无掩膜曝光机

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无掩膜曝光机相关的厂商

  • 森雅公司专业制作各类医疗模体检测仪表:X射线机多功能质量检测仪,CT剂量检测仪,铅尺,核磁共振检测仪,千伏表,脉冲表,毫安及毫安秒表,剂量仪,放射扫描三维水箱,放射扫描二维水箱,放射扫描一维水箱,矩阵。影像检测模体:500型CT性能检测模体,600型CT性能检测模体,CT头部及体部剂量模体,低对比度测试卡,低对比分辨力测试模体,3D躯干检测模体,核磁共振性能检测模体,CR/DR性能检测模体,DSA性能检测模体,乳腺机性能检测模体,数字乳腺机检测模体,19孔低对比度细节模体,3D牙科机头部检测模体,牙科机检测模体,AEC自动曝光控制模体,星卡,分辨率测试卡,乳腺机低对比度细节模体,牙科机机低对比度细节模体,低对比度测试模体,3D躯干检测模体,3D头部检测模体,放射外科头部检测模体,剂量验证模体,超声模体,多普勒流量测试系统,PET及SPECT检测模体,直线加速器检测装置,核医学设备检测模体套装,伽马刀球形检测模体等
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  • 研润企业-上海研润光机科技有限公司前身是国家仪器技术研究所,主要以研发仪器设备为主,综合计算机软件的开发.主导产品包括硬度计、试验机、显微镜、影像测量仪、金相制样、自准直仪、放大镜及磁性表座等光学和材料性能检测测试仪器.公司目前具有8位教授级专家,几十位技术工程师.自2005年改制以来,公司已经发展成为一家研发、生产和销售仪器仪表、进出口贸易、计算机软件开发的产销结合的高科技企业公司, 公司集科、工、贸为一体,产品已经广泛应用于军工、大学、科研机构、航空航天、电子、机械、汽车、纺织、五金、塑胶、印刷、食品、医院、包装、模具等部门行业.为其实验室建立、规划,产品研发、检验提供了软硬件支持.
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  • 400-860-5168转6055
    研润企业-上海研润光机科技有限公司前身是国家仪器技术研究所,主要以研发仪器设备为主,综合计算机软件的开发.主导产品包括硬度计、试验机、显微镜、影像测量仪、金相制样、自准直仪、放大镜及磁性表座等光学和材料性能检测测试仪器.公司目前具有8位教授级专家,几十位技术工程师.自2005年改制以来,公司已经发展成为一家研发、生产和销售仪器仪表、进出口贸易、计算机软件开发的产销结合的高科技企业公司, 公司集科、工、贸为一体,产品已经广泛应用于军工、大学、科研机构、航空航天、电子、机械、汽车、纺织、五金、塑胶、印刷、食品、医院、包装、模具等部门行业.为其实验室建立、规划,产品研发、检验提供了软硬件支持. 公司通过了中国检验认证集团的ISO9001:2000质量管理体系认证,并通过了上海市高新技术企业认证.目前有8大产品实现了上海市高新技术成果转化项目,有6种产品软件获得了软件著作权,并且获得了数项专利技术.主导产品包括: 硬度计、试验机、显微镜、影像测量仪、金相制样、自准直仪、放大镜及磁性表座等光学和材料性能检测测试仪器。低价质高、造型完美、功能卓越是我们对产品质量的不倦追求。 公司在运营过程中秉承“产品适用、价格适中、服务优质”的营销理念,专注于仪器仪表、进出口贸易、计算机软件的开发、生产、销售和服务.公司自成立以来坚持以市场变化为导向, 发展不同类别、不同领域的各类计量检测、测试仪器,计算机软件.目前已经形成了上百类仪器仪表类产品,开发了三大类,几十种计量测试软件.是同行中发展最快,产品最全的, 服务销售网络最广的一家新兴高科技企业公司.公司的集团化发展,使得公司拥有了完善的售前、售中、售后服务团队,同时也具备了产品系列化、高科技化的发展潜力. 形成了北京、上海、重庆、武汉、沈阳、天津、济南、广州八大销售技术服务中心,形成了上海奉贤制造工厂、上海奉贤新品试制分厂、济南制造分厂三个全资制造工厂, 以及全国范围销售的联合企业公司. 在新的世纪到来之际,做为一个年轻化的高科技企业,上海研润光机科技有限公司力求完善自我,向“21世纪的国际化优秀企业”迈进。 公司现有产品无论其质量、性能还是价格都得到了广大用户的认可和称赞.公司一贯坚持以客户为导向、服务为根本,让客户买的放心,用的舒心,真正做到“物超所值”. 高的性价比、优质的售后服务来源于我们对市场的研究和公司专业人才的不断充盈,目前公司业务已经遍及全国各地.快速的发展,为我们提供了良好的机遇,同时也丰富了我们的产品, 提高了我们对市场的认识.在工作中我们和客户共同成长,不断的吸取客户的宝贵建议和意见,真正的实现了完整的“售前、售中、售后服务”团队,逐步树立的稳健、亲和的企业形象也越来越受到用户的尊重与理解。 “研润”制造的品牌形象以及“中机”高端制造品牌形象已经被广大客户接受。我们坚信客户的满意是我们前进的动力,“与客户共赢”是我们永远坚持的理念. 高新技术企业证书 计量器具制造许可证 计量器具制造许可证 高端产品商标证 公司商标证 高新技术成果转化证 专利证书 软件著作权证书 ISO质量管理体系证书
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无掩膜曝光机相关的仪器

  • 主要简介: UTA系列是将DLP投影仪盒金相显微镜相结合的缩小投影型无掩模曝光系统,其价格低于传统系统(用于掩膜光刻的图案投影曝光系统) 可以使用专门为此目的开发的软件来创建想要的图案。主要特点: l 显微镜LED曝光装置概述l 显微镜LED曝光单元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的图案投影曝光装置。l 使用金相显微镜盒LED光源DLP投影仪,将具有机微米分辨率的任意图案投影到涂有抗蚀剂的基板上进行曝光。l 图案可以在PC上自由创建。l 因为可以在普通的室内环境中在各种大小盒形状的单晶薄片上形成电极,所以它比电子束光刻便宜且简单,不需要制造昂贵的电极图案掩膜。 主要应用:l 薄膜FET和霍尔效应测量样品的电极形成l 从石墨烯/钼原石中剥离电极形成并评估其特性l 研发应用的图案形成。 技术参数:由于显微镜和DLP的结合,可以用很低的成本来构建系统易于使用的软件可以轻松的创建曝光图案通过物镜放大倍率图案,可以进行大范围的批量曝光可以连接到您自己的显微镜上(选项)分辨率在微米级曝光范围:2.5mm×1.5mm 最小100um×60um可以连接到您自己的显微镜上(选项)分辨率在微米级曝光范围:2.5mm×1.5mm 最小100um×60um
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  • 紫外掩膜曝光机 400-860-5168转3855
    OAI 超过35年的历史按照您的具体规格设计和制造紫外线仪器和曝光系统在世界范围内亨有声誉无论复杂还是简单,OAI都有最聪明的解决方案。OAI 200型光刻机和紫外曝光系统 OAI系统可以处理各种常规和不规则形状的宽范围的基材。 高效光源在各种光谱上提供均匀的紫外线照射。. OAI 200型光刻机和紫外线曝光系统是一种经济高效的高性能工具,采用行业验证的模块化组件进行设计,使OAI成为MEMS,纳米技术和半导体设备行业的领先者。200型是台式机型,需要最小的洁净室空间。它为研发,试验或小批量生产提供了经济的替代方案。利用创新的空气轴承/真空卡盘校平系统,基板被快速和平缓地平整以用于平行光掩模对准和在接触暴露期间在晶片上的均匀接触。该系统具有微米分辨率和对准精度。对准模块具有掩模插入件组和快速更换晶片卡盘,其允许使用各种衬底和掩模,而不需要对机器重新设定。对准模块包含X,Y和θ轴(微米)。200型对准器可以广泛地安装进对准光学仪器,包括背面IR。 IR照明真空吸盘可以被配置用于整个或或部分晶片的对准。 OAI 200型可配置OAI纳米压印模块,使其成为最低成本的NIL工具。 OAI还提供了一个模块,设计用于使用液体光引物进行快速成型或生产微流体器件。 Model 200具有可靠的OAI光源,在近紫外或深紫外线下使用200至2000瓦功率的灯提供准直的紫外光。双传感器,光学反馈回路与恒定强度控制器相关联,以提供在所需强度的±2%内的曝光强度的控制。可以简单快速地改变UV波长。 型号200是一个高度灵活的, 经济的解决方 案,适合任何 入门级掩模对准和紫外线照射应用。 特点:&bull 高效,均匀,曝光系统与强度控制电源&bull 近,中,深紫外线能力可用&bull 亚微米套印和逐层校准&bull 易于互换的掩膜架和掩膜&bull 用户可设置,“基板到掩膜”间的压力&bull 软接触,硬接触,真空接触,接近曝光模式&bull 暴露可用时氮气N2吹扫&bull 超精确的卡盘运动&bull 可变速率电子操纵杆(可选)&bull 红外对准能力(型号200IR)(可选)&bull 顶部侧对齐以及背面对齐选项&bull 系统隔振具有四(4)象限独立调节(可选)&bull 高可靠性和低维护设计与优秀的文件应用MEMSNIL微流体纳米技术II-VI和III-V器件制造多级抗蚀剂处理LCD和FED显示器MCM’S薄膜器件太阳能电池SAW器件 选项提供单或双相机和屏幕(双相机/双屏版本如照片所示)可以安装NIL的Nano Imprint模块可安装微流体模块 OAI 200型台式光刻机和紫外线曝光系统 OAI 200型掩模对准器和UV曝光系统 特征 规格 体积小 基板平台 X, Y TravelZ TravelMicrometerGraduationsRotation ± 10mm 真空吸盘 1,500 microns.001" .0001"or .01mm .001mm± 3.5? 精密对准模块 可互换的面罩架和基板卡盘 掩膜 大小 Up to 14" x 14" 好处 光源 光束尺寸灯功率 Up to 12" square200, 350, 500, 1,000, and2,000 Watt NUV I 需要最小的洁净室空间 500, 1,000 and 2,000 Watt DUV I 对易碎基材材料造成损坏降至最低 快门定时器设施 定时器 0.1 to 99.0 sec. at 0.1second incrementsor 1 to 999 sec. at 1second increments I 精确对准至1微米 I 可轻松容纳各种基材和面罩 电压 110或220 / 400vac(或根据其他国家电源要求) I IR透明晶片的背面掩模对准,精度高达3-5微米 真空 20 - 28” Hg. I 高度准直,均匀的紫外线 空气和氮气 CDA at 60 PSI andN2at 40 PSI 排气 .35“至.5”水 I 快速更改UV光波长 I 曝光控制强度为±2% 尺寸 高度宽度深度运输重量 37” (200mm), 45” (300mm)31” (200mm) , 60” (300mm)25” (200mm), 70” (300mm)250 Lbs. (200mm), 400lbs (300mm) I 可以配置为NIL的Nano Imprint工具
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  • 产品介绍: LSCE-800接触式曝光机指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触,曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当 精确,设备简单。产品特点:分辨率相当精确,更广范围的紫外光波长选择; 支持恒定光强或恒定功率模式,广泛应用于半导体、微电子、 生物器件和纳米科技领域。参数:应用领域:半导体制造;光电电子、平板;射频微波,衍射光学;微机电系统;凹凸或覆晶设备等。
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无掩膜曝光机相关的资讯

  • “微莲花,微祝福” | 无掩膜激光直写光刻仪3D灰度曝光应用
    近年来,实现微纳尺度下的3D灰度结构在包括微机电(MEMS)、微纳光学及微流控研究领域内备受关注,良好的线性侧壁灰度结构可以很大程度上提高维纳器件的静电力学特性,信号通讯性能及微流通道的混合效率等。相比一些获取灰度结构的传统手段,如超快激光刻蚀工艺、电化学腐蚀或反应离子刻蚀等,灰度直写图形曝光结合干法刻蚀可以更加方便地制作任意图形的3D微纳结构。该方法中,利用微镜矩阵(DMD)开合控制的激光灰度直写曝光表现出更大的操作便捷性、易于设计等特点,不需要特定的灰度色调掩膜版,结合软件的图形化设计可以直观地获得灰度结构[1]。由英国皇家科学院院士,剑桥大学Russell Cowburn教授主导设计研制的小型无掩膜激光直写光刻仪(MicroWriter, Durham Magneto Optics),是一种利用图形化DMD微镜矩阵控制的直写曝光光刻设备。该设备可以在无需曝光掩膜版的条件下,根据用户研究需要,直接在光刻胶样品表面上照射得到含有3D灰度信息的曝光图案,为微流控、MEMS、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。此外,它还具备结构紧凑(70cm × 70cm X×70cm)、高直写速度,高分辨率(XY ~ 0.6 um)的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。目前在国内拥有包括清华大学、北京大学、中国科技大学、南京大学等100余家应用单位,受到广泛的认可和好评。结合MicroWriter的直写曝光原理,通过软件后台控制DMD微镜矩阵的开合时间,或结合样品表面的曝光深度,进而可以实现0 - 255阶像素3D灰度直写。为上述相关研究领域内的3D线性灰度结构应用提供了便捷有效的实验方案。图1 利用MicroWriter在光刻胶样品表面上实现的3D灰度直写曝光结果,其中左上、左下为灰度设计原图,右上、右下为对应灰度曝光结果,右上莲花图案实际曝光面积为380 × 380 um,右下山水画图案实际曝光面积为500 × 500 um 图2 利用MicroWriter实现的3D灰度微透镜矩阵曝光结果,其中SEM形貌可见其优异的平滑侧壁结构 厦门大学萨本栋微纳米研究院的吕苗研究组利用MicroWriter的灰度直写技术在硅基表面实现一系列高质量的3D灰度图形转移[2],研究人员通过调整激光直写聚焦深度以及优化离子刻蚀工艺,获得具有良好侧壁平滑特征的任意3D灰度结构,其侧壁的表面粗糙度低于3 nm,相较此前报道的其他方式所获得的3D灰度结构,表面平滑性表现出显著的优势。MicroWriter的灰度曝光应用为包括MEMS,微纳光学及微流控等领域的研究提供了优质且便捷的解决方案。图3 利用MicroWriter激光直写在硅基表面实现图形转移过程示意图图4 利用MicroWriter激光直写曝光在硅基表面转移所得的3D灰度结构的实际测量结果与理论设计比较,其中图a中红色散点表示实际图形结构的纵向高度,黑色曲线为图案设计结果;图b中左为设计图形的理论各点高度,右为实际转移结果的SEM形貌结果,其中标准各对应点的实际高度。综上可以看出其表现出优异的一致性图5 利用AFM对抛物面硅基转移结构的测量与分析,可以看到起侧壁的表面平滑度可以小至3 nm以下,表现出优异的侧壁平滑性 利用MicroWriter激光直写曝光技术,不仅可以直接制备任意形状的硅基微纳灰度结构,而且可以将制备的3D结构作为模具、电镀模板或牺牲层来应用在其他材料上,如聚合物、金属或玻璃等。这种直观化的激光直写技术在诸多维纳器件研究领域中表现出显著的应用优势和开发前景。 参考文献:[1] Hybrid 2D-3D optical devices for integrated optics by direct laser writing. Light Sci. Appl. 3, e175 (2014)[2] Fabrication of three-dimensional silicon structure with smooth curved surfaces. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 15(3), 034503 相关参考:英国皇家科学院院士、剑桥大学教授Russell Cowburn介绍:https://www.phy.cam.ac.uk/directory/cowburnr
  • 吴杭民:好一句“曝光毒豇豆于国于民都无益”
    对于武汉市农业局曝光“问题豇豆”的做法,三亚市农业部门表示了“特别的不理解”,他们称,发现相关的问题但按照通常做法只限于内部通告,这已经是业内的“潜规则”,武汉曝光这些问题豇豆在他们看来“于国于民都无益”(2月28日中央人民广播电台)。 武汉市农业局曝光“毒豇豆”,破坏了“内部通告”的业内“潜规则”?我拼命揉着眼睛,可看到的依旧是那些雷人的话语。更荒唐的是,三亚市农业局综合执法支队副支队长周庆冲也认为,按照常规,兄弟单位应该打个招呼,他们可以派技术人员下基层调查,严控源头,但兄弟单位这次的做法“太不够朋友”,不仅没有给三亚市留面子,也没有给农业部门留面子。 离奇愤怒!那些监督检测部门难道不应该为“民以食为天”筑起牢不可摧的“篱笆”吗?难道不该为民众吃得放心、吃得安全而克己奉公、兢兢业业吗?难道曝光、禁售问题食品、蔬菜,就是“太不够朋友”、“不给面子”?谁是你们的朋友,你们给谁面子? 突然,我似乎明白了武汉市农业局人士前些天坦言的“决定禁售‘冒了点风险’”的“弦外之音”。原来这风险来自同行的“潜规则”。可是,在我们看来,于国于民,于百姓利益,武汉市农业局的毅然决然之举,实在是应该大加褒扬大加弘扬的正义之举。民以食为天,食品安全屡屡失范,各类“毒××”愈演愈烈,除了我们经常抨击的各管一段、“九龙治水”等先天不足外,“够朋友”、留面子式的隐瞒包庇甚至大事化小、小事化无,是不是我们曾经不为所知的重要因素呢?果真如此,那么,我们真的要感谢武汉市农业局的“大义灭亲”了:是他们,让我们震惊地获知了监管领域漠视民众根本利益的“潜规则”。 原来,很多问题食品不是不能管,不是不能被发现、被围剿,而是监督机构“够朋友”的“潜规则”,使得“毒××”能安安稳稳地潜伏在我们的身边毒害百姓,即使流毒四方,有些主管人员还冠冕堂皇地狡辩,还理直气壮地叫嚣“于国于民都无益”! 还有多少监管检测“潜规则”我们被蒙在鼓里?我们期待,对于那些“够朋友”的职能部门的相关人员,有关部门就不该留面子、给面子,谁把民众利益当儿戏,谁就该被毫不留情地被问责、被严惩,被清除出监管队伍!
  • 显微镜技术新跨越:无标记、两次曝光、改造荧光成像
    2021年伊始,显微镜技术也迎来新的跨越。光物理学家开发出一种新方法,利用现有显微镜技术,无需添加染色剂或荧光染料,就能更详细地观察活细胞内部。这是一种荧光寿命显微镜技术,能够使用频率梳而不是机械部件来观察动态生物现象。其中一项研究的领导者、日本东京大学光子科学与技术研究所副教授Takuro Ideguchi表示,“我认为无标签技术将是一个重要的研究方向。特别是以无标签的方式对细胞内外病毒和外来体等小颗粒进行测量的技术将是未来成像设备的一个趋势。”更大范围 更小相位变化由于单个细胞几乎是半透明的,因此显微镜照相机必须能探测到穿过部分细胞的光线的极其细微的差异。这些差异被称为光的相位。相机图像传感器则受到它们能检测到的光相位差的限制,即动态范围。“为了使用同一图像传感器看到更详细的信息,我们必须扩大动态范围,这样就可以探测到更小的光相位变化。”Ideguchi说,“更大的动态范围允许我们测量小型和大型的相位图像。例如,如果测量一个细胞,细胞的主干会产生大的相位变化,而细胞内的小颗粒/分子会产生小的相位变化。为了使两者可视化,我们必须扩大测量的动态范围。”该研究小组开发了一种技术,通过两次曝光分别测量光相位的大小变化,然后将它们无缝连接起来,制造出详细的最终图像。他们将这种方法命名为自适应动态范围偏移定量相位成像(ADRIFT-QPI)。相关论文近日发表于《光:科学与应用》。一直以来,定量相位成像是观察单个细胞的有力工具,它允许研究人员进行详细的测量,比如根据光波的位移跟踪细胞的生长速度。然而,由于图像传感器的饱和容量较低,该方法无法跟踪细胞内及周围的纳米颗粒。而新方法克服了定量相位成像的动态范围限制。在ADRIFT-QPI中,相机需要两次曝光,并产生一个最终图像,其灵敏度是传统定量相显微镜的7倍。两次曝光 告别光毒第一次曝光是用常规的定量相位成像产生的——平的光脉冲指向样品,并在它通过样品后测量光的相移。计算机图像分析程序基于第一次曝光的图像,快速设计一个反射样品图像。然后,研究人员用一个叫做波前整形装置的独立组件,用更高强度的光产生一种“光雕塑”,以获得更强的照明,并向样品发出脉冲,进行第二次曝光。如果第一次曝光产生的图像是样品的完美代表,第二次曝光的雕刻光波将以不同的相位进入并穿过样品,最终只能看到一个黑暗的图像。“有趣的是,我们在某种程度上抹去了样本的图像。实际上,我们几乎什么都不想看到。我们去掉了大的结构,这样就能看到小的细节。”Ideguchi解释道,由于第一次测量中存在较大的相位对象,受动态范围的限制,无法对较小的相位对象进行可视化,研究人员称之为“洗掉”。他们需要第二次测量观察动态范围移位的小相位物体的细节。此外,该方法不需要特殊的激光、显微镜或图像传感器,研究人员可以使用活细胞,而且不需要任何染色或荧光,出现光毒性的可能性很小。光毒性是指用光杀死细胞,这也是其他成像技术如荧光成像面临的一个问题。另一篇论文的通讯作者、日本德岛大学Post-LED光子学研究所教授Takeshi Yasui指出,在传统的激光扫描共焦显微镜中,强激发光聚焦在一个焦点上,并对焦点进行二维机械扫描,使光毒性的影响较强。 Yasui等人的荧光成像新方法中,激发光被聚焦为一个二维焦点,因此每个焦点的光强度变得非常弱。“光毒性高度依赖于入射光的强度,我们的方法也可以显著降低。”改造荧光成像荧光显微镜广泛用于生物化学和生命科学,因为它允许科学家直接观察细胞及其内部和周围的某些化合物。荧光分子能吸收特定波长范围内的光,然后在较长的波长范围内重新发射。然而,传统荧光显微技术的主要局限性是其结果难以定量评价,而且荧光强度受实验条件和荧光物质浓度的显著影响。现在,一项新研究将彻底改变荧光显微镜领域。当荧光物质被一束短脉冲光照射时,产生的荧光不会立即消失,而是随着时间的推移“衰减”。但荧光衰减非常快,普通相机无法捕捉到它。虽然可以使用单点光电探测器,但必须在整个样本区域进行扫描,才能从每个测量点重建出完整的二维图像。这个过程涉及到机械部件的运动,这极大限制了图像捕捉的速度。在最近发表于《科学进展》的一项研究中,科学家开发了一种不需要机械扫描就能获得荧光寿命图像的新方法。领导这项研究的日本德岛大学Post-LED光子学研究所教授Takeshi Yasui说,“我们能在2D空间上同时映射44400个‘光秒表’来测量荧光寿命——所有这些都在一次拍摄中,不需要扫描。”“到目前为止,光频率梳被广泛地用作测量光频率的标尺,但我们一直在考虑其他的用途。”Yasui讲到,“我们意识到,如果将光学频率梳视为具有超离散多光谱结构的光,通过维数转换将被测物理量叠加在光谱上,可以从双梳光谱获得的模式分辨光谱中共同获得被测物理量。”研究人员使用光学频率梳作为样品的激发光。一个光学频率梳本质上是一个光信号,它们之间的间隔是恒定的。研究人员将一对激发频率梳信号分解为具有不同强度调制频率的单个光拍信号(双梳光拍),每个光拍携带单个调制频率,辐照到目标样品上。而且,每束光束都在一个不同的空间位置击中样本,在样本二维表面的每个点和双梳光拍的每个调制频率之间形成一一对应的关系。研究人员用数学方法将测量信号转换为频域信号,根据调制频率处的激发信号与测量信号之间存在的相位延迟,计算出每个像素处的荧光寿命。Yasui表示,这将有助于动态观察活细胞,还可以用于多个样本的同时成像和抗原检测——这种方法已经被用于新冠肺炎的诊断。该技术还有助于开发出新的顽固性疾病疗法,提高预期寿命。同样,Ideguchi也提到,ADRIFT-QPI能够在整个活细胞的背景下看到微小颗粒,而不需要任何标签或染色。“该技术可以检测到来自纳米级粒子的细小信号,比如病毒或在细胞内外移动的粒子,这样就可以同时观察它们的行为和细胞的状态。”相关论文信息:https://doi.org/10.1038/s41377-020-00435-zhttps://doi.org/10.1126/sciadv.abd2102

无掩膜曝光机相关的方案

无掩膜曝光机相关的资料

无掩膜曝光机相关的试剂

无掩膜曝光机相关的论坛

  • 【讨论】固体检测器的曝光时间和积分时间

    最近在考察固体检测器的信息采集时间,看到有的帖子提曝光时间,有的帖子提积分时间,我觉得有点歧义,按理说固体检测器应该按照信号的强弱自动调整曝光时间,以满足信号采集。也就是说相对应的积分时间也会延长。但是,曝光时间和积分时间是同时进行计算的么?还是实际就是一个意思?还望高人指点!谢谢!

  • 【讨论】谈谈你对食品曝光的想法

    最近炒得沸沸扬扬的农夫山泉“砒霜门”事件,但根据最新的报道,“复检全部合格”。食品安全,涉及到食品监管!食品质量不合格,食品曝光是一种最简洁,最有效的做法。食品曝光对食品不合格企业是一个警示,一种打击,一种强有力的监管,但反过来,是否又是对食品企业进行一种毁灭性扫荡,对这一行业的摧残!不明真相的老百姓,对舆论的相信、依赖有多少?前几年“杏花村假酒案”,致使汾酒至今才刚刚有所抬头;2002年“假通化葡萄酒”的曝光,让山葡萄酒至今还是雪上加霜……论坛从事检验分析的朋友很多,涉及产品质量的更多,人人关注食品安全,大家关注食品质量!谈谈你对食品曝光的想法?对食品曝光的看法?

无掩膜曝光机相关的耗材

  • 紫外曝光机配件 laser lithography
    紫外曝光机配件非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统和掩模准直机,适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外曝光机配件特点1)完美的单色曝光,曝光带宽小于10nm 2)冷紫外曝光,衬底环境温度实时控制,从而实现均匀曝光,消除热效应;3)超强的功率密度4) 紫外LED寿命更长,高达10000小时;5)方便用户使用的触摸屏配置;6) 不需要预热;7)计算机控制紫外光源强度调节;8)自动晶圆装载和卸载功能;9)超低能耗;紫外曝光机配件参数分辨率:2微米发射光谱:365+/-5nm, 385+/-5nm4英寸晶圆照明: 25mW/cm^2 +/-10%暴晒时晶圆温度加热:暴晒循环:1秒~18小时记忆的曝光循环数: 10个功率:180W重量:8.2kg尺寸: 260x260x260mm^2电源: 110V/230v50Hz
  • 电子束曝光(EBL)阻剂/光刻胶
    Made in UK, 英国EM Resist Ltd出品的光刻胶(1%-17% PMMA、SML系列电子束曝光阻剂),PMMA是常用的普通正阻剂;SML系列阻剂是高分辨率高深宽比的正阻剂。高档的SML正阻剂特点:无需邻近效应校正,低加速电压下也能使用,可提高EBL设备能力并制作出传统PMMA做不出来的新颖微纳器件,特别适合科研应用;有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型号(数字表示光刻胶涂布厚度)。[资料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate;聚甲基丙烯酸甲酯;positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electronic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bonding adhesive and as a sacrificial layer, but is commonly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please contact with our Chinese Distributor(www.tansi.com.cn).PMMA Product Options. First,select which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,select which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs.
  • 紫外曝光机配件
    飞秒激光微加工系统配件是美国制造商专业为大学和研究机构而研发的世界级领先产品,具有超高的精度和灵活性和多功能性,非常适合实验室多通途飞秒激光科学研究和微加工研究。我们专注于超快激光的研究和应用,在全球率先开发出成熟的飞秒激光微细加工系统配件,使得超快激光技术在实验室中成熟,并成功用于工业生产,专业为科研机构的实验室而设计,配备高达纳米精度和分辨率的线性定位平台,配备超高性能的扫描振镜以及多功能的控制软件。 我们提供的参数配置是激光脉宽科研级微加工系统满足了科研人员的诸多应用,它可以直接安装到光学平台上,大大节省实验时间,并能够快速培训新操作人员。是科研机构进行激光微加工实验的不二选择。 这套系统是各种研究所进行激光微加工实验的理想选择。我们经验丰富的工程师可以与国内广大研究所合作,把我们的经验和知识与您共享,为您提供优质的用户定制化服务和产品。提供的系统搭建服务:1)提供精密的用户定制化的目标定位系统,还可以提供软件。2)对飞秒激光器和定位系统进行集成和同步控制3)提供用户友好界面的软件用于各种激光扫描和定位系统。为工业/科研用户提供的定制化服务:1)为广大客户提供用户定制化的飞秒激光微加工解决方案2)如果您已经有飞秒激光器,我们可以为您提供自动化控制和同步控制以及精密定位等服务。飞秒激光微细加工系统配件特色:*高速微加工*亚微米分辨率处理高度复杂样品*飞秒微加工模式对加工区的热影响最小化* 纳米精度的定位* 精密激光束传导系统* 非常方便改变激光参数* 软件控制所有的硬件 飞飞秒激光微加工系统软件控制功能:* 控制XYZ定位平台*控制扫描振镜* 控制激光参数* 控制机械视图* 偏振态* 控制激光在工作区的功率应用* 表面微结构加工,微纳结构加工,微结构构造,微纳结构构造;* 透明材料的折射率改变;* 太阳能面板加工;* 2.5D铣销加工* 三维多光子聚合 * 光致刻蚀;* 激光划线飞秒激光加工案例参考 强劲优势:* 高达4倍频的4种波长激光光源* 改变聚焦光学器件* 定位聚焦光束× 自动聚焦光束到样品表面* 自动确认样品的倾斜程度* 对加工过程进行成像监控
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