全自动发射仪

2016年新年伊始，日本电子株式会社（JEOL）即全球同步推出了新款场发射透射电镜JEM-F200。 为了全面整合近年发展起来的透射电镜上的各种功能，JEM-F200进行了全新设计，在保障各种功能达到极限的同时，追求操作的简单化和自动化，为用户提供透射电镜操作的全新体验。具体特点表现为： 1）精炼的全新设计：在提高机械和电气稳定性的同时，凭借对透射电镜的丰富经验，对电镜整体进行了精炼全新设计，力求为用户提供全新感受； 2) 四级聚光镜设计：为了最大程度发挥出STEM功能，JEM-F200进行了全新概念的四级聚光镜设计，亮度和汇聚角可以分别控制； 3）高端扫描系统：在照明系统扫描功能之上又增加了成像系统的扫描功能（选购件）可以获得大范围的STEM-EELS； 4）皮米样品台控制：标配的压电陶瓷控制样品台，可以在原子尺度上获得精准的移动； 5）全自动装样测角台（SPECPORTER）：样品杆的插入拔出只需电钮即可全自动实现，彰显其便利性及安全性； 6）成熟的冷场发射技术：将JEOL应用在球差校正技术上的高端冷场发射技术移植到普通的场发射透射上，可获得更好的高分辨观察、更高效的成分分析和更好的化学结合状态分析； 7）双超级能谱设计：可安装双超级能谱，将普通电镜能谱的分析能力拓展到原子尺度； 8）节能减排：启用省电模式耗电量降低80%。

E5000发射光谱仪具有全谱多元素同时分析、分析速度快、分析精准、稳定性好等优点，分析性能达到了国际领先水平。作为全球首创粉末样品元素分析的台式全谱直读发射光谱仪，E5000发射光谱仪拥有创新的高功率数控电弧光源、全自动激光对准的光源装置、稳定可靠的帕型-龙格全谱分光系统以及阵列CCD全谱测量技术，同时，E5000发射光谱仪结合时序分析、光谱自动校正等先进技术，采用固体样品直接进样的方法，全面解决了传统技术分析繁琐、效率低下、准确性差等问题，是光谱元素分析领域的重大突破。E5000发射光谱仪产品结构设计　　电弧发射光谱技术与全谱直读光谱技术结合，新一代固体粉末分析技术；　　Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统，能测定需要分析的所有常规元素；　　紧凑的小型台式设计，确保稳定可靠、易用便捷；　　防溢出CCD高速数采系统，信噪比高、动态范围大；　　高功率数控可编程光源，电流、电压、频率可控，提供更优的分析方法；　　多重连锁和监控，确保操作安全可靠；　　全自动电极激光对准系统；　　粉末样品直接进样，方便迅速；　　一键激发，立刻获得分析结果；　　内置工作曲线，客户无需手动建线，切实提高工作效率；　　软件开放所有高级功能，为客户提供完美的方法开发平台。E5000发射光谱仪全谱测量技术　　全谱平台拥有丰富的谱线信息，更易于元素扩展与方法开发；　　基于全谱测量的数据，能够正确区分背景和谱线，有效提高测量精度；　　- 方便查看谱线及干扰情况　　- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式　　强大的自动谱线去干扰算法；　　- 通过算法扣除干扰谱线获得干净的待分析谱线　　- 基于全谱测量数据的多峰拟合技术可将谱线完全分开，有效消除谱线的干扰　　根据元素的含量范围选择不同的分析谱线，大含量范围的测量更准确；　　- 多谱线结合，扩展分析范围的同时，有效保证分析精度；　　- 避免灵敏线饱和，不需要消释样品，取得更大的分析范围；CCD高速数采系统　　防溢出线阵CCD；　　采用动态积分，有效扩展CCD的动态范围；Paschen-Runge（帕型-龙格）全谱光学系统　　恒温型全固定光学系统；　　全反射式光路；　　光室结构紧凑；　　一体式固定；　　光学器件少，性能稳定；　　基于CCD的全谱采集和分析；全新一代电弧数控光源　　数控光源体积小、效率高；　　基于数控可编程技术，光源的电流、电压、频率可调节；　　分析不同含量的元素，选择最佳的激发参数，降低元素分析的检出线，改善元素分析的准确度；　　可设置及读取不同检测阶段的数据；一键激发及全自动对准电极　　样品装载激发一气呵成，方便快捷；　　多元素同时分析，直接得到最终结果；　　设计精良的电极挟持旋钮；　　红外激光对准、先进的电极激光自动对准技术；　　水冷电极夹提高检测稳定性；多重连锁和安全保护　　可靠的水冷系统，分别对电弧光源和激发电极散热；　　实时监控仪器的运行状态，所有的连锁状态如冷却水、排风、炬室门等都通过界面和指示灯等多种形式直接提醒；　　界面上有关键温度的显示，第一时间查看仪器的运行情况；　　排风监控，消除废气影响；　　特殊的风道设计提高稳定性；水冷系统 强大的分析软件　　便捷易用的分析软件；　　- 操作直观、便捷、层次化的软件界面，非专业人员也能方便操作　　- 简单的方法开发过程，各种检测条件都可调节　　强大的多元素分析平台；　　- 便捷的全谱查看　　- 多元素分析及多谱线选择　　- 一键激发，直接在软件上得到分析结果　　- 丰富的方法库有利于方法的传承、学习和维护可分析元素及多谱线选择　　全面智能的软件算法；　　- 内置工作曲线，完善的时序分析，能够实现定性、定量分析　　- 丰富的处理技术，支持内标法、基底扣除、干扰元素校正等分析方法　　- 功能强大的高级处理功能，为客户带来更全面、更精确的分析体验　　独创的智能漂移校正技术。

场发射扫描电子显微镜SEM5000Pro产品介绍 SEM5000Pro是一款分辨率高、功能丰富的场发射扫描 电子显微镜。先进的镜筒设计，高压隧道技术(SuperTunnel)、 低像差无漏磁物镜设计，实现了低电压高分辨率成像，同时磁 性样品可适用。光学导航、完善的自动功能、精心设计的人机 交互，优化的操作和使用流程，无论经验是否丰富，都可以快 速上手，完成高分辨率拍摄任务。电子枪类型 肖特基场发射电子枪加速电压 20V ~ 30 kV分辨率 0.8 nm @ 15 kV, SE 1.2nm @ 1 kV, SE 样品台 五轴全自动样品台放大倍率 1 ~ 2,500,000 x产品特点分辨率高，低加速电压下实现高分辨成像高压隧道技术(SuperTunnel) ，在隧道中的电子能保持高能量，减少了空间电荷效应，低电压分辨率得到保证电磁复合物镜，减小像差，显著提高低电压下的分辨率，而且可观察磁性样品电子光路无交叉，有效的降低系统像差，提升分辨能力水冷恒温物镜，保证物镜工作的稳定性、可靠性和可重复性磁偏转六孔可调光阑，自动切换光阑孔，无需机械调节，实现高分辨率观察或大束流分析模式快速切换应用领域规格参数关键参数分辨率0.8 nm @15 kV,SE1.2 nm @1.0 kV,SE加速电压20V~30 kV放大倍率1~2,500,000x电子枪类型肖特基场发射电子枪样品室真空系统全自动控制摄像头双摄像头(光学导航+样品仓内监控)样品台行程X=110mm,Y=110 mm,Z=50 mm T:-10°~+70°,R:360°探测器和扩展标配镜筒内电子探测器旁侧二次电子探测器(ETD)选配插入式背散射电子探测器(BSED)插入式扫描透射探测器(STEM)能谱仪(EDS)背散射衍射(EBSD)样品交换仓轨迹球&旋钮控制板软件语言中文操作系统Windows导航光学导航、手势快捷导航自动功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散