纳米级研磨仪

碳纳米管浆料高剪切研磨分散机，超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家，碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机,导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备IKN研磨分散机,锂电池浆料分散难点,研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。 碳纳米管导电浆料主要由碳纳米管、其他导电填料、分散助剂、和溶剂组成其质量百分比组成为:碳纳米管:0.5-15%其他导电物质0.1-2%,分散剂:0.1-5%,其余为溶剂。 该碳纳米管导电浆料制备方法为:先将分散助剂溶解在溶剂中然后在搅拌条件下加入碳纳米管和其他导电填料,待碳纳米管和其他导电填料充分浸润后,采用IKN研磨分散机对浆料进行研磨分散几小时后即可得到稳定分散的碳纳米管导电浆料。本发明方法简单不破坏碳纳米管结构和导电性,所制得的碳纳米管导电浆料具有优良的导电性,且性质稳定均一,静置3个月后,浆料稳定性 90%。对于碳纳米管浆料以及其他锂电池浆料的研磨分散普遍存在着2个难以解决的问题:1、研磨的细度,传统的设备研磨设备是通过刀头去磨细，这样经常会破坏碳纳米管结构和导电性,使物料变性。而IKN研磨分散机.细化物料更多的是通过物料与物料直接的撞击来完成研磨细化的功能，不会破坏物料结构。2、容易形成二团聚体在碳纳米管粒径细化之后，由于分子之间的作用力，小的物料又会二次团聚从而影响zui终产品的物料粒径以及分散的效果。IKN研磨分散机很好的克服了二团聚的现象 IKN研磨分散机是研磨机和分散机-体化的设备,在碳纳米管浆料粒径细化后瞬间通过分散工作腔进行分散避免二次团聚的现象。 超高速碳纳米管浆料高剪切研磨分散机设备厂家CMD2000系列研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。 我们将三高剪切均质乳化机进行改装我们将三变跟为一然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。 碳纳米管浆料研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第1由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向 第二由转定子组成， 分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。碳纳米管浆料研磨分散机的特点：①线速度很高剪切间隙非常小当物料经过的时候形成的摩擦力就比较剧烈结果就是通常所说的湿磨。②定转子被制成圆椎形具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。③定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离④在增强的流体湍流下凹槽在每都可以改变方向。⑤高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。碳纳米管浆料研磨分散机,锂电池浆料研磨分散机导电浆料研磨分散机,锂电池研磨分散设备锂电池浆料分散难点研磨分散机在锂电池浆料分散中的优势。

纳米级微球颗粒标准品（Particle-Size Standards）直径大小高度均一，具有NBS 的NIST认证，属于Duke Scientific公司荣誉出品Nanosphere Size Standards?系列产品中的聚合体微球标准品（苯乙烯单体聚合而成）。纳米级微球颗粒标准品应用广泛，电子显微镜领域、气液相微粒研究、色谱柱、激光散射研究等等，20-1000nm范围内的微球颗粒可以用来测量细菌、病毒、核糖体和细胞亚显微结构的大小。该产品以水溶液瓶装形式出售。聚合体密度为1.05g/ml；Refractive index of 1.58 @ 589 nm (25°C)。订购信息：货号正常直径Certified Mean Dia.Size UniformityStd. Dev.&C.V固体百分比7088120nm19nm+/-1.5nmNA1%7088350nm50nm+/-2.0nmNA1%70885100nm102nm+/-3.0nm7.6nm (7.5%)1%70886200nm204nm+/-3.1nm3.1nm (1.5%)1%70887300nm304nm+/-6.0nm4.5nm (1.5%)1%70888400nm404nm+/-4.0nm5.9nm (1.5%)1%70889500nm486nm+/-5.0nm5.4nm (1.1%)1%70890600nm600nm+/-5.0nm6.6nm (1.1%)1%70891700nm701nm+/-6.0nm9.0nm (1.3%)1%70892800nm802nm+/-6.0nm9.6nm (1.2%)1%70893900nm895nm+/-8.0nm9.1nm (1.0%)1%下面推荐的是最高级别测量标准品，对直径1-40um的颗粒来说，以下产品极具竞争力。订购信息：货号Nominal diameterCertifiedMean Dia.Size UniformityStd. Dev.&C.V.SolidsContent708941.0μm0.993+/-0.0210.010μm (1.0%)1.0%708952.0μm2.013+/-0.0250.022μm (1.1%)0.5%708963.0μm3.063+/-0.0270.03μm (1.0%)0.5%708975.0μm4.991+/-0.0350.06μm (1.2%0.3%7089810.0μm9.975+/-0.0610.09μm (0.09%)0.2%

产品名称：陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。产品特点：吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液1、纳米级抛光液，抛光后具有较优的粗糙度2、抛光液绿色环保、不含卤素及重金属元素3、抛光液可循环使用，根据工艺要求可添加去离子水稀释可定制化：可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)