阵列制作仪

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阵列制作仪相关的厂商

  • 上海璞凌光电科技有限公司,专业从事各类镜头的研发设计以及塑胶非球面镜片的生产加工。公司拥有万级标准的无尘注塑车间,千级标准的无尘装配车间。生产设备都是全电动日本住友注塑机。所有产品都是在无尘室内完成生产,检验,装配和测试。公司拥有专业设计人员,可根据客户要求提供定制服务。提供注塑加工非球面光学透镜,光纤耦合镜,接收发射透镜,复眼阵镜,TIR透镜,TOF镜片,耦合镜阵列,准直镜阵列,透镜阵列,复眼透镜,蜂眼透镜,蝇眼透镜,微透镜。我们的产品应用到激光系统,传感器自动化,机器视觉,无人驾驶,平衡车,航空航天,单点/ 多点阵列控制器,安全,光通信,TOF传感器,医疗等。主营生产各类镜头:监控安防类,医疗内窥类,运动DV类,车载类,FA机器视觉,二维条码扫描类,产品可用于行车记录仪、汽车后视环视、安防监控、360度全景相机、数码相机、运动DV、智能家居可视门禁、无人机航拍、高拍仪、文字扫描、指纹识别等众多的光学领域。
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  • 艾因蒂克科技(上海)有限公司于2013年在上海成立, 是一家具有科技创新基因的 “国家高新技术企业”、“科技小巨人”、“专精特新”企业,主要业务涉及超声无损检测仪器,全聚焦相控阵探伤仪PHASEYE FMC-64,超声波相控阵探头、超声阵列探头,医疗超声传感器、超声扫查器以及智能超声检测系统。艾因蒂克致力于无损检测仪器以及高端超声阵列探头的研发制造及销售;致力于医疗健康事业,研发高端医用阵列探头和高频内窥探头;致力于高频超声单晶体材料的研究开发,以及耐高温晶体材料的研制。我们跟客户合作组建大数据平台,结合我们的传感终端,实现对工业规模生产实时监控、管理、预判及改善。
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  • 深圳智泰精密仪器有限公司本公司是一家专门从事研发、生产、销售二次元、三次元、光学影像测量仪、投影仪、3D激光扫描仪、白光干涉仪、ROHS荧光分析仪、各种检测设备的专业厂家、并且承接设备升级改造、专案机定制、提供专业测量方案。欢迎从事塑胶模具、五金加工、线路板制作等业行前来洽谈定购。智泰集团段生13556844151;QQ545974744http://3dfamily.com.cn
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阵列制作仪相关的仪器

  • 主要特点:◆ InGaAs有效象元数256和512可选◆ 象元尺寸:50µ m× 500µ m◆ 象元间距:50µ m◆ 芯片采用TE制冷方式◆ 制冷温度:5℃(在24℃室温环境下)◆ 14bit USB传输接口或12bit PCI卡传输接口◆ 坏点校正功能◆ 可提供控制软件及二次开发控件包◆ 可提供LabView驱动 InGaAs线阵探测器主要技术规格表 IRA- 256IRA- 512光谱响应范围(nm)800-1700800-1700象元尺寸(&mu m)50× 50050× 500阵列长度(mm)12.825.6坏点无6 (无相邻坏点) 高灵敏度模式高动态范围模式高灵敏度模式高动态范围模式满阱容量(e, 典型值)5× 106130× 1065× 106130× 106读出噪声(e, rms, 典型值)80010k80010k动态范围6.25× 10313× 1036.25× 10313× 103暗信号(e/s, rms, 典型值)190k182.2k190k182.2k1s暗噪声(e, rms, 典型值)436426436426积分时间(s)0.01-100.01-10模拟输出信号范围(V)0-100-10芯片工作温度(℃,室温下)+5+5实时模式采谱速度(spectra/s) 20 20A/D转换USB 14 bit, PCI 12 bitUSB 14 bit, PCI 12 bit InGaAs线阵探测器选型表InGaAs线阵探测器 256象元数512象元数 光谱适用范围800-1700nm800-1700nmIRA-USBUSB 14bitD7282D7286IRA-PCIPCI 12bitD7283D7287【配置说明】:配置中已包含制冷型线阵探测器,数据线,温控器,电源以及 D7401 SpectraArray基本版软件软件选项D7404SpectraSolveAdvanced spectroscopic applications software for WindowsD7421OEM Developers kitWith C++ and VC++ examplesD7422LabView driversWith Vis (virtual instruments) for LabView Version 5 or laterInGaAs线阵探测器尺寸图
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  • 组织微阵列制作仪产品简介:组织芯片微阵列制作仪(TMA)是利用高通量TMA点样技术,研究者将受体和供体蜡块放好后,通过钻孔、取样、注芯等系列步骤,根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点:★ TMA-1它是一种小型、手动的组织芯片仪。★ 经久而用,同轴针的设计能够极大限度的保证所取组织的完整性,使得研究人员日常制组织芯片的工作更加简单容易。 自动组织微阵列制备仪产品简介:组织芯片微阵列制作仪(TMA)是利用高通量TMA点样技术,研究者将受体和供体蜡块放好后,只需在控制电脑上设定取样点及微阵列图形,系统自动完成钻孔、取样、注芯等系列步骤,所设定的参数可自动保存,下个工作流程直接调用。技术特点是体积小且信息量大,并且允许研究人员根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点:★ TMA-AUTO是一款半自动组织芯片仪。 ★具有设计紧凑奏、操作简便、即装即用。 全自动组织微阵列制作仪产品简介:组织芯片微阵列制作仪(TMA)是利用高通量TMA点样技术,研究者将受体和供体蜡块放好后,只需在控制电脑上设定取样点及微阵列图形,系统自动完成钻孔、取样、注芯等系列步骤,所设定的参数可自动保存,下个工作流程直接调用。技术特点是体积小且信息量大,并且允许研究人员根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点:TMA-X是最小的全功能全自动TMA,与半自动 TMA-Auto一样灵活。采用类似TMA-10C的可互换适配器概念,允许用户进行以下组合∶★ 1个受体蜡块和3个供体蜡块★ 2个受体蜡块和2个供体蜡块★2个受体蜡块和1个超级供体蜡块与一个标准供体蜡块 全自动智能微阵列制备仪产品简介:组织芯片微阵列制作仪(TMA)是利用高通量TMA点样技术,研究者将受体和供体蜡块放好后,只需在控制电脑上设定取样点及微阵列图形,系统自动完成钻孔、取样、注芯等系列步骤,所设定的参数可自动保存,下个工作流程直接调用。技术特点是体积小且信息量大,并且允许研究人员根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点:TMA-10C是目前国际上最先进、智能化最高的全自动组织芯片仪。★ 可以有效的帮助科研工作者解决 TMA 制片问题。★一次最大上载 10 个蜡块。★同轴针共五种尺寸∶ 0.6mm,1mm,1.5mm,2mm,2.5mm。 效果展示:
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  • 产品简介:组织芯片微阵列制作仪(TMA)是利用高通量TMA点样技术,研究者将受体和供体蜡块放好后,只需在控制电脑上设定取样点及微阵列图形,系统自动完成钻孔、取样、注芯等系列步骤,所设定的参数可自动保存,下个工作流程直接调用。技术特点是体积小且信息量大,并且允许研究人员根据不同需求组合出各种组织微阵列。 产品特点:TMA-X是最小的全功能全自动TMA,与半自动 TMA-Auto一样灵活。采用类似TMA-10C的可互换适配器概念,允许用户进行以下组合∶★ 1个受体蜡块和3个供体蜡块★ 2个受体蜡块和2个供体蜡块★2个受体蜡块和1个超级供体蜡块与一个标准供体蜡块 效果展示:
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阵列制作仪相关的资讯

  • 基于低频振荡的微点阵阵列/图案化制备仪器系统研制成功
    生物芯片是生物分子相互作用研究的主要高通量手段,生物芯片技术具有高通量、样品消耗量少、灵敏度较高、自动化等优势。生物芯片仪器系统通常包括芯片制作单元和检测单元两个独立部分。目前商品用生物芯片制作系统大多采用基于机械手的合成后点样法,因制备工艺复杂,价格非常昂贵,使用成本较高。  中国科学院长春应用化学研究所王振新课题组聚焦这一研究方向,从科研实际需求出发,在国家自然科学基金委科学仪器研制项目的支持下,研制开发出基于低频振荡的微点阵阵列/图案化制备仪器系统。3月10日,该项目通过了国家自然科学基金委组织的专家现场验收。  该仪器基于非接触式压电振荡技术,采用点样针与压电驱动分离的点样方式实现点样;使用的毛细管点样针便于更换、清洗,制作成本较低;通过振荡频率和振幅等参数来调控点样体积,实现了单个样品点直径在几十微米至几百微米尺度内、点样量在几百皮升至几十纳升之间的微阵列点阵制作;不仅适用于液体点样,还可以推广到粉体及固液混合物的微量分配应用中;不仅可以应用于间断性的非连续微点阵阵列制备,还可以推广到连续的微图化制备中。  目前已研制工程样机3台,其中2台已在相关科研单位试用,效果良好。已申请和授权发明、实用新型专利6项。基于低频振荡的微点阵阵列/图案化制备仪器系统
  • 定制光纤品牌“飞博盖德”为双子南座望远镜设计顶级光纤阵列
    飞博盖德为双子南座天文望远镜制造光纤阵列。2016年2月18日,美国新泽西州的斯特灵市传来消息,英国豪迈的定制光纤品牌“飞博盖德”(www.fiberguide.com.cn)已经在新双子南座天文望远镜(GHOST)中制造光纤阵列。澳洲天文台(AAO)是该项目的建造商和领导机构。飞博盖德的光纤阵列采用了最先进的制造技术,此次项目中的光纤阵列采用的就是这项技术。由飞博盖德生产的高质量、高性能的光纤阵列成为该项目成功的关键。届时,双子南座天文望远镜将配备双目标大面积全波长光谱望远镜,其覆盖范围介于363~950 nm,分辨率介于50000~75000。新的双子南座天文望远镜由澳洲天文台建造。每根飞博盖德的光纤均携带一部分来自星体的光束,从而尽量减少了因大气模糊造成的损失。通过采用飞博盖德专有的制造技术,以及其在天文学、安全和数据通信类型光纤阵列的丰富经验,可以减少传统光纤的指向误差和插入损耗等问题。新的天文观测仪器可使观察者更高效地观测夜空。双子南座天文望远镜的项目负责人安德鲁?舍伊尼斯说:“双子南座望远镜是世界上最大也是最成功的世界级双子望远镜仪器,而飞博盖德的光纤一直是澳洲天文台在望远镜科技发展中不可或缺的组成部分。一旦该项目交付,双子南座望远镜将为我们提供更多了解宇宙的机会,例如发现与研究太阳系外行星”。双子南座天文望远镜能够为了解双子南座天空提供无与伦比的便利,并进一步加强认识宇宙的机会。欲详细了解飞博盖德的应用于天文的产品,或光纤阵列和光纤束建设的专门知识,请访问飞博盖德的中文官方网站。关于飞博盖德和英国豪迈:美国飞博盖德工业有限公司(Fiberguide)生产多种工业标准的和按需定制的高传输光纤和超精密光阵列。公司经过美国食品和药品管理局登记注册,被确定为合同制造商和定制设备制造商。飞博盖德的光纤工厂位于美国新泽西州的斯特林(Stirling),同时在爱达荷州的卡德维尔(Caldwell)也有制造/装配厂。飞博盖德是英国豪迈(Halma)的子公司,隶属于豪迈的环境与分析事业部。1894年创立的英国豪迈如今是全球安全、医疗、环保产业的投资集团,伦敦证券交易所的上市公司,富时指数的成分股。集团在全球有5000多名员工,近50家子公司,在中国的上海、北京、广州、成都和沈阳设有代表处,并在多地建立了工厂。欲了解更多公司信息,请关注英国豪迈官方微博(www.weibo.com/halma)和官方微信(HALMACHINA)。业务合作联系人:谈理(Teddy Tan)飞博盖德大中华区销售经理电话:021 - 60167698邮箱:ttan@fiberguide.com媒体联络联系人:陆瑶 (Lucas Lu)英国豪迈中国区公关经理电话:021 - 60167667电邮:lucas.lu@halma.cn
  • 用于柔性成像的宽带 pbs 量子点石墨烯光电探测器阵列的研制
    胶体量子点(QD)/石墨烯纳米杂化异质结构为量子传感器提供了一种有前途的方案,因为它们利用了量子点中的强量子限制,具有增强的光-物质相互作用、光谱可调性、抑制的声子散射和室温下石墨烯中非凡的电荷迁移率。在这里,我们报告了一个灵活的,九通道的 PbS 量子点/石墨烯纳米混合成像阵列在聚对苯二甲酸乙二酯上的开发,使用了一个简单的工艺,用于器件制造,信号采集和处理。PbS 量子点/石墨烯成像阵列具有高度均匀的光响应特性。在1.0 V 偏置下,400-1000nm 入射光[紫外-可见-近红外(UV-vis-NIR)]的最高响应度为9.56 × 103-3.24 × 103A/W,功率为900pW。此外,该阵列具有一致的光谱响应,弯曲到几毫米的曲率半径。在紫外-可见-近红外(UV-vis-NIR)范围内的宽波长成像表明,量子点/石墨烯纳米杂化体为柔性光探测器和成像器提供了一种可行的方法。图1.(a-c)九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列的器件制作方法。(b)石墨烯通道上的 PbS QD 涂层 以及(c) MPA 配体交换。(d,e)是分别在刚性硅和柔性 PET 衬底上制作的9通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列的示意图。(f)用短链导电 MPA 配体封装 PbS 量子点以促进从量子点到石墨烯的电荷转移的替换长链绝缘 OLA 和 OA 配体的示意图。(g)九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列中像素的结构示意图和 PbS 量子点/石墨烯界面上的内置电场。(h)使用 Arduino 读出器在九通道 PbS 量子点/石墨烯光电探测器阵列上进行传输成像的光学设置。图2。(a)在量子点沉积之前,在九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列上的石墨烯或“ Gr”通道的光学图像。(b)石墨烯/Si 和 Si 之间边界处的 G 峰(左上)和2D 峰(右上)的拉曼图,以及石墨烯上随机选择的点的拉曼光谱。单层石墨烯的 I2D/IG 2。(c)在1200nm 附近显示吸收峰的 PbS 量子密度吸收光谱。插图显示了 PbS 量子点的 TEM 图像,表明了 PbS 量子点的大小和均匀性。(d) PbS 量子点直径大小的分布。(e) PbS 量子点的高分辨透射电镜图像。条纹间距约为0.3 nm,相当于 PbS 的(200)晶格面。图3。(a)在硅衬底上的九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列上的选定像素在制作后的少数选定次数上的动态光响应。入射光功率为230nW,波长为500nm。整个像素的偏置电压为1.0 V (b)三个光开/关周期,显示重现性以及上升和下降时间定义。(c)相同的九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列对400-1000nm 范围内几个选定波长的入射光功率的光响应性。(d)相同的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列对入射光功率为900pW 和偏置电压为1.0 V 的波长的检测率显示相同的九通道 PbSQD/石墨烯传感器阵列对入射光功率为900pW 和波长为500nm 的偏置电压的归一化响应性。数据在6783A/W 的1V 响应下进行了归一化处理。图4。(a)硅基板上的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列对2.5 μW 的入射光功率和1V 的偏置电压的波长和通道(像素)的响应度(b)在500nm 的波长下9个像素的归一化响应度。(c)在黑暗中使用带有“ X”的阴影掩模显示五个中心通道和四个角通道的透射成像示意图。(d)使用(b)中的归一化方法对9个像素进行归一化响应,显示“ X”阴影掩模成像的结果。图5。(a)显示阴影掩模位置的图像扫描系统,透过线性致动器水平和垂直扫描,以取得安装在“样本”位置的九通道 PbSQD/石墨烯传感器阵列上的传输图像。(b)透过光束扫描以在阵列上产生传输图像的阴影掩模的光学图像。(c-e)通过在(c)400,(d)500和(e)1000nm 的波长的衬底上的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列获得的图像。图6。(a)在 PET 基板上安装在弯曲虎钳上的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列。转动图中所示的螺丝,将虎钳的两边连接在一起产生弯曲。(b) PET 阵列对几个选定波长的入射光功率的归一化响应率和1V 的偏置电压(c)柔性 PET 阵列的响应率作为入射光波长的函数以及刚性 Si 阵列,两者都在400nm 处归一化以进行比较。在这种情况下,入射光功率约为120nW,偏置电压为1 V (d)对于具有500nm 照明的 PET 阵列,响应率与曲率半径之比。这种情况下的光功率为2.5 μW,偏置电压为1 V。插图展示了在弯曲条件下的阵列,并用500nm 光照明。图7.在 PET 上分别以(a)400,(b)500和(c)1000nm 的波长用9通道 PbS QD/石墨烯混合传感器阵列拍摄的图像。图8.在 PET 上用9通道 PbS QD/石墨烯混合传感器阵列拍摄的图像,阵列(a)平坦,(b)弯曲半径为5厘米。相关科研成果由堪萨斯大学Andrew Shultz、Bo Liu和Judy Z. Wu等人于2022年发表在ACS Applied Nano Materials上。

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  • 蛋白质微阵列芯片制作打印机优势

    [b][url=http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/nanoprint.html]蛋白质微阵列芯片制作打印机[/url]特色[/b]具有高精度湿度和温度控制系统,具有方便用户操作的软件,可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片具有除湿功能可供用户选择配备,除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。可打印高达384个微孔的微孔板,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板,位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。[img=蛋白质微阵列芯片制作打印机]http://www.f-lab.cn/Upload/nanoprint-arrayit.jpg[/img][b][/b]蛋白质微阵列芯片制作打印机:[url]http://www.f-lab.cn/microarray-manufacturing/nanoprint.html[/url][b][/b]

  • 【原创大赛】纳米阵列电极简述

    【原创大赛】纳米阵列电极简述

    纳米阵列电极是多个纳米电极的集合体。根据单个纳米电极的组合方式,纳米阵列电极可分为有序纳米阵列电极(nanoelectrode arrays) 和无序纳米阵列电极( nanoelectrode ensembles) 。纳米阵列电极不仅具有单个纳米电极高传质速率、低双电层充电电流、小时间常数、小IR 降及高信噪比等优势,而且由于成千上万个单个纳米电极集中在一个基体上,克服了单个纳米电极响应信号过小、易受干扰和难以操作等缺点,能极大地提高测量的灵敏度和可靠性,降低操作难度和测量成本。特别是作为人工组装的纳米结构体系,纳米阵列电极更能突出研究者的设计和创新理念。人们能够通过设计和组装实现对纳米阵列组成、结构和性能的有效控制。因而,纳米阵列电极自20 世纪80 年代诞生起就受到人们的普遍关注。迄今为止,人们已相继设计制作出如圆盘状、井状、叉指状、圆柱形、圆锥形、截锥形、球形和半球形等多种形状的纳米阵列电极,所用电极材料包括金属、半导体、高聚物和碳纳米管等多种材料。其在电化学分析、微型生物传感器、电催化和高能化学电源等领域已日益显示出广阔的应用前景。1、纳米阵列电极的制备方法1. 1 模板法模板法是选择具有纳米孔径的多孔材料作为模板,在模孔内合成纳米阵列,然后组装成纳米阵列电极。此方法通过调整模板的参数,可以实现对纳米电极结构和尺寸的有效控制。可采用纳米阵列孔洞膜做模板,通过电化学沉积法、溶胶一凝胶法、溶胶一凝胶一聚合法、化学气相沉积法等技术将纳米结构基元组装到模板孔洞中而形成纳米管或者纳米线的方法。常用的模板主要是有序孔洞阵列氧化铝模板(AAO)和含有孔洞有序分布的高分子模板。多孔阳极氧化铝模板是通过高纯铝片在适当温度的酸性溶液中阳极氧化制得。依阳极氧化时所加的氧化电压、电解液类型、电解温度及电解时间的不同,可得到不同孔径、孔深和孔间距的膜,这种膜是典型的具有纳米孔阵列的自组装微结构。Keller等在1953年报道了多孔阳极氧化铝的理想结构模型如图1所示,该模型指出多孔层是由许多六角柱形结构单元紧密有序地排列而构成的。Martin等在模板法制备纳米线方面做了开拓性工作,1989年他们在阳极氧化铝模板的孔道内合成了金纳米线,并研究了它的透光性能。此后,模板法得到了迅速发展。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509251646_567915_3043450_3.jpg图1 多孔阳极氧化铝的理想结构模型纳米阵列电极的模板法制作过程如图2所示,大致是先在通孔的模板膜的一面用各种方法覆盖一层金属。这层金属膜较厚是为了保证电极能覆盖所有的孔。然后将覆有金属的一面与导电基体接触或者直接将金属膜作为导电基体进行电沉积。通过溶解或部分溶解模板控制纳米线的长度,可得到不同类型的纳米阵列电极。如图2b为纳米孔阵列电极,图2c为纳米盘阵列电极,图2d、e为纳米线阵列电极。用化学沉积的方法填充模板时不需事先镀覆金属膜。例如,在金属已充满膜的纳米孔洞之后继续沉积,可在模板膜的两面均得到一层金属膜,去除其中的一层,另一层留作阵列电极的基体,则得到典型的纳米盘阵列电极。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509251646_567916_3043450_3.jpg图2 纳米阵列电极的模板法制作过程示意图1.2 刻蚀法刻蚀法是基于化学腐蚀或光化学反应,对材料进行加工的一种方法。在纳米阵列电极制备过程中,主要通过对电极覆盖层、阵列模板或电极材料进行加工,从而制备出各种立体形状的电极,是目前制备形状可控的纳米阵列电极较为有效的方法。目前主要的刻蚀方法有化学刻蚀法和光刻法。化学刻蚀操作简便,只要控制得当就能得到理想的纳米阵列电极。Crooks等报道了通过刻蚀覆盖在平面电极上的绝缘层来获得纳米孔阵列电极的方法。他们制得直径为60~80 nm 的Au (111) 有序凹进并且高度对称的六边形纳米阵列。具体做法是:选择一定面积的Au(111),其余部分用蜡覆盖,电化学方法纯化45 min 后,欠电位沉积单层铜;再将硫醇化学吸附在上层的铜上形成硫醇自组装层;最后在氰化物溶液中用化学刻蚀的方法扩大硫醇自组装层的缺陷,以制成凹进的Au (111) 纳米阵列电极。光刻法在制备有序带状纳米阵列电极方面具有特殊的优势。典型的制作过程如下:首先设计阵列的形状,采用气相沉积在绝缘基体上沉积厚度约为100 nm的薄层金属,再涂上一层光刻胶,然后在其上覆盖光刻模板,通过光照和选择性化学溶解得到阵列。Finot等采用电子束光刻及离子刻蚀的方法得到纳米插指阵列电极。其中单个插指电极的宽度为100 nm、电极间距离为200nm、电极面积为100 m×50 m,如图3所示。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509251646_567917_3043450_3.jpg图3 金插指阵列电极SEM图(1000×)1.3 自组装法自组装法通过非共价键之间的相互作用使纳米粒子聚合在一起,自发地在基底表面形成有序纳米结构薄层的一种方法,是近年来非常活跃的研究方法之一。在纳米阵列电极制备过程中,自组装层可作为电极反应的活性部分,也可作为惰性覆盖层。汪尔康等采用自下而上自组装法制成金纳米粒子阵列电极。他们首先将云母基体在巯基的作用下表面功能化,再将云母浸入到金胶溶液中,云母表面的硫醇基团将12 nm的金颗粒固定。不同的浸入时间获得的金阵列的密度不同,时间越长,得到的纳米金粒子阵列的密度越高。Radford等采用自组装法将氧化还原活性物质单层膜固定在以金为基体的单层十二烷基硫醇自组装膜上,制成纳米阵列电极。其中活性部分是固定在直链硫醇自组装层终端的氧化还原类物质,每个活泼的氧化还原分子相当于单个纳米电极。这种电极灵敏度高,可用来研究以氧化还原介质作电子传递媒介的生物大分子氧化还原反应机理。2、前人相关纳米阵列制备的研究高度取向的纳米阵列是以纳米颗粒、纳米线、纳米管为基本单元,采用物理和化学等方法在二维或三维空间构筑的纳米体系。高度取向的纳米阵列结构除具有一般纳米材料的性质外,它的量子效应突出,具有比无序的纳米材料更加优异的性能。纳米阵列结构很容易通过电、磁、光等外场实现对其性能的控制,从而使其成为设计纳米超微型器件的基础。目前,有序纳米结构材料已经在垂直磁记录、微电极束、光电元件、润滑、传感器、化学电源、多相催化等许多领域开始得到应用。2.1TiO2纳米管阵列的制备及其研究目前TiO2纳米管的制备方法主要有包括利用多孔氧化铝、有机聚合物和表面活性剂作为模板的模板合成法和利用TiO2纳米粉在碱性条件反应的水热合成法。其中最主要的方法是多孔氧化铝模板法和碱性条件下的水热合成法。在多孔氧化铝模板合成法中,通过调节工艺参数来控制,不同模板的孔径尺寸,可以制备出不同管径的纳米管,但难以合成直径较小的纳米管;而水热合成法虽然操作简单,且可以制得管径较小的纳米管,但纳米管的特征却严重依赖于颗粒的尺寸和晶相。同时这两种方法制备的纳米管是一种分散状态,不能直接固定在电极的表面。从高级氧化技术应用角度来看,TiO2固定薄膜比悬浮颗粒更为实用。美国科学家Grimes利用电化学阳极氧化的方法制备了TiO2纳米阵列材料,采用阳极氧化技术制备的TiO2纳米管分布均匀,以非常整齐的阵列形式均匀排列,纳米管与金属钛导电基底之间以肖特基势垒直接相连,结合牢固,不易被冲刷脱落。TiO2纳米阵列材料是制备工艺流程如表1所示。表1 TiO2纳米阵列材料是制备工艺流程 步 骤操 作 工 艺Ⅰ金属钛在含有F-的酸性电解质中迅速阳极溶解,阳极电流很大,并产生大量Ti4+离子(反应式(1))。接着Ti4+离子与介质中的含氧离子快速相互作用,并在Ti表面形成致密的TiO2薄膜,电流急剧降低(反应式(2))。Ⅱ多孔层的初始形成阶段,随着表面氧化层的形成,膜层承受的电场强度急剧增大,在氟离子和电场的共同作用下,在TjO2阻挡层发生局部蚀刻,形成许多不规则的微孔凹痕(反应式(3)),此时,电流呈轻微增大趋势。Ⅲ多孔膜的稳定生长阶段,电流完全由发生在阻挡层两侧的离子迁移提

阵列制作仪相关的耗材

  • 蛋白质微阵列芯片制作打印机配件
    蛋白质微阵列芯片制作打印机配件是全球领先的微阵列芯片制作仪器,是专业为蛋白质芯片或DNA芯片,基因芯片等微阵列芯片而设计的微阵列芯片制作打印机器,在全球各大实验室已经安装使用的设备超过500多台。nanoprint微阵列芯片制作打印机全自动化和可编程,采用了先进的线性伺服电机技术,在X,Y方向实现高达500nm的分辨率,在Z轴方向实现250nm分辨率,并具有纳米尺度的定位精度。nanoprint微阵列芯片制作打印机具有高精度湿度和温度控制系统,具有方便用户操作的软件,可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片。微阵列芯片制作打印机具有除湿功能可供用户选择配备,除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。微阵列芯片制作打印机可打印高达384个微孔的微孔板,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。也可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板,位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。微阵列芯片制作打印机兼容任何PIN生物材料:DNA,蛋白质,抗体,小分子,肽核酸(PNA),碳水化合物,以及许多其他样品。这些引脚基于由美国专利6101946保护 ArrayIt专有工程和表面化学的技术 这样的设计使打印高效,经过数百万的印刷周期依然耐用。 BioTray根据研究结果提供了3种主要的PIN材料。微阵列芯片制作打印机有两种型号:纳米打印机LM60有384个微孔,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片;纳米打印机LM210有384个微孔,最多可以打印210个标准玻璃芯片底片。LM60和LM210对可以打印一种特殊的蛋白质种类。 General Specifications Dimensions (L x P x H, cm) LM60 (110 x 85 x 56 cm) LM120 (164 x 85 x 56 cm) Weight LM60 (150 Kg), LM120 (200 Kg) Positional resolution (X,Y-Axis) 500 nanometers Printing speed 48 spots per second or 192 Spots second according to the pins and printhead technology Printing technology Arrayit Pro, 946 or Stealth pins and printheads Number of pins Configurable 1 to 48 at 4.5 mm centers or 1 to 192 at 2.25mm Spot diameter 65 microns or larger to meet all applications Minimum spot spacing 50 microns Pre-printing User definable Wash/dry station Ultrasonic with 2 wash positions and a dry station Number of microplates Three standard 384-well sample microplates, customizable on the worktable Microplates to be printed into : - 15 96-wells microplates (LM60) - 45 96-wells microplates (LM120) Number of slides 60 glass slide substrates (LM60) 120 glass slide substrates (LM120) Microplate cooling Cool 1-3 microplates with a Peltier system, for protein microarray applications Environment control Fully enclosed, HEPA filtration and user-defined humidity control NanoPrint™ uses 3 linear drives for X, Y and Z axis positioning combined with a proprietary linear drive motion control technology for superior positional resolution and accuracy The X, Y - axis positional resolution is 500 nm. The high speed, high precision linear servo control system of the NanoPrint™ produces superior instrument performance that is essentially free of friction, noise and thermal emission. NanoPrint™ uses a Z-axis encoder reading at 250-nanometers resolution leading to a superior Z-Axis Resolution for Optimum Spot Morphology. NanoPrint™ offers highly precise resolution, repeatability and computer control over the speed and acceleration settings to ensure optimal printing onto any surface taking into account the biological samples to be printed. Optimal parameters are set at the factory but can be easily changed by the user for printing onto many different surfaces with different samples. The user gets a license to be allowed to use this patented technology. The figure above shows 3 Z-Axis moves to configure distance, speed and acceleration are the parameters to set : Z Profile: High speed Z Extend: Printing speed Z Retract: Quick returnFig.1Fig.2Fig.1: this picture shows three 348-wells microplates, the wash/dry module with sonicator (upper part of the picture) and the printhead and pins printing onto glass substrates (middle left). NanoPrint™ deck is configured in a module manner, allowing different worktables to be inserted and removed from the deck allowing users to easily switch between different printing applications such as glass substrates, microplates, and proprietary cassettes and cartridges or other types of substrates.Fig.2: NanoPrint™ is equipped with a Pin Cleaning Module that has a station providing pin washing, drying and sonication (downwards). The sonicator is filled and emptied during the print run in a completely automated manner.Systems sensors prevent splashing and overflowing for pin and deck safety. Drying is accomplished by vacuum using a quiet but powerful ACM-controlled (Accessory Module Control) function. The Pin Cleaning Module is rugged, durable and easy to maintain.Fig.3Fig.4Fig.3: Here the deck is configured with a capacity of three 384-well sample microplates printing onto 60 standard glass slide substrates using a printhead loaded with 48 pins. A 192-pin printhead can also be used instead of the 48-pin printhead.Fig.4: The screenshot shows a worktable allowing printing into 15 microplates (96-well) for the NanoPrint™ LM60. On the left part, three 348-well sample microplates with the pin cleaning module (wash/dry station with sonicator) can be seen.Fig.5Fig.6Fig.5: The ACM (Accessory Control Module) unit provides computer control for the wash/dry, humidity, and ultrasonication stations on the deck of the NanoPrint™ . Accurate sensing of the humidity inside the chamber assures that proper humidity levels are achieved andmaintained during the entire duration of each print run. Humidity is maintained in a user-specified manner of ±1%. HEPA filtration protect the deck from dust to assure the necessary printing quality. Printing onto the worktables and control of the Pin Cleaning Module and the humidity are easily specified in software using the Microarray Manager.Fig.6: Easy connectivity (pump, tubing and connectors) between the ACM and the robot provides proper humidity and tigthness levels.Fig.7: Humidity SensingFig.8: Peltier systemFig.7: A RH sensor monitors the humidity inside the chamber with high accuracy.Together with the ACM, it assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run. The humidification and dehumidification systems are triggered by the RH sensor that automatically maintain the levels set by the user.Fig.8: NanoPrint™ systems offer sophisticated sample microplates cooling via Peltier s an affordable and highly recommended option in order to minimize sample evaporation during printing. Microplate cooling is highly recommended for protein microarray applications to minimize protein denaturation andmicrobial growth in recombinant protein samples. The Peltier module fits directly beneath the 348-well sample microplate for highly efficient cooling while maintaining a low deck profile.
  • 透镜阵列/微透镜阵列
    所属类别: ? 光学部件 ? 微透镜阵列/透镜阵列所属品牌:英国Power Photonic公司天空才是极限!-----革命性的“3D打印”光学加工技术!英国Power Photonics公司专业生产各种透镜阵列及微透镜阵列,包括各种一维透镜阵列和二位透镜阵列。Power Photonics公司有各种常用的标准微透镜阵列提供。 采用其独有的激光3D直写技术,PowerPhotonic 提供无与伦比的加工的灵活性。这种类似于3D打印的光学加工技术,可以轻松实现各种以前被认为极为复杂的光学加工。Power Photonic乐意接受任意定制化的要求,并致力于给客户提供最适合的微透镜阵列。 对于一维微透镜阵列,Power Photonics公司既可以提供柱面镜阵列,也可以提供非柱面透镜阵列,我们有各类标准的产品供客户选择,也可以根据客户的要求提供定制化的产品。 对于二位微透镜阵列,Power Photonics公司可以提供包括,球面镜阵列,非球面镜阵列,象散透镜阵列等,并且可以根据客户要求的排布方式排布透镜。我们可以将指定透镜组制作在一块较大的石英基底上以留出客户安装的空间。加工能力 各种焦距、周期、宽度、高度 任意镜片排布 非球面透镜、非柱面透镜可选非均匀排布,啁啾排布,随机排布 双面透镜阵列主要应用光束匀化光束整形光纤阵列耦合 激光加工高功率半导体激光器制造固体激光器泵浦标准产品指标
  • 光纤耦合微透镜阵列
    所属类别: ? 光学部件 ? 微透镜阵列/透镜阵列所属品牌:英国Power Photonic公司 天空才是极限!-----革命性的“3D打印”光学加工技术!英国Power Photonic 公司专业生产各种光纤耦合用微透镜阵列,通过采用其独有的激光3D直写技术,PowerPhotonic 提供无与伦比的加工的灵活性。这种类似于3D打印的革命性的光学加工技术,可以轻松实现各种以前被认为极为复杂的光学加工。我们标准的一维透镜阵列排布周期是250um,同时也可以提供任意客户指定的排布周期。对于二位微透镜阵列,我们可以提供各种球面镜阵列,非球面镜阵列,象散镜阵列,柱面镜阵列,非柱面镜阵列等。.我们可以将指定透镜组制作在一块较大的石英基底上以留出客户安装的空间。主要特点大尺寸、大数量的透镜阵列 一维阵列、二位阵列极高的一致性球面镜阵列,非球面镜阵列,象散镜阵列,柱面镜阵列,非柱面镜阵列 UV融石英基底主要应用 光纤耦合镜阵列 WSS系统 R/OADM系统 光互连 高性能光通讯主要特点 根据客户应用要求定制相应透镜阵列,不需要再因为要配合标准产品牺牲系统性能 优化透镜面型达到最佳效果 低散射及串扰定制化程序因为采用PowerPhotonic独特的“3D打印”光学加工技术,我们的标准产品可以非常容易的进行参数修改于调整以配合客户的使用要求。请和我们联系以获得更多信息。标准产品指标
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