纳米级研磨仪

“55mm 系列”— Linear55-x-Slim (闭环控制)低温 压电运动- 线性位移系列纳米级压电位移台Linear55-x-Slim主要特征&bull 紧凑设计, 尺⼨ : 55*55*10.5 mm&bull 超⾼ 真空 & 超低温兼容: 2 E- 11 mbar & 30 mK&bull ⽆ 磁材料(纯 Ti & BeCu)，最⾼ 兼容 18 Tesla 磁场&bull 超⾼ 负载 & 超⾼ 推⼒ : 2500 g & 3 N&bull ⼤ ⾏ 程 : 30 mm&bull 闭环控制，内置位置传感器， 最⼩ 位置分辨率 0.1 um纳米级压电位移台Linear55-x-Slim⼆ 维尺⼨ Linear55-x-Slim, SpeciÞ cation*所有数据均通过50欧姆线缆测量. 虽然对导线的电导率没有要求，但我们建议电阻低于50欧姆。 可选版本 ⇨ .HV (默认).ULT.UHV.ULT.UHV.HV ⾼ 真空版本，默认产品 .ULT 超低温版本, 兼容氦-3制冷系统 & 稀释制冷机.UHV 超⾼ 真空版本, 最⾼ 兼容 2E-11 mbar1 三维尺⼨ 55.× 55 mm × 10.5 mm2 质量130 g适⽤ 环境范围 3 基础温度范围: 1.4 ~ 400 K 最低真空度: 2e-7 mbar 最⼤ 磁场: 18 Tesla4 可选1 - 30 mK&check &check 5 可选2 - 2e-11 mbar&check &check 材质6 主体Pure TiBeCuPure TiBeCu7 线缆磷⻘ 铜双绞线，20cm8 针脚材质聚酯材料（玻璃纤维填充）, BeCuPeek, BeCu9 针脚数量驱动 -2 pins，传感 - 3 pins运动参数10 ⾏ 程30 mm11 最⼤ 运动速度 @300 K~ 2 mm/s12 驱动电压Max. 200 V13 最⼤ 负载2500 g14 最⼤ 推⼒ 3 N传感器（闭环）15 位置传感器电阻传感16 传感器⾏ 程30 mm17 传感器分辨率~ 150 nm18 重复定位精度1 - 2 um

纳米级球磨机/高速行星球磨机JQ-NM JQ-NM纳米级球磨机也叫高速行星球磨机，翻开了高科技研磨的新篇章。研磨碗嵌入主盘中，转速可达1100rpm,相当于95倍的重力速度。其结果是在极短时间内样品最终研磨细度可以达到纳米级别。产品特点：l JQ自动化控制系统1～10段以上的梯度程序运行模式，每段梯度程序可运行100个由时间\转速\正反转的运行方式。l 进行自动化运行模式。所有周期可记忆，再次运行此模式，提取使用，如果不需要直接删除即可。可以记忆10段程序。不用每次编排，节省时间和人力。l 研磨室设计密封防尘，带观察窗l 与介质接触的罐子材质均不能给介质带来污染l 最大连续工作时间（满负荷）：72小时l 噪音：超低噪音德国技术 运作无噪音无振动l 七寸液晶触摸屏幕、数字屏（附带旋钮调节转速）可随意切换正传/反转/定时/多段设置/等，直接屏幕设定，操作简单l USB接口，可远程升级设备功能，提高设备软件能力，如果连接冷水系统和TM无线温度传感系统,可无线显示和控制温度 ，可连接电脑，由电脑控制。 通过单台电脑软件控制多台球磨机的强大高通控制能力。型号JQ-NM订货号JQ001631-0115最大进样尺寸≦10mm最大处理量1000ml最终细度150纳米(物料不同略有差异)最多可同时处理的样品数量4个研磨罐的容量50ml--1000ml研磨罐材质不锈钢、 碳化钨、石英、 玛瑙、尼龙… … 研磨球的直径根据罐子和物料配置研磨方法 湿法重量 170kg尺寸(长宽高)800x500x500mm

JH-NM纳米级球磨机/高速行星球磨机产品简介JH-NM纳米级球磨机/高速行星球磨机，翻开了高科技研磨的新篇章。研磨碗嵌入主盘中，转速可达1100rpm,相当于95倍的重力速度。其结果是在极短时间内样品最终研磨细度可以达到纳米级别。配件50ml分散罐 不锈钢100ml分散罐 不锈钢JH-NM纳米级球磨机/高速行星球磨机技术参数进样尺寸碳纳米管最终出料粒度2～3μm(整体均匀度在2~3微米之间)振动频率设置10-2000次/分钟典型粉碎时间10min研磨方式干磨显示方式大屏幕液晶触摸屏研磨平台数2/4研磨罐种类旋盖型研磨罐研磨套件材料硬质钢研磨球材质不锈钢、氧化锆、碳化钨粉碎时间设定数显1秒-99分59秒程序设定10段以上驱动无刷电机功率250W/500W机体尺寸(宽*高*纵深)300*500*420净重~35Kg

纳米级材料振动分散机JQ-NM10A/B/C 纳米级材料分散机采用三维高频振动技术，产生每分钟上千次的冲击、剪切、研磨，效率比球磨机提高几十倍。通过冲击力和摩擦力结合的方法来减小颗粒尺寸。电磁动力马达产生振动，通过研磨球的冲击振动进行分散纳米材料，纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住，以便达到颗粒完全被分离，此外，由研磨球翻滚运动产生的摩擦也使样品的尺寸进一步减小。 行业应用：适用于实验干样品或悬浮液中固体样品的精细研磨粉碎适用于乳状液或糊状物的均匀化处理适用于纳米材料分散，效果优于普通机械法和超声波法适用于无机矿物材料的表面改性、光饰作用，金属材料的机械合金化技术参数型号JQ-NM10A/B/C订货号JQ001631-0113定时器0—99小时分散珠材质氧化锆/碳化钨/不锈钢振动频率1500次/分主机尺寸Φ600 * 800主机重量140kg研磨罐数量（个）（A）1/（B）3/(C)6显示及控制液晶触摸屏（1~100段程序梯度设定）研磨罐容量50—1000ml　研磨罐材质PTFE、碳化钨、不锈钢、尼龙、玛瑙、氧化锆等显示方式液晶触摸屏(功率曲线、转速、振动平衡提示）电压220V 备注纳米分散时纳米材料的添加溶剂、助剂、分散剂、树脂配比需要用户自行掌握

魔技纳米PROME-Uni基于多光⼦ 聚合原理的超⾼ 速度一体化纳米级三维加⼯ 设备自研专利技术，大幅提高加工效率，突破多光子聚合速度限制，适应不同尺度的精密加工需求；拥有多项稳定系统，可长时无需维护，稳定工作；采用模块化的光机电设计，拥有极高的灵活性和可扩展性；为科研和工业领域提供全新的3D加工技术解决方案，适用于微光学器件、微流控芯片、微机械、超材料、微纳传感器件光子芯片集成等领域 主要特点： 如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 企业介绍 魔技纳米科技是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有十年以上设备研发经验，深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域，打造具有自主知识产权的商用纳米级三维激光光刻直写制造系统。拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品，突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障，将纳米级制造精度和大范围生产相结合，提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

魔技纳米MJ-Works-Fiber专为光纤应用设计的纳米级三维激光直写设备MJ-Works-Fiber是一款专为光纤传感与光通信应用而生的超高精度加工而设计的高性能3D激光直写设备，配有超清成像及纳米级定位对准系统，可实现在光纤纤芯或光芯片表面及内部进行纳米级3D加工。配备有专门的卷对卷光纤自动输送装置，并配有应力监测，纤芯自动识别、定位及对准，实现高通量精准快速生产。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍]魔技纳米科技是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有十年以上设备研发经验，深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域，打造具有自主知识产权的商用纳米级三维激光光刻直写制造系统。拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品，突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障，将纳米级制造精度和大范围生产相结合，提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

魔技纳米DLW-Bio专为生物应用设计的加工检测一体纳米级三维激光直写设备DLW-Bio具备纳米级高精度3D加工能力，满足复杂生物结构的微纳制造需求，同时可兼有生物荧光显微功能。设备配备多种生物样品台，可根据具体需求灵活配置和定制，适应不同生物医学样品和微流控芯片等打印要求。该设备还特别配备多种生物相容性打印材料，包括无生物毒性且具备亚微米特征和高纵横比的光敏聚酯、水凝胶，均符合ISO-10993-5/USP87标准，可在生物医学领域安全应用。用户可以根据研究需要选择适合的材料，实现定制化的生物医学样品打印。从组织工程到微流控芯片，从药物递送系统到个性化医疗，DLW-RD-Bio为多样化的生物医学应用提供强大的材料支持。如需了解更多产品信息，欢迎查询我司官网 魔技纳米科技或来电咨询。 [企业介绍] 魔技纳米科技是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有十年以上设备研发经验，深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域，打造具有自主知识产权的商用纳米级三维激光光刻直写制造系统。拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品，突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障，将纳米级制造精度和大范围生产相结合，提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

仪器简介：Serendip LPN 新一代纳米级别高压均质机是能够将悬浊液经济有效的分散至纳米级别状态的设备。可把聚团块打散成纳米级别产物，可广泛用于制药，油墨，化妆品，涂料，食品，化工等各种行业。为什么要使用Serendip LNP？使用LPN,能够提升产品品质，最小化产品成本。尤其减少的生产时间更直接导致运行成本的优势，使用Serendip LPN对比与其他的传统技术，是极其经济有效的手段。技术参数：Serendip LPN 60根据尺寸/重量/及30-60L/H的流率，Serendip LPN60 是最适用于实验以及小批量产的设备；标准的Serendip LPN60 是无防爆的版本，可以轻松移动；机器的部件，如包装，垫片及阀等都是有耐磨材料制成，极耐物料对其的腐蚀。主要特点：商业优势：把现有工艺流程的简单整合，无需特殊改制；高产出，一台Serendip LPN媲美几台砂磨机；低能耗，与砂磨机相比，最高达90%；最高可至50% 的低维护成本（无机械密封，没有研磨介质消耗）对于&ldquo 高难&rdquo 分散的更少次数的加工（一到二次，而不是五次！）直接用于大量的生产和高科技物料环保优势：大大降低的传统高压匀浆机的输入压力要求（从1500巴降至700巴，大大减少了产热。）与传统分散研磨技术相比，减少能耗；较低的冷水消耗；只需最小量的清洗溶剂；增加解体，提高添加剂利用率；

仪器简介：Serendip LPN 新一代纳米级别高压均质机是能够将悬浊液经济有效的分散至纳米级别状态的设备。可把聚团块打散成纳米级别产物，可广泛用于制药，油墨，化妆品，涂料，食品，化工等各种行业。为什么要使用Serendip LNP？使用LPN,能够提升产品品质，最小化产品成本。尤其减少的生产时间更直接导致运行成本的优势，使用Serendip LPN对比与其他的传统技术，是极其经济有效的手段。技术参数：Serendip LPN 500/2000Serendip LPN500流率为250-500 L/H，Serendip LPN500 适用于工业生产；我们提供不同的配置，为工业生产的标准设备。标准的生产批量为1-3立方米。Serendip LPN 2000流率为1000-2000L/H，Serendip LPN2000 适用于极大型的工业应用。典型用于批量为几吨的生产或连续运行。个别的客户调整可以提供，但无必要技术修改。主要特点：商业优势：把现有工艺流程的简单整合，无需特殊改制；高产出，一台Serendip LPN媲美几台砂磨机；低能耗，与砂磨机相比，最高达90%；最高可至50% 的低维护成本（无机械密封，没有研磨介质消耗）对于&ldquo 高难&rdquo 分散的更少次数的加工（一到二次，而不是五次！）直接用于大量的生产和高科技物料环保优势：大大降低的传统高压匀浆机的输入压力要求（从1500巴降至700巴，大大减少了产热。）与传统分散研磨技术相比，减少能耗；较低的冷水消耗；只需最小量的清洗溶剂；增加解体，提高添加剂利用率；

一.机型称号：纳米碳管研磨混合机，药物研磨混合机，毫微米研磨混合机，超飞快研磨混合机，水管式研磨混合机，3级研磨混合机，高剪切研磨混合机。二.研磨机：机型19款，处理量50到8*10000KG/小时，旋转1100到1.4*10000转/分钟，线速度23到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW，磨头胶体磨&锥体磨。三.研磨分散机：机型6款，处理量50到6*1000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度23m/秒，电滚功耗2.2到150kW，磨头胶体磨。四.小型分散乳化机：机型30款，处理量0.2克到10KG/小时，旋转50到3*10000转/分钟，线速度3到33m/秒，电滚功耗0.3到0.8kW。五.真空分散乳化机：机型32款，处理量5到2*10000KG/小时，旋转14到1.4*10000转/分钟，线速度44m/秒，电滚功耗0.18到120kW。六.均质匀浆机：机型4款，处理量0.2到150克/小时，旋转3500到8*1000转/分钟，线速度3到10m/秒，电滚功耗0.145到0.18kW。七.多效用分散乳化均质机：机型27款，处理量150到12.5*10000KG/小时，旋转960到1.4*10000转/分钟，线速度10到44m/秒，电滚功耗1.5到160kW。八.混合机：机型I6款，处理量300到12.5*10000KG/小时，旋转1100到9*1000转/分钟，线速度20到23m/秒，电滚功耗1.5到160kW。九.实用物料种类：胶粘溶胶，巨粒子固态液体悬空液乳剂，不包溶等。十.终级粒径：主腔内有叁组定转子，每组粗齿、中齿、细齿、超细齿。调动定转子间隙，加工后地终级粒径在10微纳米之下。十一.胚料配件：百分之八十以上进ロ海内外公司。十二.技艺出处：引荐德国技艺，立发明加工，备有专利。十三.工作方式：有在线式，批次式，内外循环式，水管式，可倒式，若干效用式。十四.机型合成：靠预加工锅、搅动锅、泵、液压系统、倒料系统、电力调动系统、主腔等部件合成。十五.智力化：CIP冲洗系统，液压升降松盖，包括配料给料吸料安装。十六.磨头好处：研磨头可调5款模版，6款分散头，20多款工作头。十七.锥磨好处：锥磨转子外层包含金属碳化物跟不一样粒子地陶瓷镀层等高上材料，提防毁伤腐蚀。十八.机型材料：统统接碰物料地材料皆是进口耐酸钢，主腔跟管路内乃亮面抛光三百EMSH（卫生级），无死角。十九.密封好处：博格曼双机械密封，液压平稳系统（可以担当16atm重压），软密封。二十.搅动方式：可挑刮壁式/锚固式/融解式/叶面式。二十一.机型好处：机型采选上层同轴三重装搅动器，循环管路，出水阀。二十二.操控箱好处：不但可以操控电滚旋转，摄氏度降温升温（经历电能，热汽，油水循环，可以担当-40到250摄氏度），重压，PH度，粘性。且可以设定不一样效用模版，呈现相称地个个参数，可以线性扩大量产。二十三.可以抉择：察看窗，硅氟酸玻璃察看，电导率计，二重绝缘以防，稳固夹，工作架，底座，图谱剖析多效用显微硬度器（测试界限1到4千HV），管路式测试电炉（测试界限zui高1350度），输出泵/转子泵/气动隔膜泵/锚固泵/离心泵（处理量850到4.3*10000KG/小时），反应搅动单罐/组合罐（500到3*1000KG/小时），反渗透/全自动纯水安装（0.5到3*1000KG/小时)，臭氧发生器，过流式紫外线消菌器等。?.别的特长：整体立方小，电耗低，分贝低，可每日不断出产。?.访客垂访：按照访客实况必要恰当抉选！别的可订制非标和生产线！假若是非常情况，比方超温，超压，易烧易炸，侵蚀性，可产品升级！?.物料测量：得到访客物料后当即投入测量，瞧可否到达要求&答复测量进程&成果。?.方案价格：断定好产品功用后当即策画方案，包含2D部署图，总安装出产线表示图，立体成果图，&呈上本该得价格单子！?.结语：我们是出产厂家，详尽信息可以企业查看，因此分外恭候访客去垂访&更深一步长谈！以上信息不容坊造，非常道谢！扩展内容可不看：碳纳米管（CNTs），管状纳米级石墨晶体，是由单层或多层石墨片以一定的螺旋角绕中心轴卷曲而成的无缝纳米管。 每一层的C经过SP2杂化形成六边形平面的圆柱面。 碳纳米管还具有天然存在的碳晶体的特性。 制造被称为碳原子材料的碳纳米管。 科学发现自然，自然验证科学。

产品介绍LUMiSpoc是一款高端的单颗粒计数仪(纳米级)，类似于流式细胞仪，它以绝佳的分辨率和动态范围测量悬浊液和乳浊液中纳米和微米颗粒的粒度分布和颗粒浓度。 仪器基于单粒子光散射技术SPLS ( Single Particle Light-Scattering)，该技术记录单个纳米和微米颗粒在通过具有特殊光束横截面的激光束时小角度和侧向的散射光。 SPLS Technology技术能够深入了解复杂的纳米和微米微粒系统，从而帮助您优化颗粒和分散体系产品。 LUMiSpoc - 纳米颗粒计数新标准。应用领域分散体包括：CMP浆料，炭黑，颜料，填料，医药乳浊液和悬浊液，标样/参考样，生物细胞，病毒。。。颗粒计数和粒径测定颗粒浓度测定直接测定纳米和微米颗粒的粒径分布纳米材料分级记录团聚和絮凝动力学变化过程确定颗粒尾端分布颗粒污染物检测检测分离膜和过滤介质，确定截留点优势超高分辨率的单峰、多峰和多颗粒分散体系粒度的分布优异的颗粒分级计数效率高（高频数字化、脉冲分析和分级）宽泛的动态范围（可测量40 nm到8µ m的粒径），无需切换范围或改变组件检测时间短易于操作样品量少嵌入式触屏和基于服务器/浏览器的软件通过参考粒子进行单点校

布鲁克Anasys的 nanoIR3-s 系统将散射扫描近场光学显微镜（s-SNOM）、纳米级红外光谱（AFM-IR）与原子力显微镜（AFM）完美整合到单一平台。依托 Anasys 技术在 AFM 纳米光学表征方面的领先地位，nanoIR3-s 可提供纳米级红外光谱、化学成像和光学成像，在 2D 材料样品上实现 10 纳米空间分辨率。该系统还可以提供达到纳米级分辨率的 AFM 形貌和性能成像，因此是对各种材料科学应用开展相关性研究的理想仪器。只有 nanoIR3-s 能够提供：高性能纳米级 FTIR 光谱高性能红外近场光谱，采用目前最先进的纳米红外激光源纳米级 FTIR 光谱，采用集成式DFG，可与宽带同步辐射光源集成适用于光谱和化学成像的多芯片 QCL 激光源

中图仪器NS系列纳米级表面测量台阶仪是一种接触式表面形貌测量仪器，可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。NS系列纳米级表面测量台阶仪采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3）应力测量：可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1）单区域测量模式：完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度，即可开始测量。2）多区域测量模式：完成Focus后，根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式，一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3）3D测量模式：完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置，一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.双导航光学影像功能在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机，在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径，在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能采用了磁吸式测针，当需要执行换针操作时，可现场快速更换扫描测针，并根据软件中的标定模块进行快速标定，确保换针后的精度和重复性，减少维护烦恼。磁吸针实物外观图（330μm量程）NS系列纳米级表面测量台阶仪对测量工件的表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求，样品适应面广，数据复现性高、测量稳定、便捷、高效，是微观表面测量中使用非常广泛的微纳样品测量手段。应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位。典型应用部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

ALIO高精度纳米级高负载电动旋转台产品负责人：姓名：李工(Maple)电话：（微信同号）邮箱：ALIO高精度纳米级高负载电动旋转台产品简介： 昊量光电推出全新一代高精度纳米级高负载电动旋转台，通过集成无框扭矩伺服电机，这些高负载电动旋转台能够处理需要极大质量和加速度的应用，同时保持纳米级精度。ALIO高负载电动旋转台 对材料和零件机械加工的关注保证了这些旋转器的标准重复性高达 0.2 弧秒。 可提供不同型号（从 80 毫米到 300 毫米的可变直径）和电机，以满足任何负载、加速度和工作循环的要求。 10 多年来，ALIO高负载电动旋转台 一直专注于纳米精密运动和可重复性。由 ALIO高负载电动旋转台 引入的 Nano Point Precision™ 6-D 和 True Nano™ 概念现已被 NIST 采用，并被认为是未来运动系统测量和量化的标准方法。 Nano Point Precision 6-D 包括移动工作台的所有 6 个误差自由度：它允许您根据精确点（在 3D 空间中）指示“精度数字”，并用于许多应用，从激光处理到计量。ALIO高负载电动旋转台 生产一系列线性运动控制解决方案，这些解决方案的设计和制造符合可保证其性能的标准。该公司的机械轴承台可以以任何空气轴承台无法复制的精度水平运行。 在用户群体中，ALIO高负载电动旋转台 提供了超精确且具有成本效益的运动控制解决方案，即使对于苛刻的应用也是如此。该公司由一支无与伦比的杰出工程师团队组成，他们痴迷于纳米级运动控制，并尽可能突破感知界限。带有交叉滚子轴承的整体式 XY 系统 ALIO 的机械轴承旋转台采用交叉滚子轴承设计，以提高偏置负载的刚度和旋转精度。与伺服扭矩无框电机集成，这些平台可以处理质量和加速度需求比较苛刻的应用，同时仍保持纳米级精度性能。 使用 ALIO 提供的运动控制器，标准 ALIO 旋转平台具有 0.2 弧秒的可重复性。 也提供真空版本和用于安装主轴的附件。有带角接触轴承的旋转台 这些是市场上紧凑的转台，专门设计有角接触轴承，可将轮廓减小到很小。通过集成无铁芯伺服电机，这些工作台非常适合需要具有纳米精度的小角位移的计量应用。同样对于该产品线，ALIO 保证高达 0.2 弧秒的标准重复性和不同的直径/电动组合，以满足任何负载、加速度和工作循环要求。定制化需求 ALIO 真正定制其核心运动控制解决方案的能力使其与替代解决方案提供商区别开来，通过精确匹配 OEM 客户的需求以及推动纳米精密应用的极限，提供显着的附加值。

高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台产品负责人：姓名：李工(Maple)电话：（微信同号）邮箱： 昊量光电推出全新一代高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台，在保证纳米级精度（双向线性可重复性30nm）的前提下可以达到80kG（可选）的中心负载。 10 多年来，ALIO 一直专注于纳米精密运动和可重复性。由 ALIO 引入的 Nano Point Precision™ 6-D 和 True Nano™ 概念现已被 NIST 采用，并被认为是未来运动系统测量和量化的标准方法。 Nano Point Precision 6-D 包括移动工作台的所有 6 个误差自由度：它允许您根据精确点（在 3D 空间中）指示“精度数字”，并用于许多应用，从激光处理到计量。ALIO 生产一系列线性运动控制解决方案，这些解决方案的设计和制造符合可保证其性能的标准。该公司的机械轴承台可以以任何空气轴承台无法复制的精度水平运行。 在用户群体中，ALIO 提供了超精确且具有成本效益的运动控制解决方案，即使对于苛刻的应用也是如此。该公司由一支无与伦比的杰出工程师团队组成，他们痴迷于纳米级运动控制，并尽可能突破感知界限。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 带有交叉滚子轴承的整体式 XY 系统 凭借纳米直线度和纳米平面度，您可以放心，您的精度是 True Nano。该系列位移台还提供中间开口和 50 毫米至 450 毫米的行程。标准的双向可重复性小于 50 纳米，但对于更苛刻的计量和生产需求，可以提供双向可重复性为 10 纳米配置（可选）。 纳米精度由 NIST 可追溯数据保证，而不是由数据表中指示的数字保证。 也可提供不对称版本（不同的 X 和 Y 行程）。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 带有伺服电机 CM的直线工作台 由 ALIO 设计的带有伺服电机的直线工作台是希望在不牺牲 True Nano 精度的情况下限制成本的客户的理想解决方案。带有 CM 伺服电机的工作台仍然具有 ALIO 6-D 精度，但由于力较小，它们适用于所有需要低水平加速度和力的应用。该系列中的板使用集成在其他 ALIO 产品中的相同精密防滑轴承。可提供从 25 毫米到 400 毫米的行程。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 定制化需求 ALIO 真正定制其核心运动控制解决方案的能力使其与替代解决方案提供商区别开来，通过精确匹配 OEM 客户的需求以及推动纳米精密应用的极限，提供显着的附加值。高精度纳米级高负载电动线性/二维位移台 详细参数请下载数据单

纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属颗粒具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应、宏观量子隧道效应，并且有许多奇特的电学、光学、磁学性能，使它在航天、原子能、军事、电子、化工、冶金等工业有着重要的应用价值。纳米金属粉体分散液可广泛用于涂料、油墨、电子工业等域。 目随着纳米金属粒子的生产工艺逐渐成熟，它的应用也随之扩大。在其应用过程中，较突出的问题是纳米金属粒子由于表面积大和表面能高，在制备、后处理及应用过程中易发生粒子凝结、团聚、形成二次粒子，使颗粒粒径变大，从而失去纳米粉末所具备的性能。研究者们为提高纳米金属粒子的分散性和稳定性，提出了一些有效的方法。 根据我司为多家客户定制方案，建议采用的方案为：在罐体内先进行固体物料的简单混合,将需要的配比浓度的物料投入罐体内,开动低速搅拌机进行简单混合,使得物料形成较为均一的物料；然后再罐体底部的物料出口开动阀门使得物料由管路进入我司的管线式研磨分散机进行剪切研磨分散处理,经过剪切研磨分散后在由设备的出口管路输送进入罐体内,实现物料的一次循环处理！经过多次罐外循环处理能达到很好的分散悬浮效果,物料颗粒细度均一。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机 纳米金属粉体超高速研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）；2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）；3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）；4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）；5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）。纳米金属粉体超高速研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。设备等：化工、卫生I、卫生II、无菌电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、气动马达电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ电机选配件： PTC 热保护、降噪型均质机材质：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti均质机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车均质机表面处理：抛光、耐磨处理进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍均质机选配容器：本设备适合于种不同大小的容器.IKN管线式研磨分散机的技术参数：研磨分散机流量*输出线速度功率入口/出口连接类型l/hrpmm/skWCMD 2000/470014000404DN25/DN15CMD 2000/55,00010,5004011DN40/DN32CMD 2000/1010,0007,3004022DN50/DN50CMD 2000/2030,0004,9004045DN80/DN65CMD 2000/3060,0002,8504075DN150/DN125CMD 2000/501000002,00040160DN200/DN150*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。纳米银粉超高速纳米研磨分散机，纳米铝粉银粉高剪切研磨分散机，纳米金属粉体超高速研磨分散机，机械法循环型研磨机，金粉耐磨高速分散机，珠光防伪变色油墨研磨分散机

仪器简介 ANASYS公司长期致力于纳米热学分析领域，开发出了多种新颖的、易操作的研究和分析仪器。基于多年累积的纳米热学专利技术，ANASYS又推出了一款最新的测试技术仪器&mdash &mdash Nano-IR纳米级红外光谱仪。突破了传统的傅里叶红外光谱（FT-IR）及衰减全反射红外光谱（ATR-IR）的分辨局限，让用户可以获得纳米尺度上的红外光谱分析、热分析、扫描探针成像和热力学性能测试。技术参数主要技术参数光谱范围：1200-1600cm-1光谱分辨率：16cm-1最大图像尺寸：100&mu m× 100&mu m光谱采集时间：&le 1min主要特点①　与&ldquo 远场&rdquo 光学相比，改技术的特点在于吸收的辐射可以通过尖端近场的尖端得到测量。②　PTIR技术可以实现纳米级红外并获得样品的化学性质。③　接触共振获得样品的力学性质。④　通过原子力显微镜（AFM）获得高分辨率的样品三维相貌图。⑤　纳米热学分析获得样品的热量传输温度。⑥　Nano-IR操作软件能够自动的跟踪并且可以让用户便捷的获得样品任 意位置的红外吸收光谱。

PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机是以纳米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的，通过垂直提拉浸渍在液相中的样件而生长薄膜。PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机采用PLC程序控制系统，以彩色触摸屏为数据输入输出端，显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、浸渍时间、干燥时间等参数。本机配备恒温干燥箱，使薄膜生长过程在一个恒定的温度下进行，且有利于薄膜的固化。PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机体积小巧，可节省实验室空间；操作简单，适合初学者使用；清理方便。因此，本机主要用于纳米材料研究、表面处理及其它材料的提拉涂膜，更是广大高等院校、研究院所涂膜的理想设备。1、采用彩色触摸屏，界面清晰，方便参数设置。2、浸渍提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行，有利于薄膜形成及固化。3、采用悬空电机的技术来进行减震。4、采用高精度步进电机。5、操作安全可靠，简单易懂。6、已通过CE认证。产品名称 PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机产品型号 PTL-NMB安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：不需要2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：不需要4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 850W2、提拉速度：1nm/s-500nm/s3、有效浸渍长度：60㎜4、浸渍、干燥时间设置：1-999s5、可提拉次数：1-20次6、温度：RT-100℃7、样件尺寸：75mm×25mm×2.5mm恒温箱技术参数：1、温度范围：室温+5~100℃2、温度波动：±1.5℃3、外形尺寸：460×510×695产品规格 尺寸：450mm×500mm×970mm标准配件 1、涂膜卡具1套2、载料杯1个3、提拉丝3条

纳米研磨乳化机主要针对纳米物料在工艺过程中产生的团聚颗粒的进行充分的粉碎研磨、分散乳化，以及细胞破碎、精细化工等细化要求较高的物料破碎研磨及分散乳化。其主要结构如下，富莱克纳米分散乳化机转定子是有几百至上万颗凹凸不平齿牙在工作腔内交错排列、精密配合而成，而且齿牙的剪切表面积比转定子的平面积大出2倍以上，物料经过这个犬牙交错、高低不平既精致又狭窄的通道时必须承受几千万次的强力剪切、高速相撞、粉碎研磨、高频振荡，所以这种转定子的齿牙三角形犬牙式设计是粉碎分散乳化设备中精度最高、制造最难、效果最好的设备之一，而且细度高、稳定性好，最小细化可达0.05μm.

产品介绍：纳米级静电纺丝机LSNE-3000是一种利用高压电将高分子聚合物或者熔体在强电场中进行喷射纺丝，最终得到纳米级直径的聚合物细丝。所制备的纳米纤维膜在生物医药学、滤器、复合材料传感器等领域具有广泛应用。纳米级静电纺丝机LSNE-3000产品规格参数：该仪器配备有高压电源，双喷头系统以及滚筒收集器，喷头和收集器关联系统，可独立控制的计量泵，喷头和收集器参数由控制系统控制，参数可调，满足不同实验的需求。可用于制备直径为几十纳米超细纤维，其具有非常高的比表面积，超细的直径以及极大的孔隙率。多种聚合物都可由该设备制备纳米纤维，例如PVA、PVP、PAN和PS等，还包括掺杂有其他金属离子的聚合物等。双喷头系统双喷头分别位于滚筒收集器的两侧，采用医用针头，可更换不同直径的针头，通过不同直径针头和计量泵参数的设置，可获得不同成分的复合纤维膜，满足不同实验的要求；两通道计量泵：采用连续化计量泵，使用方便，数字显示，流动速度、注射量均可以精确控制。两通道可以独立控制，设定不同的推进速度，可以和不同规格的注射器配合使用标配注射器直径0.7 mm注射液泵标配针管容积5 mL高压电源0-21 kV，数字显示、过流保护、过压保护收集筒转速铜滚筒转速0-3000 rpm，精确可调且一体成型，运行平稳产品尺寸80 cm*69 cm*69 cm 纳米级静电纺丝机LSNE-3000技术优势：高压电源0~21 kV，数字显示，过流保护，过压保护；双喷头系统分别位于滚筒收集器的两侧，采用医用针头，可更换不同直径的针头，通过不同直径针头和计量泵参数的设置，可获得不同成分的复合纤维膜，满足不同实验的要求；两通道计量泵：采用连续化计量泵，使用方便，数字显示，流动速度、注射量均可以精确控制。两通道可以独立控制，设定不同的推进速度，可以和不同规格的注射器配合使用；滚筒收集器：铜滚筒转速0~3000 rpm，精确可调且一体成型，运行平稳不晃动。纳米级静电纺丝机LSNE-3000产品特点：全方位的安全保障，设计紧凑，直观便捷；具有双喷头，单独控制，可同时进行两种成分的电纺丝，在制备复合材料方面具有很大应用；喷头端可以前后左右调节，控制针头的位置；适用于不同物理性能的喷射材料。

纳米二氧化硅高速研磨分散机，循环型纳米粉体高速分散机，中剪切高速粉体高速分散混合机，纳米SiO2立式研磨高速分散机，中试小试纳米材料高速分散机，纳米粉体改性高速分散混合机 纳米二氧化硅是及其重要的高科技超微细无机新材料之一,由于其粒径很小，因此比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及域内独具特性，有着不可取代的作用。纳米二氧化硅俗称“超微细白炭黑”，广泛用于各行业作为添加剂、催化剂载体，石油化工，脱色剂，消光剂，橡胶补强剂，塑料充填剂，油墨增稠剂，金属软性磨光剂，绝缘绝热填充剂，日用化妆品填料及喷涂材料、医药、环保等各种域。并为相关工业域的发展提供了新材料基础和技术保证。由于它在磁性、催化性、光吸收、热阻和熔点等方面与常规材料相比显示出特异功能，因而得到人们的大重视。　　使用纳米SiO2的关键是确保其在不饱和聚酯树脂中达到良好的分散，分散越好，则触变指数越大，力学强度越高。【纳米粉体分散的常用设备】　　1、超声分散机，超声方式分散，对于小批量的物料还行，但无法放大生产。　　2、机械搅拌分散机，这种在工业化分散中比较常见，但是由于自身的结构，转速低，分散有死角，导致终分散效果差，并且分散的效率很低。　　3、混合分散机，这种分散机适合高粘度的物料的分散，电机功率大，但是也存在和机械搅拌分散机一样的问题，分散效率低，效果差。　　现在市面上纳米SiO2基本都是用化学法和物理法，化学法是将有机硅化合物，氢气与氢气或者空气混合燃烧，有机硅化合物在高温燃烧后，在反应生成的水中进行高位水解，从而制得纳米二氧化硅。 物料法主要是机械粉碎，通过超细粉碎产生的冲击，剪切，摩擦等力的综合作用，对大颗粒二氧化硅进行超细粉碎。然后利用高效分组装置分离不同的粒径的颗粒，从而实现纳米二氧化硅末粒度分布的均匀的与特定化。纳米二氧化硅高速研磨分散机，循环型纳米粉体高速分散机，中剪切高速粉体高速分散混合机，纳米SiO2立式研磨高速分散机，中试小试纳米材料高速分散机，纳米粉体改性高速分散混合机从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：1 分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）2 分散头的剪切速率 （越大，效果越好）3 分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）4 物料在分散腔体的停留时间，分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）【IKN分散机在纳米粉体分散中优势】　　1、随着纳米粉体分散的进一步发展，上海IKN研发出的分散设备-研磨分散机。结构为胶体磨头+分散头定转子，先研磨打开团聚体，在瞬时通过分散工作组进行分散，分散效率快，分散效果好。　　2、IKN研磨分散机在纳米粉体的分散中有着突出的应用和优势，如纳米氢氧化镁、纳米氢氧化铝、石墨烯、碳纳米管、二氧化硅、纳米树脂、纳米涂料、医药纳米混悬液等都有着成功的经验和案例。　　3、IKN研磨分散机的研发初衷就是为了解决纳米物料分散，解决粉体分散到液体中，二次团聚的问题。IKN研磨分散设备该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三高剪切均质乳化机进行改装，我们将三变更为一，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。IKN研磨分散机由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，同时，可将电机能量更有效地转化为尺寸减小力，从而在粉末研磨和精细化学粉碎方面先于其他同行业设备。被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。纳米二氧化硅研磨分散机设备结构： 第yi由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。纳米二氧化硅高速研磨分散机，循环型纳米粉体高速分散机，中剪切高速粉体高速分散混合机，纳米SiO2立式研磨高速分散机，中试小试纳米材料高速分散机，纳米粉体改性高速分散混合机

一、砂磨机介绍①什么是砂磨机？湿磨砂磨机是一种将粉末精制到纳米级的机器。通过在研磨机中与研磨珠一起搅拌来粉碎分解分散液体中的粉体(浆料)。 ②使用砂磨机来使颗粒更细，到底会有什么样的作用呢? ③可使用到砂磨机的产品： ④砂磨机中发生了什么？ ⑤砂磨机和球磨机的比较 ⑥单桶循环彩图/双桶循环彩图 ⑦砂磨机的工作原理：砂磨机属于湿法超细研磨设备,，是从球磨机发展而来,广泛应用于超细粉体（亚微米、纳米级粉体）的生产过程中。砂磨机有不同的分类方式:根据搅拌轴的结构形状可分为盘式、涡轮式、棒销式 根据研磨筒的布置形式可以分为立式,卧式 也可根据筒体容积大小区分。 ⑧砂磨机的发展历程砂磨机发展大概经历了以下几个阶段:第一阶段:立式搅拌磨〔棒式+底部筛网分离器)第二阶段:立式盘式砂磨机（盘式+顶部筛网分离器）第三阶段:立式棒销砂磨机(棒式+顶部缝隙分离器)第四阶段:卧式盘式砂磨机（盘式+动态间隙分离器）〔棒式+大过滤面积分离器）第五阶段:立式棒销砂磨机（棒式+无晒网离心分离)适用于小批量生产卧式棒销砂磨机（棒式+大过滤面积分离器）（棒式+无晒网离心分离）适用于大批量生产⑨砂磨机的主要指示A、砂磨机的流量:影响产品细度，产量以及粒度分布。B、搅拌轴线速度:影响研磨效率，物料细度及磨损。线速度大小影响研磨介质施加给物料颗粒的动能强度，一般为8-16m/s。C、介质尺寸:影响研磨效率，产品细度。介质径越小，磨球之间接触点多和接触间隙越小，理论上研磨物料粒径越小，但是还要取决于物料进料粒径等多方面因素，总之合适尺寸的研磨介质，研磨合适粒径的物料。D、介质填充率:影响研磨效率，产品细度。研磨介质装填率高，研磨效率高，但是过高装填率会引起砂磨机温升过高或者出口堵塞。研磨介质装填率过低，研磨效率低，磨损加剧，研磨时间延长 合适的装填率质量计算法=砂磨机有效容积×装填率（70-85%)×介质堆积密度)。E、介质比重:影响研磨效率。产品细度。介质比重越大，动能越大，研磨效率越高。F、分离间隙尺寸:分离器的结构及缝隙宽度决定研磨介质尺寸大小。一般情况下研磨介质直径为砂磨机分离器缝隙宽度的2-4倍。 二、产品说明MQ-B1~B10动态筛网棒效纳米砂磨机是一款超细纳米研磨精密设备，装配尺寸及公差等级较高，能适应批量0.1mm及以下氧化锆球有效研磨，由于筛网是动态分离网，不容易堵机，设备稳定性好。超细纳米研磨，适用小批量高要求纳米级材料行业。 三、主要特点动态筛网，不容易堵网，可用更细的氧化锆球稳定运行。 四、主要技术参数◆适合细度：1um-50nm◆磨介尺寸：≥0.05nm

中图仪器NS系列纳米级高精度台阶仪接触式表面形貌测量是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。台阶仪工作原理当触针沿被测表面轻轻滑过时，由于表面有微小的峰谷使触针在滑行的同时还沿峰谷作上下运动。触针的运动情况就反映了表面轮廓的情况。结构主要组成部分1、测量系统（1）单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。（2）线性可变差动电容传感器（LVDC），具有亚埃级分辨率，13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差，使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。（3）传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调，以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台（1）精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台，可以对样品的位置以及角度进行调节，三维位置均可以调节，利于样品调整。（2）超高直线度导轨，有效避免运动中的细微抖动，提高扫描精度，真是反映工件微小形貌。3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机，即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上，使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响，使实验数据更加准确。NS系列纳米级高精度台阶仪接触式表面形貌测量应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3）应力测量：可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1）单区域测量模式：完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度，即可开始测量。2）多区域测量模式：完成Focus后，根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式，一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3）3D测量模式：完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置，一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.双导航光学影像功能在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机，在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径，在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能NS系列纳米级高精度台阶仪接触式表面形貌测量采用了磁吸式测针，当需要执行换针操作时，可现场快速更换扫描测针，并根据软件中的标定模块进行快速标定，确保换针后的精度和重复性，减少维护烦恼。磁吸针实物外观图（330μm量程）应用场景介绍

ALIO电动垂直运动平台-高精度纳米级高负载产品负责人：姓名：李工(Maple)电话：（微信同号）邮箱：10 多年来，ALIO 一直专注于纳米精密运动和可重复性。由 ALIO 引入的 Nano Point Precision™ 6-D 和 True Nano™ 概念现已被 NIST 采用，并被认为是未来运动系统测量和量化的标准方法。电动垂直运动平台-ALIO高精度纳米级高负载产品简介：Nano Point Precision 6-D 包括移动工作台的所有 6 个误差自由度：它允许您根据精确点（在 3D 空间中）指示“精度数字”，并用于许多应用，从激光处理到计量。ALIO 生产一系列线性运动控制解决方案，这些解决方案的设计和制造符合可保证其性能的标准。该公司的机械轴承台可以以任何空气轴承台无法复制的精度水平运行。在用户群体中，ALIO 提供了超精确且具有成本效益的运动控制解决方案，即使对于苛刻的应用也是如此。该公司由一支无与伦比的杰出工程师团队组成，他们痴迷于纳米级运动控制，并尽可能突破感知界限。Z-tables / Elevators：具有纳米级精度的垂直运动平台设计是 ALIO 接受并能够获胜的真正挑战。过去的解决方案，例如楔子，当然很紧凑，但在所有 6 个自由度上都缺乏亚微米级精度，而带有配重的线性工作台需要复杂的设计并占用空间。带有空气平衡器的 ALIO垂直运动平台设计出色地解决了这个问题，同时保证了紧凑性和纳米精度。电动垂直运动平台定制化需求ALIO 真正定制其核心运动控制解决方案的能力使其与替代解决方案提供商区别开来，通过精确匹配 OEM 客户的需求以及推动纳米精密应用的极限，提供显着的附加值。

一、砂磨机介绍①什么是砂磨机？湿磨砂磨机是一种将粉末精制到纳米级的机器。通过在研磨机中与研磨珠一起搅拌来粉碎分解分散液体中的粉体(浆料)。 ②使用砂磨机来使颗粒更细，到底会有什么样的作用呢? ③可使用到砂磨机的产品： ④砂磨机中发生了什么？ ⑤砂磨机和球磨机的比较 ⑥单桶循环彩图/双桶循环彩图 ⑦砂磨机的工作原理：砂磨机属于湿法超细研磨设备,，是从球磨机发展而来,广泛应用于超细粉体（亚微米、纳米级粉体）的生产过程中。砂磨机有不同的分类方式:根据搅拌轴的结构形状可分为盘式、涡轮式、棒销式 根据研磨筒的布置形式可以分为立式,卧式 也可根据筒体容积大小区分。 ⑧砂磨机的发展历程砂磨机发展大概经历了以下几个阶段:第一阶段:立式搅拌磨〔棒式+底部筛网分离器)第二阶段:立式盘式砂磨机（盘式+顶部筛网分离器）第三阶段:立式棒销砂磨机(棒式+顶部缝隙分离器)第四阶段:卧式盘式砂磨机（盘式+动态间隙分离器）〔棒式+大过滤面积分离器）第五阶段:立式棒销砂磨机（棒式+无晒网离心分离)适用于小批量生产卧式棒销砂磨机（棒式+大过滤面积分离器）（棒式+无晒网离心分离）适用于大批量生产⑨砂磨机的主要指示A、砂磨机的流量:影响产品细度，产量以及粒度分布。B、搅拌轴线速度:影响研磨效率，物料细度及磨损。线速度大小影响研磨介质施加给物料颗粒的动能强度，一般为8-16m/s。C、介质尺寸:影响研磨效率，产品细度。介质径越小，磨球之间接触点多和接触间隙越小，理论上研磨物料粒径越小，但是还要取决于物料进料粒径等多方面因素，总之合适尺寸的研磨介质，研磨合适粒径的物料。D、介质填充率:影响研磨效率，产品细度。研磨介质装填率高，研磨效率高，但是过高装填率会引起砂磨机温升过高或者出口堵塞。研磨介质装填率过低，研磨效率低，磨损加剧，研磨时间延长 合适的装填率质量计算法=砂磨机有效容积×装填率（70-85%)×介质堆积密度)。E、介质比重:影响研磨效率。产品细度。介质比重越大，动能越大，研磨效率越高。F、分离间隙尺寸:分离器的结构及缝隙宽度决定研磨介质尺寸大小。一般情况下研磨介质直径为砂磨机分离器缝隙宽度的2-4倍。 二、产品用途MQ-B150~B400高效棒销式纳米陶瓷砂磨机是一款新型大流量循环砂磨机，是目前超细研磨设备的精华。采用循环砂磨工艺或多次研磨工艺能提高产能，产品颗粒级配分布得以优化。稍加一些控制功能，可保证产品的可复制性及节约成本。大尺寸转子加上筒状缝隙式分离器，使该型设备可使用不同材质小粒径磨介。对于有避免金属污染要求的物料，可采用陶瓷(碳化硅、氮化硅、氧化锆) 及聚氨酯结构材料。适用于锂电材料(磷酸铁锂、硅碳负极等)、硅微粉、氧化锆、氧化铝、硅酸锆、电子陶瓷、农药悬浮剂、磁性材料、墨水涂料、医药食品、生物化工及其他纳米级材料领域。 三、主要特点满足相关行业的湿法纳米研磨，清洗方便，维护简单，效率高、产量大、能耗低，控制简单。 四、主要技术参数◆适合细度：1um-50nm◆磨介尺寸：≥0.2nm

一、砂磨机介绍①什么是砂磨机？湿磨砂磨机是一种将粉末精制到纳米级的机器。通过在研磨机中与研磨珠一起搅拌来粉碎分解分散液体中的粉体(浆料)。 ②使用砂磨机来使颗粒更细，到底会有什么样的作用呢? ③可使用到砂磨机的产品： ④砂磨机中发生了什么？ ⑤砂磨机和球磨机的比较 ⑥单桶循环彩图/双桶循环彩图 ⑦砂磨机的工作原理：砂磨机属于湿法超细研磨设备,，是从球磨机发展而来,广泛应用于超细粉体（亚微米、纳米级粉体）的生产过程中。砂磨机有不同的分类方式:根据搅拌轴的结构形状可分为盘式、涡轮式、棒销式 根据研磨筒的布置形式可以分为立式,卧式 也可根据筒体容积大小区分。 ⑧砂磨机的发展历程砂磨机发展大概经历了以下几个阶段:第一阶段:立式搅拌磨〔棒式+底部筛网分离器)第二阶段:立式盘式砂磨机（盘式+顶部筛网分离器）第三阶段:立式棒销砂磨机(棒式+顶部缝隙分离器)第四阶段:卧式盘式砂磨机（盘式+动态间隙分离器）〔棒式+大过滤面积分离器）第五阶段:立式棒销砂磨机（棒式+无晒网离心分离)适用于小批量生产卧式棒销砂磨机（棒式+大过滤面积分离器）（棒式+无晒网离心分离）适用于大批量生产⑨砂磨机的主要指示A、砂磨机的流量:影响产品细度，产量以及粒度分布。B、搅拌轴线速度:影响研磨效率，物料细度及磨损。线速度大小影响研磨介质施加给物料颗粒的动能强度，一般为8-16m/s。C、介质尺寸:影响研磨效率，产品细度。介质径越小，磨球之间接触点多和接触间隙越小，理论上研磨物料粒径越小，但是还要取决于物料进料粒径等多方面因素，总之合适尺寸的研磨介质，研磨合适粒径的物料。D、介质填充率:影响研磨效率，产品细度。研磨介质装填率高，研磨效率高，但是过高装填率会引起砂磨机温升过高或者出口堵塞。研磨介质装填率过低，研磨效率低，磨损加剧，研磨时间延长 合适的装填率质量计算法=砂磨机有效容积×装填率（70-85%)×介质堆积密度)。E、介质比重:影响研磨效率。产品细度。介质比重越大，动能越大，研磨效率越高。F、分离间隙尺寸:分离器的结构及缝隙宽度决定研磨介质尺寸大小。一般情况下研磨介质直径为砂磨机分离器缝隙宽度的2-4倍。 二、产品说明MQ-B10~B60高效棒销式纳米砂磨机是一款新型大流量循环砂磨机，是目前超细研磨设备的精华。采用循环砂磨工艺或多次研磨工艺能提高产能，产品颗粒级配分布得以优化。稍加一些控制功能，可保证产品的可复制性及节约成本.大尺寸转子加上筒状缝隙式分离器，使该型设备可使用不同材质小粒径磨介。对于有避免金属污染要求的物料，可采用陶瓷(碳化硅、氮化硅、氧化锆) 及聚氨酯结构材料。主要适用于锂电材料(磷酸铁锂、硅碳负极等)、硅微粉、氧化锆、氧化铝、硅酸锆、电子陶瓷、农药悬浮剂、磁性材料、墨水涂料、医药食品、生物化工及其他纳米级材料领域。 三、主要特点满足相关行业的湿法纳米研磨，清洗方便，维护简单，效率高、产量大、能耗低，控制简单。 四、主要技术参数 ◆适合细度：1um-50nm◆磨介尺寸：≥0.1mm

Hummink是高精度毛细管打印(High Precision Capillary Printing)领域的独家开发者，HPCAP是针对于显示和半导体行业的一项全新的技术。Hummink公司从法国国家科学研究中心（CNRS）分离出来的研究成果， 目前Hummink已经完成了研发设备的完全，并正在与一级设备制造商进行深入讨论，以扩大技术规模，并即将达到大规模生产的能力。Hummink作为目前全球最高精度的打印工艺，主要是基于原子力显微镜（AFM）的技术原理，使用特定的微笔来替代AFM中的探针，然后通过控制频率来达到极其细微的出液，实现了高精度打印。在这种连续的震荡出液的情况下，微笔部分的毛细血管可以实现微米以内，接近百纳米级别的精度，一般在不需要额外能源供给的情况下，一些粘度大于100,000CPs的材料都可以实现沉积，该设备在基底表面具有一定的微起伏的情况下也可以实现沉积。Hummink的HPCAP（超高精度毛细打印）专利技术，同时突破了高粘度和高精度两个领域的限制，最优可以做到100纳米的精度打印，打印材料的粘度可以突破100,000CP的范围，真正意义上做到了可以打印任何场景的材料。对比于传统的喷墨打印或是其他方式的高精度打印，HPCAP的专利打印技术可以做到完全没有卫星点，HPCAP打印技术会让微笔保持在非常低的高度下，这种震荡出液的过程中不会产生额外的卫星点溅射。HPCAP技术在打印颗粒型的金属材料的情况下，通过精准地控制震荡频率来达到液滴的释放。在一些图形线路直接打印的场景、线路修补场景都可以有非常好的作用效果，直接满足按需打印的应用场景，包括多层的对位堆叠等技术。HPCAP打印技术可以轻松实现100-500纳米间距的图形打印，完成超高精度的场景应用需求。Hummink通过毛细作用打印的方式完成点经1.5um的量子点材料打印Hummink完成微结构3D打印工作，实现30微米直径的圆柱型的图形打印。

中图仪器SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪利用光学干涉原理，具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。结果组成1、三维表面结构：粗糙度，波纹度，表面结构，缺陷分析，晶粒分析等；2、二维图像分析：距离，半径，斜坡，格子图，轮廓线等；3、表界面测量：透明表面形貌，薄膜厚度，透明薄膜下的表面；4、薄膜和厚膜的台阶高度测量；5、划痕形貌，摩擦磨损深度、宽度和体积定量测量；6、微电子表面分析和MEMS表征。主要应用领域1、用于太阳能电池测量；2、用于半导体晶圆测量；3、用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量；4、用于机械部件的计量；5、用于塑料，金属和其他复合型材料工件的测量。应用领域案例部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

已被国外大型企业客户广泛认可的第六代纳米砂磨机，采用专利的双转速双轴设计，可分别设置研磨速度和分离速度，所以只有当研磨分散的样品达到要求细度后才可进入流体循环，直至内腔容器内所有样品物料都达到纳米级细度。主要产品特点：1. 分散效果十分理想，分散功效高达70%2. 最终样品处理粒度分布集中，可将大范围扁平分布处理为中心集中高峰分布3.最小锆砂采用0.15mm，混珠研磨破碎效果强4. 能耗比远低于一般纳米砂磨机5. 研磨介质残留率低，ppm级别，对物料几乎没有污染6. 结构设计紧凑，锆砂与物料样品自动分离，无需过筛型号参数：MODEL处理量（L）线速度(M/S)流量（L/MIN）NS020.15120.3NS050.5180.5NS101172NS303125NS5051510处理前：处理后：联系方式：ChrisTEL：Mail:

仪器简介： 德国Klocke Nanotechnik公司生产的纳米级三维测量仪(3D Nanofinger)俗称纳米三坐标，是一种实用的纳米精度坐标和形貌综合测量设备。由台架、控制系统、探头、针尖组成. 可测量样品外形尺寸，表面轮廓、粗糙度等，并可与超精密微加工、微组装系统组合，进行在线检测、质量控制等。系统拥有5个自由度，可以根据样品设定测量路径，测量范围达到厘米级甚至更大。现已广泛应用于超精密机械加工、MEMS器件、半导体微电子加工、光学、分子生物学和精密工程。 技术参数：设备主要参数： 测量范围: X = 10, 20 or 50 mm Y = 10, 20 or 50 mm Z = 10 or 20 mm 采用花岗岩基底，XY方向行程扩展为： 100 x 100 mm2 or 350 x 350 mm2 测量特性： 运动分辨率： 1 nm 针尖分辨率： 0.5 nm 水平与竖直方向均配有操纵传感器 线形轮廓测量 样品内部与外部轮廓测量 坐标测量功能 测量用探针: 针尖型金属丝, 尖端半径 100 nm 钩型金属丝, 尖端半径 100 nm 圆形针尖, 直径 0.12-0.3 mm 金刚石针尖, 如用于表面压痕 软件： 针尖自动校准与逼近 2D 和 3D 图形功能 分析软件 自动化模块选项（序列发生器） 可选择的配置: 小型花岗岩平台式3D-Nanofinger 便携式3D-Nanofinger 3D-Nanofinger 模块，如集成到CNC机床内部 适合电镜中安装的3D-Nanofinger 模块 可安装到多功能检测工作台中 附件: 纳米精度自动旋转平台 摄像机 图形识别系统主要特点：1.纳米精度测量，而且是三维方向都可保持统一的精度。 2.测量量程跨越纳米到厘米,甚至分米级。 3.多功能多参数测量设备，可以涵盖三坐标、轮廓仪、形貌仪、粗糙度仪等的功能。 4.用户可以设定测量路径，这样就能沿着样品形状进行测量。适合复杂轮廓测试。 5.配合多种不同功能的探针，可以完成一般轮廓仪无法进行的结构测量。特别是结构内部。 6.用户可以根据需要灵活设置测量方法，可以进行大面积精确测量，也可以先进行大面积低精测量，然后对特定感兴趣的区域进行高精测量，以节省时间。 7.整个过程非接触的，间距可以保持在可以设定为几个纳米。适合各种固态样品测量，对材料性质没有特别要求和限制。 8.布局灵活，根据用户测试要求组成合适的系统。平台可以任意组合，探头也以改变安装方向。 9.如果和微加工设备组合，可以实现在线测量。