=C是完整的,由于四价碳缺少质子,所以不可能得到228.0480和175.1428的碎片 NMR 支持的数据 核磁数据和建议的结构是一致的 图 9: 被分离的喹硫平中m/z = 402杂质的C13-NMR and H-NMR 结论 从超高效液相转换到制备色谱 -保持L/Dp不变被证明是放大可能性的关键因素 -相容的化学性质可最小化分离度差异 -利用强制降解研究可增加最大化产出的潜能 -质谱引导的馏分收集可保证正确的杂质收集 杂质确认和说明 -ACQUITY UV/SQD 为很多的馏分组成提供快速确认 -高分辨率 SYNAPT MS为母离子和产物离子的元素组成确认提供很好的质量精度 -对于有显著不同色谱行为的结构,高/低PH值流动相测试可以帮助确定建议的结构 -尽管采集了核磁数据(不是决定性的),但它的精确质量质谱/质谱数据证明了杂质是硫代氧 化物而不是遗传毒性结构。
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