反超底高纯锗仪

仪器信息网反超底高纯锗仪专题为您提供2024年最新反超底高纯锗仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括反超底高纯锗仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的反超底高纯锗仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合反超底高纯锗仪相关的耗材配件、试剂标物,还有反超底高纯锗仪相关的最新资讯、资料,以及反超底高纯锗仪相关的解决方案。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

反超底高纯锗仪相关的厂商

  • 高普科学GASPU ,是专业于高纯气体发生器和气体纯化设备研发制造的高新技术企业。2001年在苏州留学人员创业园,由德国CarboTech与苏州高纯气体研究所(高普前身)合作创建了苏州高普超纯气体技术有限公司(CarboTech公司的前身为BergbauForschung公司,是PSA制氮工艺以及用PSA制氮工艺从混合气体中制造氮的碳分子筛的发明者)。 自2003年高普GASPU在苏州高新产业开发区投资建造了以生产PSA及膜分离制氮机、氮气、氢气发生及纯化设备的产业基地以来,公司在开发区已拥有10000平米标准化制氮机生产车间和2200平米的制氮机研发科技中心,总投资达3000万元。公司取得UKAS认证和中国船级社CCS认证。 高普科学为实验室和科研行业提供:PSA和膜分离氮气发生器、氢气发生器、零级空气发生器,以及氮气、氢气、氩气等各种气体纯化器。 我们的长期用户包含德国ATLAS、美国MaisonWorlyParsons,日本旭化成、日本德山化工、台湾foxconn富士康、摩托罗拉电子、中海油海上平台、中石油、英国BP天然气项目,、白俄明斯克天然气发电厂、伊拉克华事德电厂、孟加拉天燃气发电厂、2008年北京奥运会电力应急保障项目-太阳宫天然气发电厂选择了GASPU氮气系统。
    留言咨询
  • 四川优普超纯科技有限公司优普作为国内实验室/医疗/工业纯水系统解决方案供应商,秉承“专业、创新、精益、服务”之经营理念,专业为高校、科研、监测、生物、医药、电子、采矿、化工及第三方检测机构等客户提供超纯水/纯水/净水/中水回用等膜法工艺全面系统解决方案。全国共有24个办事处和市场服务分支机构,员工近400人,为全球10000多个用户提供高效快捷的服务。成长历程2007年中国分析测试协会仪器信息网(instrument.com.cn)发布中国市场实验室纯水器市场调查报告,优普市场占有率仅次于美国Millipore,居实验室国产品牌首位;2008年“四川最佳雇主”评选入围20强;2009年公司年度订单台数首次突破3000台,美国Millipore公司启动合资合作谈判;2011年通过欧盟CE产品质量体系认证,产品已批量出口欧盟市场;2012年“优普”被评为“成都市著名商标",并通过IS09001: 2008国际质量体系认证;2015年“优普"被认定为四川省高新技术企业 2016年启动优普1 00个优普乡村小学爱心图书馆项目 2017年“优普"被评为成都市知识产权示范企业,同年底被评为国家知识产权优势企业 2018年“优普"再次被认定为四川省高新技术企业。2020年 投资七千余万元的“优普总部基地”落成并投入使用;2022年优普UPL机器被评为“国产好仪器”。经营理念 专业 专注于膜法水处理设备的研发、生产与服务,为行业客户提供专业级水质解决方。 创新 致力于水处理技术与产品的持续创新,优化产品,提升用户体验。 精益 在研发、制造、服务上追求精益求精,成长为业内受人尊敬的企业。 服务关注客户需求的每一个细节,形成科学、高效的水处理方案,提供持续、便捷的技术支持。左:Millipore公司 中:四川优普公司 右:Millipore公司 董事长兼CEO Martin博士 董事长 詹伟先生 亚太区总裁优普.2018第十四届服务代理商峰会 2013优普科技团队精英快乐特训营
    留言咨询
  • 400-860-5168转4780
    上海星可高纯溶剂有限公司(简称星可)成立于2005年,现位于上海化学工业区,为客户提供优秀品质的高纯溶剂产品和有机溶剂废液现场循环利用的技术服务。星可占地60亩,1.28万吨高纯溶剂产能,拥有多条生产线、中试线与灌装线,是亚洲重要的色谱溶剂生产基地。星可立足于自身技术创新团队,与华东理工大学、上海应用技术大学、上海化工研究院、同济大学等科研院所合作进行高纯溶剂的技术创新研发,于2015年被认定为高新技术企业,并通过了ISO9001、ISO14001管理体系认证。星可为客户提供LC-MS、梯度、色谱、农残、无水、制备级别的高纯溶剂产品,同时提供一站式有机溶剂废液现场循环利用的技术服务。客户涵盖国内外制药行业、科研分析检测机构、电子信息制造行业等领域,覆盖中国和海外市场。麦吉睿珀 (上海)生物科技有限公司 (简称麦吉睿珀) 是星可成立的一家子公司。麦吉睿珀推出的iMagiLab是一个致力于为客户提供优质色谱试剂及耗材的品牌。旗下集合高端的色谱试剂、色谱柱、针式过滤器等实验室产品,凭借优异的产品质量和全方位的技术服务,为实验室检验检测和医药研发等部门提供便捷的一站式采购平台。
    留言咨询

反超底高纯锗仪相关的仪器

  • 实验室低本底宽能高纯锗HPGE伽马γ能谱仪第一部分:高纯锗探测器 高锗探测器由于其无与伦比的优异分辨率,是核测量最精密和最先进的工具,在核物理 研究与核测量中具有不可替代的地位。 完整的高纯锗探测器的制造过程包括晶体制备、探测器结构设计、高性能低噪声前置放大 器设计、超高真空封装与生产成型、指标测试和稳定性考核等。经国家权威计量部门检定, 其关键 性能指标优异、稳定性良好。 高纯锗探测器的工作机理:高纯锗晶体的杂质浓度低至 1010 原子/cm3 量级,是世界上最纯 净的物质。高纯锗探测器表面 分别有 N+、P+电极,在该两种电极上加反向偏压后,由于高 纯锗晶体极低的杂质浓度,其内部将工作在全耗尽状态,此时伽马射线在其内部沉积能量产生 的载流子在电场的作用下被收集,形成的电流信号通过前置放大器被转换为与沉积能量成正比 的电压信号。 高纯锗探测器所采用的晶体外形为一圆柱体,在 其外表面为 N+电极,在其内部电极孔内部为 P+电极, 两种电极分别使用成熟的锂扩散、硼离子注入技术制 造。威视系列高性能 P 型同轴高纯锗探测器的 N+电 极约为 0.5mm 厚,P+电极约为 0.5μm 厚。 探测器的前置放大器可根据用户需求选用阻容反馈或脉冲反馈前放,性能优异,长期稳 定性好,除适配威视系列数字谱仪外,还可兼容市场上主流的谱仪产品。 威视系列高性能 P 型优化高纯锗探测器配置垂直冷指,并可根据用户需要配置“L 形”、 “U 形”、水平冷指等定制化设计,同时为用户在探测器封装与冷指材料上提供超低本底选项。为保证制冷效率,探测器舱室应保持严密的真空条件。P 型探测器的总体特性:能量响应范围:30keV 至 10MeV;相对探测效率 10% 至 80%; 可满足绝大部分样品测量应用和大部分研究测量应用的要求; 全面保证相对效率、分辨率、峰康比和峰形指标; 可配置普通阻抗反馈前放或适于高计数率的脉冲光反馈前放。 TKGEP-S 系列探测器型号与性能指标:型号晶体尺寸(mm)能量分辨率-FWHM(≤keV)峰形(≤)峰康比(≥)效率(≥)直径厚度@59.5keV@122keV@1.33MeVFW.1M/FWHMFW.02M/FWHMTKGEP-S1250300.700.801.81.92.73212%TKGEP-S3070300.700.851.81.92.74530%TKGEP-S4070400.750.901.852.02.84840%TKGEP-S5085300.850.951.852.03.05350%TKGEP-S6090300.901.01.902.03.05860%TKGEP-S7085500.951.11.952.03.06270%第二部分:谱仪(多道分析仪) 配套高纯锗探测器的一款新型数字化谱仪。其设计功能完善,其稳定性业已经实际使用验证。针对高效率探测器或高 计数率条件下对信号处理的要求,结合软件,谱仪在数字化极零调 节、死时间校正和弹道亏损校正方面做了具有相当先进性和独到 性的设计。 谱仪整体功能与特性:全数字化控制,保证人机交互灵活探测器回温情况下高压自动切断功能(shutdown)多种滤波模式,可根据特定环境配置滤波参数,具备低频噪声抑制功能具备门控数字化基线恢复,自动极零,零死时间校正,弹道亏损校正等完 整先进功能最大数据通过率大于 100kcps,对高计数率样品能获得准确的测量结果支持 USB3.0 接口谱仪特征功能: 基础参数显示:系统的电源开启状态,高压开启状态,高压目标值,高压升降过程 动态显示。全数字化自动高压加载:用户根据探测器参数选定高压后,系统自动按指定的速率 和目标值进行高压加载,直到满足探测器要求。异常处理功能:当系统意外掉电,设备自动启动 UPS 功能,并按异常处理逻辑,进 行高压缓降,以保护探测器安全。抑制电荷收集时间效应功能:基于 FPGA 的硬件算法,利用快通道梯形脉宽来统计 电荷收集的方法简单实用高效。 具体参数指标: 系统非线性:积分非线性:≤ 0.01%;微分非线性:≤±0.28最大通过率:成形时间设置为上升时间 500ns,平顶时间 500ns时,系统等效的死时间约为 2.79μs,此时,最大脉冲通过率将达到 130Kcps。粗调增益::由计算机选定为 1,2,4,8细调增益:由计算机设定为 0.45 至 1.00尺寸与重量:376D X 242W X 116 H mm, 2.2KG工作条件:0 C 到 50 C(包括 LCD 显示)。操作系统:Windows 7/ Windows10。显示/接口:320 240 像素(pixel) 有机发光半导体(OLCD)系统状态信息。220V市电接入端子,USB3.0接口。高压输出接口,探测器电源接口,探测器信号输入端子。第三部分:液氮回凝制冷器 采用低振动长寿命脉冲管制冷机,运行寿命长于 10 年; 25L 液氮容器,不断电条件下可连续工作两年以上; 对探测器分辨率无影响; 可匹配垂直、水平与弯头型冷指; 液晶显示屏实时显示液氮水平、制冷机运行状态等信息; 可选购基于无线技术的遥控器,远程控制制冷系统或显示运行状态; 配有自动式液氮填充接口,可自动加注液氮; 在制冷维系时长为 48 小时前发出提示与报警; 外形尺寸:64.5cm 高 x 45.6cm 直径(不含探测器); 功耗:运行时小于 150W,启动时最大 250W; 工作环境:0 - 35℃,相对湿度 20%至 80%(无冷凝); 噪声:1m 处小于 60 分贝。第四部分:伽马谱软件包 研制开发一套完整的实验室高纯锗伽马谱仪,除了高纯锗探测器这一核心部件之外,还需要在与其配套的制冷器、谱仪和分析软件上下足十分的功夫。 历经十年的反复磋磨与雕琢,目前这款即将商品化的TKGammaWiz软件包已具备完整而 强大的功能。 它是一个完整的软件包,只需一次安装,用户即可实现如下功能: 系统的参数设置与硬件控制,包括增益细调、启动数字化稳谱、调节高压、显示实 时间/活时间和脉冲宽度、 系统的能量与效率刻度。初始化安装时,软件会提示用户进行参数设置与能量/效 率刻度。 能谱获取与显示。具有多路谱图同步获取功能。 谱分析与活度计算。多种寻峰方法与峰面积计算方法、多种本底算法、完善的各种校正功能,以期得到最小的不确定度。 分析结果报告与质量保证。完整的数据报告会给出每一次测量的条件与结果,以保 证随时可以回溯。 它具有如下鲜明的个性化功用与特点: 设计有可切换的操作员(operator)与专家(expert)两种使用权限,以保证系统 与数据安全可靠。 独特的能谱采集回放功能。设计用于当数据超出设置的限值、或不确定度较高时, 从源头上予以确认或诊断。 对具备”批处理”条件的样品,可定制流程化的“一键分析”。 具体参数与特性: 刻度:支持能量、峰形、效率刻度,可人工刻度,也可载入存储的数据文件。效率曲线可 载入自主研发的无源效率刻度软件产生的效率刻度文件,并支持三种拟合方法:单一函数多 项式拟合、插值法、带“拐点”(Knee)的多项式拟合。 寻峰:支持 Mariscotti 法寻峰,可自动或手动完成寻峰。 本底确定方法:自动确定法、SNIP剥谱法、峰侵蚀法等。软件会自动选定最佳方法。 分析用核素库: 软件包含默认的 2000 个核素的衰变纲图与相应的伽马射线能量数据, 用 户可在此基础上进一步编辑并生成自己的自定义子库。软件核素库支持对核素名称、质量、 能量的查询,和对母子核的编辑。 核素识别的方法: 软件默认使用基于库寻峰的核素识别方法,具体执行程序如下: 使用广义二阶差分方法初步寻峰,根据寻峰结果对核素库进行筛选。用峰侵蚀方法分析全谱本底,扣除本底后,在库峰位所在能量点用最小二乘法进行峰拟合作为寻峰结果。 分析后的首选核素将会直接标注在谱上,方便查看。 谱分析中的校正:母子核衰变校正;样品集与谱获取期间的衰变校正。 MDA 计算:Currie 算法,后续可扩展 ORTEC MDA 等 18 种算法。分析结果报告:报告主要包括能谱信息、刻度、分析设置、分析峰、分析核素几个部分内容,支持 pdf、rpt、doc 三种格式。 界面:默认 office 风格,可自行切换。一图展示能谱、寻峰、核素识别结果等内容,并 可根据指定核素计算显示其余能量峰的高度。适应的操作系统:Windows7/810 32/64 位操作系统。第五部分:实验室无源效率刻度软件 蒙特卡罗程序包:基于 Geant4 软件程序包,能够准确模拟光子与物质相作用的整个过程。 探测器类型:支持同轴型、面型、井型三种类型探测器。 能量范围:10keV-7000keV; 刻度角度:支持任意角度刻度。探测效率:支持真实物理级别的级联符合校正,通过自研能量沉积算法获取探测效率。 常见容器库:内置 9 种常见的容器库,支持圆柱、圆盘、烧杯、马林杯、U 型杯、盒子、球 型、点源、横向圆柱等对称型样品模型。 材料库工具:内置 40 余种常见材料,允许用户自定义材料。 3D 视觉及几何校验:提供快速 3D 视觉及更精细的几何模型定义,提供完整的几何模型校验。 输入参数敏感性分析:提供输入参数敏感性分析工具,方便用户定位影响效率刻度的参数项。 自表征校正工具:允许用户自主完成探测器表征,无需返厂,确保刻度的准确性。 效率刻度拟合公式:允许用户通过拟合公式计算不同能量对应的探测效率。 刻度结果报表:支持完整刻度结果数据的报表预览及打印。 适应的操作系统:Windows7/8/10 64 位操作系统。第六部分:铅室1.标准铅室 TKLBS-G2 是一款顶开门压杆式低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环 境本底对探测过程的干扰,提高测量的准确性。具体参数: 外层材料:1cm 低碳钢;中层材料:10cm 低本底铅 4π 方向屏蔽;内层材料:3 mm 无氧铜;结构:压杆式顶部平移开门设计; 承重桌材料:低碳钢;占地面积:65cm x 65cm;内腔尺寸:Φ310mm x 409mm;重量:大于 1.1 吨; 铅室说明:分三个型号,TKLBS-G1,TKLBS-G2,和TKLBS-U,TKLBS为low background shelid低本底屏蔽的缩写,G1代表Grad1等级1,使用铅材料厚度为10cm,本底保 证<3.0cps,常规值<2.8cps;G2代表Grad1等级2,使用铅材料厚度为15cm,本 底保证<2.0cps,常规值<1.6cps;U代表Ultra超级,使用铅材料厚度为15cm, 同时使用液氮挥发气体赶走铅室内腔空气,使之降低空气中氡的影响,本底保证<1.0cps。按照约定俗称,以上本底均针对40%效率高纯锗探测器。2.超低本底铅室 TKULBS-G 是一款顶开门压杆式超低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环境本底 对探测过程的干扰,提高测量的准确性。本底指标:本底指标:在正常放射性环境下 50keV 至 3MeV 范围内保证值小于 1.2cps(40%效率), 典型值约 1cps 左右。具体参数: 高度 682.1 mm (26.9 in.); 直径 558.8 mm (22.0 in.); 内腔: 直径 228.6 mm (9 in.); 深度:355.6 mm (14 in.);最外层:9.5 mm (3/8 in.) 厚的低碳钢; 屏蔽层: 152 mm (6 in.)厚的低本底铅; 内衬:1 mm 厚的锡与 1.5mm 厚的无氧铜 重量: 1625 Kg 喷漆: 浅灰色环氧漆 桌子高度:68.5-765 .5cm 高度可调可选超低本底内衬:2.5cm 厚的 25Bq/kg 的超低本底铅。
    留言咨询
  • 高纯锗γ能谱仪 400-860-5168转3524
    高纯锗γ伽马能谱仪第一部分:高纯锗探测器 高锗探测器由于其无与伦比的优异分辨率,是核测量最精密和最先进的工具,在核物理 研究与核测量中具有不可替代的地位。 完整的高纯锗探测器的制造过程包括晶体制备、探测器结构设计、高性能低噪声前置放大 器设计、超高真空封装与生产成型、指标测试和稳定性考核等。经国家权威计量部门检定, 其关键 性能指标优异、稳定性良好。 高纯锗探测器的工作机理:高纯锗晶体的杂质浓度低至 1010 原子/cm3 量级,是世界上最纯 净的物质。高纯锗探测器表面 分别有 N+、P+电极,在该两种电极上加反向偏压后,由于高 纯锗晶体极低的杂质浓度,其内部将工作在全耗尽状态,此时伽马射线在其内部沉积能量产生 的载流子在电场的作用下被收集,形成的电流信号通过前置放大器被转换为与沉积能量成正比 的电压信号。 高纯锗探测器所采用的晶体外形为一圆柱体,在 其外表面为 N+电极,在其内部电极孔内部为 P+电极, 两种电极分别使用成熟的锂扩散、硼离子注入技术制 造。威视系列高性能 P 型同轴高纯锗探测器的 N+电 极约为 0.5mm 厚,P+电极约为 0.5μm 厚。 探测器的前置放大器可根据用户需求选用阻容反馈或脉冲反馈前放,性能优异,长期稳 定性好,除适配威视系列数字谱仪外,还可兼容市场上主流的谱仪产品。 威视系列高性能 P 型优化高纯锗探测器配置垂直冷指,并可根据用户需要配置“L 形”、 “U 形”、水平冷指等定制化设计,同时为用户在探测器封装与冷指材料上提供超低本底选项。为保证制冷效率,探测器舱室应保持严密的真空条件。P 型探测器的总体特性:能量响应范围:30keV 至 10MeV;相对探测效率 10% 至 80%; 可满足绝大部分样品测量应用和大部分研究测量应用的要求; 全面保证相对效率、分辨率、峰康比和峰形指标; 可配置普通阻抗反馈前放或适于高计数率的脉冲光反馈前放。 TKGEP-S 系列探测器型号与性能指标:型号晶体尺寸(mm)能量分辨率-FWHM(≤keV)峰形(≤)峰康比(≥)效率(≥)直径厚度@59.5keV@122keV@1.33MeVFW.1M/FWHMFW.02M/FWHMTKGEP-S1250300.700.801.81.92.73212%TKGEP-S3070300.700.851.81.92.74530%TKGEP-S4070400.750.901.852.02.84840%TKGEP-S5085300.850.951.852.03.05350%TKGEP-S6090300.901.01.902.03.05860%TKGEP-S7085500.951.11.952.03.06270%第二部分:谱仪(多道分析仪) 配套高纯锗探测器的一款新型数字化谱仪。其设计功能完善,其稳定性业已经实际使用验证。针对高效率探测器或高 计数率条件下对信号处理的要求,结合软件,谱仪在数字化极零调 节、死时间校正和弹道亏损校正方面做了具有相当先进性和独到 性的设计。 谱仪整体功能与特性:全数字化控制,保证人机交互灵活探测器回温情况下高压自动切断功能(shutdown)多种滤波模式,可根据特定环境配置滤波参数,具备低频噪声抑制功能具备门控数字化基线恢复,自动极零,零死时间校正,弹道亏损校正等完 整先进功能最大数据通过率大于 100kcps,对高计数率样品能获得准确的测量结果支持 USB3.0 接口谱仪特征功能: 基础参数显示:系统的电源开启状态,高压开启状态,高压目标值,高压升降过程 动态显示。全数字化自动高压加载:用户根据探测器参数选定高压后,系统自动按指定的速率 和目标值进行高压加载,直到满足探测器要求。异常处理功能:当系统意外掉电,设备自动启动 UPS 功能,并按异常处理逻辑,进 行高压缓降,以保护探测器安全。抑制电荷收集时间效应功能:基于 FPGA 的硬件算法,利用快通道梯形脉宽来统计 电荷收集的方法简单实用高效。 具体参数指标: 系统非线性:积分非线性:≤ 0.01%;微分非线性:≤±0.28最大通过率:成形时间设置为上升时间 500ns,平顶时间 500ns时,系统等效的死时间约为 2.79μs,此时,最大脉冲通过率将达到 130Kcps。粗调增益::由计算机选定为 1,2,4,8细调增益:由计算机设定为 0.45 至 1.00尺寸与重量:376D X 242W X 116 H mm, 2.2KG工作条件:0 C 到 50 C(包括 LCD 显示)。操作系统:Windows 7/ Windows10。显示/接口:320 240 像素(pixel) 有机发光半导体(OLCD)系统状态信息。220V市电接入端子,USB3.0接口。高压输出接口,探测器电源接口,探测器信号输入端子。第三部分:液氮回凝制冷器 采用低振动长寿命脉冲管制冷机,运行寿命长于 10 年; 25L 液氮容器,不断电条件下可连续工作两年以上; 对探测器分辨率无影响; 可匹配垂直、水平与弯头型冷指; 液晶显示屏实时显示液氮水平、制冷机运行状态等信息; 可选购基于无线技术的遥控器,远程控制制冷系统或显示运行状态; 配有自动式液氮填充接口,可自动加注液氮; 在制冷维系时长为 48 小时前发出提示与报警; 外形尺寸:64.5cm 高 x 45.6cm 直径(不含探测器); 功耗:运行时小于 150W,启动时最大 250W; 工作环境:0 - 35℃,相对湿度 20%至 80%(无冷凝); 噪声:1m 处小于 60 分贝。第四部分:伽马谱软件包 研制开发一套完整的实验室高纯锗伽马谱仪,除了高纯锗探测器这一核心部件之外,还需要在与其配套的制冷器、谱仪和分析软件上下足十分的功夫。 历经十年的反复磋磨与雕琢,目前这款即将商品化的TKGammaWiz软件包已具备完整而 强大的功能。 它是一个完整的软件包,只需一次安装,用户即可实现如下功能: 系统的参数设置与硬件控制,包括增益细调、启动数字化稳谱、调节高压、显示实 时间/活时间和脉冲宽度、 系统的能量与效率刻度。初始化安装时,软件会提示用户进行参数设置与能量/效 率刻度。 能谱获取与显示。具有多路谱图同步获取功能。 谱分析与活度计算。多种寻峰方法与峰面积计算方法、多种本底算法、完善的各种校正功能,以期得到最小的不确定度。 分析结果报告与质量保证。完整的数据报告会给出每一次测量的条件与结果,以保 证随时可以回溯。 它具有如下鲜明的个性化功用与特点: 设计有可切换的操作员(operator)与专家(expert)两种使用权限,以保证系统 与数据安全可靠。 独特的能谱采集回放功能。设计用于当数据超出设置的限值、或不确定度较高时, 从源头上予以确认或诊断。 对具备”批处理”条件的样品,可定制流程化的“一键分析”。 具体参数与特性: 刻度:支持能量、峰形、效率刻度,可人工刻度,也可载入存储的数据文件。效率曲线可 载入自主研发的无源效率刻度软件产生的效率刻度文件,并支持三种拟合方法:单一函数多 项式拟合、插值法、带“拐点”(Knee)的多项式拟合。 寻峰:支持 Mariscotti 法寻峰,可自动或手动完成寻峰。 本底确定方法:自动确定法、SNIP剥谱法、峰侵蚀法等。软件会自动选定最佳方法。 分析用核素库: 软件包含默认的 2000 个核素的衰变纲图与相应的伽马射线能量数据, 用 户可在此基础上进一步编辑并生成自己的自定义子库。软件核素库支持对核素名称、质量、 能量的查询,和对母子核的编辑。 核素识别的方法: 软件默认使用基于库寻峰的核素识别方法,具体执行程序如下: 使用广义二阶差分方法初步寻峰,根据寻峰结果对核素库进行筛选。用峰侵蚀方法分析全谱本底,扣除本底后,在库峰位所在能量点用最小二乘法进行峰拟合作为寻峰结果。 分析后的首选核素将会直接标注在谱上,方便查看。 谱分析中的校正:母子核衰变校正;样品集与谱获取期间的衰变校正。 MDA 计算:Currie 算法,后续可扩展 ORTEC MDA 等 18 种算法。分析结果报告:报告主要包括能谱信息、刻度、分析设置、分析峰、分析核素几个部分内容,支持 pdf、rpt、doc 三种格式。 界面:默认 office 风格,可自行切换。一图展示能谱、寻峰、核素识别结果等内容,并 可根据指定核素计算显示其余能量峰的高度。适应的操作系统:Windows7/810 32/64 位操作系统。第五部分:实验室无源效率刻度软件 蒙特卡罗程序包:基于 Geant4 软件程序包,能够准确模拟光子与物质相作用的整个过程。 探测器类型:支持同轴型、面型、井型三种类型探测器。 能量范围:10keV-7000keV; 刻度角度:支持任意角度刻度。探测效率:支持真实物理级别的级联符合校正,通过自研能量沉积算法获取探测效率。 常见容器库:内置 9 种常见的容器库,支持圆柱、圆盘、烧杯、马林杯、U 型杯、盒子、球 型、点源、横向圆柱等对称型样品模型。 材料库工具:内置 40 余种常见材料,允许用户自定义材料。 3D 视觉及几何校验:提供快速 3D 视觉及更精细的几何模型定义,提供完整的几何模型校验。 输入参数敏感性分析:提供输入参数敏感性分析工具,方便用户定位影响效率刻度的参数项。 自表征校正工具:允许用户自主完成探测器表征,无需返厂,确保刻度的准确性。 效率刻度拟合公式:允许用户通过拟合公式计算不同能量对应的探测效率。 刻度结果报表:支持完整刻度结果数据的报表预览及打印。 适应的操作系统:Windows7/8/10 64 位操作系统。第六部分:铅室1.标准铅室 TKLBS-G2 是一款顶开门压杆式低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环 境本底对探测过程的干扰,提高测量的准确性。具体参数: 外层材料:1cm 低碳钢;中层材料:10cm 低本底铅 4π 方向屏蔽;内层材料:3 mm 无氧铜;结构:压杆式顶部平移开门设计; 承重桌材料:低碳钢;占地面积:65cm x 65cm;内腔尺寸:Φ310mm x 409mm;重量:大于 1.1 吨; 铅室说明:分三个型号,TKLBS-G1,TKLBS-G2,和TKLBS-U,TKLBS为low background shelid低本底屏蔽的缩写,G1代表Grad1等级1,使用铅材料厚度为10cm,本底保 证<3.0cps,常规值<2.8cps;G2代表Grad1等级2,使用铅材料厚度为15cm,本 底保证<2.0cps,常规值<1.6cps;U代表Ultra超级,使用铅材料厚度为15cm, 同时使用液氮挥发气体赶走铅室内腔空气,使之降低空气中氡的影响,本底保证<1.0cps。按照约定俗称,以上本底均针对40%效率高纯锗探测器。2.超低本底铅室 TKULBS-G 是一款顶开门压杆式超低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环境本底 对探测过程的干扰,提高测量的准确性。本底指标:本底指标:在正常放射性环境下 50keV 至 3MeV 范围内保证值小于 1.2cps(40%效率), 典型值约 1cps 左右。具体参数: 高度 682.1 mm (26.9 in.); 直径 558.8 mm (22.0 in.); 内腔: 直径 228.6 mm (9 in.); 深度:355.6 mm (14 in.);最外层:9.5 mm (3/8 in.) 厚的低碳钢; 屏蔽层: 152 mm (6 in.)厚的低本底铅; 内衬:1 mm 厚的锡与 1.5mm 厚的无氧铜 重量: 1625 Kg 喷漆: 浅灰色环氧漆 桌子高度:68.5-765 .5cm 高度可调可选超低本底内衬:2.5cm 厚的 25Bq/kg 的超低本底铅。
    留言咨询
  • 高纯锗伽马γ谱仪HPGe 400-860-5168转3524
    高纯锗γ伽马能谱仪器第一部分:高纯锗探测器 高锗探测器由于其无与伦比的优异分辨率,是核测量最精密和最先进的工具,在核物理 研究与核测量中具有不可替代的地位。 完整的高纯锗探测器的制造过程包括晶体制备、探测器结构设计、高性能低噪声前置放大 器设计、超高真空封装与生产成型、指标测试和稳定性考核等。经国家权威计量部门检定, 其关键 性能指标优异、稳定性良好。 高纯锗探测器的工作机理:高纯锗晶体的杂质浓度低至 1010 原子/cm3 量级,是世界上最纯 净的物质。高纯锗探测器表面 分别有 N+、P+电极,在该两种电极上加反向偏压后,由于高 纯锗晶体极低的杂质浓度,其内部将工作在全耗尽状态,此时伽马射线在其内部沉积能量产生 的载流子在电场的作用下被收集,形成的电流信号通过前置放大器被转换为与沉积能量成正比 的电压信号。 高纯锗探测器所采用的晶体外形为一圆柱体,在 其外表面为 N+电极,在其内部电极孔内部为 P+电极, 两种电极分别使用成熟的锂扩散、硼离子注入技术制 造。威视系列高性能 P 型同轴高纯锗探测器的 N+电 极约为 0.5mm 厚,P+电极约为 0.5μm 厚。 探测器的前置放大器可根据用户需求选用阻容反馈或脉冲反馈前放,性能优异,长期稳 定性好,除适配威视系列数字谱仪外,还可兼容市场上主流的谱仪产品。 威视系列高性能 P 型优化高纯锗探测器配置垂直冷指,并可根据用户需要配置“L 形”、 “U 形”、水平冷指等定制化设计,同时为用户在探测器封装与冷指材料上提供超低本底选项。为保证制冷效率,探测器舱室应保持严密的真空条件。P 型探测器的总体特性:能量响应范围:30keV 至 10MeV;相对探测效率 10% 至 80%; 可满足绝大部分样品测量应用和大部分研究测量应用的要求; 全面保证相对效率、分辨率、峰康比和峰形指标; 可配置普通阻抗反馈前放或适于高计数率的脉冲光反馈前放。 TKGEP-S 系列探测器型号与性能指标:型号晶体尺寸(mm)能量分辨率-FWHM(≤keV)峰形(≤)峰康比(≥)效率(≥)直径厚度@59.5keV@122keV@1.33MeVFW.1M/FWHMFW.02M/FWHMTKGEP-S1250300.700.801.81.92.73212%TKGEP-S3070300.700.851.81.92.74530%TKGEP-S4070400.750.901.852.02.84840%TKGEP-S5085300.850.951.852.03.05350%TKGEP-S6090300.901.01.902.03.05860%TKGEP-S7085500.951.11.952.03.06270%第二部分:谱仪(多道分析仪) 配套高纯锗探测器的一款新型数字化谱仪。其设计功能完善,其稳定性业已经实际使用验证。针对高效率探测器或高 计数率条件下对信号处理的要求,结合软件,谱仪在数字化极零调 节、死时间校正和弹道亏损校正方面做了具有相当先进性和独到 性的设计。 谱仪整体功能与特性:全数字化控制,保证人机交互灵活探测器回温情况下高压自动切断功能(shutdown)多种滤波模式,可根据特定环境配置滤波参数,具备低频噪声抑制功能具备门控数字化基线恢复,自动极零,零死时间校正,弹道亏损校正等完 整先进功能最大数据通过率大于 100kcps,对高计数率样品能获得准确的测量结果支持 USB3.0 接口谱仪特征功能: 基础参数显示:系统的电源开启状态,高压开启状态,高压目标值,高压升降过程 动态显示。全数字化自动高压加载:用户根据探测器参数选定高压后,系统自动按指定的速率 和目标值进行高压加载,直到满足探测器要求。异常处理功能:当系统意外掉电,设备自动启动 UPS 功能,并按异常处理逻辑,进 行高压缓降,以保护探测器安全。抑制电荷收集时间效应功能:基于 FPGA 的硬件算法,利用快通道梯形脉宽来统计 电荷收集的方法简单实用高效。 具体参数指标: 系统非线性:积分非线性:≤ 0.01%;微分非线性:≤±0.28最大通过率:成形时间设置为上升时间 500ns,平顶时间 500ns时,系统等效的死时间约为 2.79μs,此时,最大脉冲通过率将达到 130Kcps。粗调增益::由计算机选定为 1,2,4,8细调增益:由计算机设定为 0.45 至 1.00尺寸与重量:376D X 242W X 116 H mm, 2.2KG工作条件:0 C 到 50 C(包括 LCD 显示)。操作系统:Windows 7/ Windows10。显示/接口:320 240 像素(pixel) 有机发光半导体(OLCD)系统状态信息。220V市电接入端子,USB3.0接口。高压输出接口,探测器电源接口,探测器信号输入端子。第三部分:液氮回凝制冷器 采用低振动长寿命脉冲管制冷机,运行寿命长于 10 年; 25L 液氮容器,不断电条件下可连续工作两年以上; 对探测器分辨率无影响; 可匹配垂直、水平与弯头型冷指; 液晶显示屏实时显示液氮水平、制冷机运行状态等信息; 可选购基于无线技术的遥控器,远程控制制冷系统或显示运行状态; 配有自动式液氮填充接口,可自动加注液氮; 在制冷维系时长为 48 小时前发出提示与报警; 外形尺寸:64.5cm 高 x 45.6cm 直径(不含探测器); 功耗:运行时小于 150W,启动时最大 250W; 工作环境:0 - 35℃,相对湿度 20%至 80%(无冷凝); 噪声:1m 处小于 60 分贝。第四部分:伽马谱软件包 研制开发一套完整的实验室高纯锗伽马谱仪,除了高纯锗探测器这一核心部件之外,还需要在与其配套的制冷器、谱仪和分析软件上下足十分的功夫。 历经十年的反复磋磨与雕琢,目前这款即将商品化的TKGammaWiz软件包已具备完整而 强大的功能。 它是一个完整的软件包,只需一次安装,用户即可实现如下功能: 系统的参数设置与硬件控制,包括增益细调、启动数字化稳谱、调节高压、显示实 时间/活时间和脉冲宽度、 系统的能量与效率刻度。初始化安装时,软件会提示用户进行参数设置与能量/效 率刻度。 能谱获取与显示。具有多路谱图同步获取功能。 谱分析与活度计算。多种寻峰方法与峰面积计算方法、多种本底算法、完善的各种校正功能,以期得到最小的不确定度。 分析结果报告与质量保证。完整的数据报告会给出每一次测量的条件与结果,以保 证随时可以回溯。 它具有如下鲜明的个性化功用与特点: 设计有可切换的操作员(operator)与专家(expert)两种使用权限,以保证系统 与数据安全可靠。 独特的能谱采集回放功能。设计用于当数据超出设置的限值、或不确定度较高时, 从源头上予以确认或诊断。 对具备”批处理”条件的样品,可定制流程化的“一键分析”。 具体参数与特性: 刻度:支持能量、峰形、效率刻度,可人工刻度,也可载入存储的数据文件。效率曲线可 载入自主研发的无源效率刻度软件产生的效率刻度文件,并支持三种拟合方法:单一函数多 项式拟合、插值法、带“拐点”(Knee)的多项式拟合。 寻峰:支持 Mariscotti 法寻峰,可自动或手动完成寻峰。 本底确定方法:自动确定法、SNIP剥谱法、峰侵蚀法等。软件会自动选定最佳方法。 分析用核素库: 软件包含默认的 2000 个核素的衰变纲图与相应的伽马射线能量数据, 用 户可在此基础上进一步编辑并生成自己的自定义子库。软件核素库支持对核素名称、质量、 能量的查询,和对母子核的编辑。 核素识别的方法: 软件默认使用基于库寻峰的核素识别方法,具体执行程序如下: 使用广义二阶差分方法初步寻峰,根据寻峰结果对核素库进行筛选。用峰侵蚀方法分析全谱本底,扣除本底后,在库峰位所在能量点用最小二乘法进行峰拟合作为寻峰结果。 分析后的首选核素将会直接标注在谱上,方便查看。 谱分析中的校正:母子核衰变校正;样品集与谱获取期间的衰变校正。 MDA 计算:Currie 算法,后续可扩展 ORTEC MDA 等 18 种算法。分析结果报告:报告主要包括能谱信息、刻度、分析设置、分析峰、分析核素几个部分内容,支持 pdf、rpt、doc 三种格式。 界面:默认 office 风格,可自行切换。一图展示能谱、寻峰、核素识别结果等内容,并 可根据指定核素计算显示其余能量峰的高度。适应的操作系统:Windows7/810 32/64 位操作系统。第五部分:实验室无源效率刻度软件 蒙特卡罗程序包:基于 Geant4 软件程序包,能够准确模拟光子与物质相作用的整个过程。 探测器类型:支持同轴型、面型、井型三种类型探测器。 能量范围:10keV-7000keV; 刻度角度:支持任意角度刻度。探测效率:支持真实物理级别的级联符合校正,通过自研能量沉积算法获取探测效率。 常见容器库:内置 9 种常见的容器库,支持圆柱、圆盘、烧杯、马林杯、U 型杯、盒子、球 型、点源、横向圆柱等对称型样品模型。 材料库工具:内置 40 余种常见材料,允许用户自定义材料。 3D 视觉及几何校验:提供快速 3D 视觉及更精细的几何模型定义,提供完整的几何模型校验。 输入参数敏感性分析:提供输入参数敏感性分析工具,方便用户定位影响效率刻度的参数项。 自表征校正工具:允许用户自主完成探测器表征,无需返厂,确保刻度的准确性。 效率刻度拟合公式:允许用户通过拟合公式计算不同能量对应的探测效率。 刻度结果报表:支持完整刻度结果数据的报表预览及打印。 适应的操作系统:Windows7/8/10 64 位操作系统。第六部分:铅室1.标准铅室 TKLBS-G2 是一款顶开门压杆式低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环 境本底对探测过程的干扰,提高测量的准确性。具体参数: 外层材料:1cm 低碳钢;中层材料:10cm 低本底铅 4π 方向屏蔽;内层材料:3 mm 无氧铜;结构:压杆式顶部平移开门设计; 承重桌材料:低碳钢;占地面积:65cm x 65cm;内腔尺寸:Φ310mm x 409mm;重量:大于 1.1 吨; 铅室说明:分三个型号,TKLBS-G1,TKLBS-G2,和TKLBS-U,TKLBS为low background shelid低本底屏蔽的缩写,G1代表Grad1等级1,使用铅材料厚度为10cm,本底保 证<3.0cps,常规值<2.8cps;G2代表Grad1等级2,使用铅材料厚度为15cm,本 底保证<2.0cps,常规值<1.6cps;U代表Ultra超级,使用铅材料厚度为15cm, 同时使用液氮挥发气体赶走铅室内腔空气,使之降低空气中氡的影响,本底保证<1.0cps。按照约定俗称,以上本底均针对40%效率高纯锗探测器。2.超低本底铅室 TKULBS-G 是一款顶开门压杆式超低本底铅室,用于高纯锗γ能谱仪系统,屏蔽环境本底 对探测过程的干扰,提高测量的准确性。本底指标:本底指标:在正常放射性环境下 50keV 至 3MeV 范围内保证值小于 1.2cps(40%效率), 典型值约 1cps 左右。具体参数: 高度 682.1 mm (26.9 in.); 直径 558.8 mm (22.0 in.); 内腔: 直径 228.6 mm (9 in.); 深度:355.6 mm (14 in.);最外层:9.5 mm (3/8 in.) 厚的低碳钢; 屏蔽层: 152 mm (6 in.)厚的低本底铅; 内衬:1 mm 厚的锡与 1.5mm 厚的无氧铜 重量: 1625 Kg 喷漆: 浅灰色环氧漆 桌子高度:68.5-765 .5cm 高度可调可选超低本底内衬:2.5cm 厚的 25Bq/kg 的超低本底铅。
    留言咨询

反超底高纯锗仪相关的资讯

  • 光智科技攻克高纯锗“卡脖子”技术,加快红外光学产业链下游产品创新
    科技兴邦,产业强国。近年,随着科学技术的进步,各国对锗的应用研究越来越广。锗是关键的战略性矿产,今年7月3日,商务部、海关总署发布公告称,从8月1日起对镓、锗相关物项实施出口管制限制,更加凸显自主可控的金属资源有着重要的战略意义。光智科技作为一家覆盖从“材料生长、芯片设计、器件制备到系统集成”的全产业链规模化生产的光电科技企业,持续在红外和晶体材料领域进行创新,重点攻关核心材料,不仅在碲锌镉、硅酸钇镥等晶体材料的研发和制造中占据行业领先地位,也是国内锗材料领导者。攻坚高纯锗材料“卡脖子”技术锗是一种灰白色类的稀散金属,通常被加工成区熔锗锭、光纤级四氯化锗、红外锗单晶、太阳能光伏用锗衬底片等产品,广泛应用于光纤通信、红外光学、太阳能电池、航空航天测控、核物理探测、半导体、化学催化剂等多个高新技术和国防安全建设领域。这其中,高纯锗单晶材料是锗系列产品中最高端、制备技术难度最大的材料,是制造高纯锗探测器的核心材料。全球锗资源储量匮乏,我国是全球金属锗的最大生产国,资料显示2021年我国锗产量在全球占比达67.9%。尽管我国在金属锗的生产上具有巨大的优势,但在高纯锗单晶领域,尤其是13N这种超高纯度的锗单晶,长期被欧美国家主导。在过去,欧美国家以每公斤8000-10000元的价格从我国购买区熔锗,经深加工成高纯锗单晶后以30-40倍的价格向我国出售。为打破欧美的技术垄断,红外行业生力军光智科技五年磨一剑,期间投入大量人力物力,于2021年率先成功研制出13N超高纯锗单晶,实现了我国在该领域零的突破。目前,光智科技拥有全自动单晶生长炉等先进的研发设备,掌握了超高纯锗单晶制备的关键技术,已经建成了具有国际先进水平的超高纯锗生产线,这标志着我国已经具备了大规模生产高质量13N超高纯锗单晶的能力。红外镜头、热成像仪、探测器等产品接连面市作为优良的半导体和国防军工、高新科技等领域的重要原材料,锗在红外光学、光纤通信、太阳能电池、核物理探测等行业的应用前景愈发广阔。在红外光学领域,锗因具有红外折射率高、红外透过波段范围宽、吸收系数小、色散率低和易加工等优点,被誉为红外热成像仪的“灵魂”,利用锗单晶加工而成的锗透镜等红外光学部件广泛用于各类红外光学系统中,包括红外锗镜头、热成像仪与夜视仪、光探测器、红外探测器、激光与红外雷达等。近年来,光智科技加速从红外材料向红外产业链下游产品的创新研发,依托在红外和晶体材料领域领先的技术优势和强大的研发能力,公司在高质量锗圆片、高纯锗、锗透镜、硒化锌透镜、硫化锌透镜、硫系玻璃等明星产品基础上,进一步丰富产品体系,陆续推出红外机芯、整机、系统等产品,拓宽红外光学下游市场范围。2023年,光智科技进一步聚焦红外系统集成应用领域产业化,加快丰富产品类别,陆续推出了辐射监测仪、Non-shutter系列无挡片红外机芯、Mickey-LR/IR系列手持单目热像仪、Lucking- LR/IR非制冷红外热像仪等下游终端新品,打开公司业务增长新空间。非制冷焦平面探测器此外,在探测器方面,光智科技近日在投资者互动平台上表示,公司已完成非晶锗接触型的探头制备,目前在研发体积更大,性能更好的同轴型探测器,未来公司将持续推进高稳定性高纯锗能谱仪研究,突破高纯锗单晶材料和探头工程化制备关键技术,实现高纯锗核辐射探测器的批量化生产。据悉,高纯锗探测器与其他探测器相比,具有能量分辨率好、探测效率高、稳定性强等无可比拟的优点,成为核物理、粒子物理、检验检疫、生物医学及国防安全不可或缺的仪器设备,市场应用前景广阔。新时代推动革新,新技术智造未来。光智科技充分把握国家战略导向与全球光电产业发展趋势,对核心技术多思考、对“卡脖子”技术多攻关,以科技创新打造企业发展新引擎,不断推进新材料、新产品、新工艺等创新研发,夯实创新“底座”,用技术创新推动光电行业发展。
  • ORTEC发布ORTEC Detective 便携式高纯锗新品
    综述: 随着非动力核技术广泛的应用在各行各业。对于人们来说,放射性核素再也不是遥不可及的神秘物质。近年来,核与辐射事故频发,核反恐形势不断加剧,高性能手持式核素识别仪器成了各领域的需求热点。 在应用需求的推动下,手持式核素识别仪器技术领域有了突飞猛进的发展。尤其高纯锗核素识别仪器(HPGe)的小型化,彻底改变了放射性核数识别长期依赖碘化钠(NaI)探测器的局面。使得基于高纯锗的核素识别成为该类型设备的黄金标准“Golden standard”。 作为放射性物质扩散及国土安全防护的重要职能部门——出入境检验检疫,国家辐射管理部门等。对设备也提出了更高的要求。基于HPGe的手持式核素识别仪,在小型化,电制冷化方便的不断发展,完全克服了传统HPGe谱仪使用上的限制。真真正正的成为了一种巡查利器,使得过去的不可能变成了现在的可能。核素识别的基本原理: 不同的放射性核素衰变时,产生具有“指纹”特征的Gamma射线。核数识别仪通过对发射出的Gamma射线进行测量,数据获取。最终形成能谱,通过对能谱的分析,根据能谱中所展示的特征能量与核素库(核素指纹库)中的能量进行对比,从而准确识别出对应的放射性核素。面临的问题:环境水平下的低活度有害放射性物质筛查带有伪装的特殊核材料走私“脏弹”威胁重大集会的核反恐 核材料扩散等 放射性核辐射因为其看不见,摸不着的特性。手持式核素识别仪成了唯一能够发现威胁的核心设备。但在面对这些不确定的,复杂的威胁的时候。传统的基于闪烁体探测器(NaI,Labr)的手持式核素识别仪,因为较差的核素识别能力,通过一些简单的手段就能够被有效欺骗。所以传统的基于闪烁体探测器的手持式核素识别仪已经远远的不能应付我们需要面对的威胁。核心性能—核素识别能力: 作为该类仪器最重要的性能指标——能量分辨率(FWHM:全能峰半高宽),它表征了 探测器对于不同能量射线的分辨能力,也代表了核素识别的准确性。是基于能谱分析核素识别仪器最重要的性能指标。对于目前广泛采用的探测器类型来讲:LaBr(溴化镧)闪烁体探测器分辨率好于NaI(碘化钠)探测器,提升分辨率一倍。HPGe(高纯锗)探测器分辨率好于LaBr探测器,提升20倍以上。因为HPGe探测器无与伦比的分辨率性能,使其成为手持式核素识别仪器的黄金标准“Golden Standard“。性能的提升: 以Ba133为例,Ba133是一种较为常见的工业用放射性核素。如果我们用NaI谱仪和HPGe谱仪去测量Ba133核素发射的射线,我们可以得到如右图所示的两个能谱,采用NaI谱仪时,只能看到两个峰,而HPGe可以将所有能峰清晰展示。使我们可以准确的分辨目标核素为Ba133. 做为特殊核材料走私的惯用手段之一,对特殊核材料进行伪装,已达到欺骗识别设备的目的。我们在Ba133放射性核素中混入需要携带会运输的特殊核材料Pu。用同样的设备进行测量时,我们会得到下图的两个能谱。 从图中所探测器到的能谱来判断的话,基于NaI的手持式设备只能给出Ba133的识别结果。 而基于HPGe的核素识别仪可以精确 的识别高风险材料Pu。真真正正的做到让任何威胁都无处遁形。设备应该具备的特性:精准的核素识别能力(超高的能量分辨率)高灵敏度体积小巧,重量轻可独立工作,无需任何外部辅助优秀先进的自动分析能力,对操作人员无要求能够适应各种环境及应用的要求Detective 100——手持式放射性核素识别仪: 大晶体: 直径65mm,厚度50mm晶体类型:P型同轴高纯锗晶体强大的通讯能力 — 支持802.11 a/b/g无线网络,USBHe3中子探测器选项支持大容量存储卡可完全脱离计算机工作工作温度范围:-10度 到 40度开机自动运行运行模式:搜寻模式特殊核材料识别模式核素识别模式谱测量模式创新点:1、创新的使用了最新型号的高效斯特林制冷机2、在最小的空间内高度集成了整套谱仪系统所需的全部部件3、采用了独有的光纤式探测器进行中子测量ORTEC Detective 便携式高纯锗
  • 395万!惠州市职业病防治院计划采购高纯锗伽马能谱仪及配套设施
    一、项目基本情况项目编号:2022HZBXSZ06066项目名称:高纯锗伽马能谱仪及配套设施采购项目采购方式:公开招标预算金额:3,949,300.00元采购需求:合同包1(高纯锗伽马谱仪及配套设备):合同包预算金额:3,949,300.00元品目号品目名称采购标的数量(单位)技术规格、参数及要求品目预算(元)最高限价(元)1-1其他专用仪器仪表高纯锗伽马能谱仪及配套设施1(套)详见采购文件3,949,300.00-本合同包不接受联合体投标合同履行期限:双方自合同签订之日起半年内完成。二、申请人的资格要求:1.投标供应商应具备《政府采购法》第二十二条规定的条件,提供下列材料:1)具有独立承担民事责任的能力:在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织或自然人, 投标(响应)时提交有效的营业执照(或事业法人登记证或身份证等相关证明) 副本复印件。分支机构投标的,须提供总公司和分公司营业执照副本复印件,总公司出具给分支机构的授权书。2)有依法缴纳税收和社会保障资金的良好记录:提供投标截止日前6个月内任意1个月依法缴纳税收和社会保障资金的相关材料。 如依法免税或不需要缴纳社会保障资金的, 提供相应证明材料。3)具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度:供应商必须具有良好的商业信誉和健全的财务会计制度(提供2020年度或2021年度财务状况报告或基本开户行出具的资信证明)。4)履行合同所必需的设备和专业技术能力:按投标(响应)文件格式填报设备及专业技术能力情况。5)参加采购活动前3年内,在经营活动中没有重大违法记录:参照投标(报价)函相关承诺格式内容。 重大违法记录,是指供应商因违法经营受到刑事处罚或者责令停产停业、吊销许可证或者执照、较大数额罚款等行政处罚。(根据财库〔2022〕3号文,“较大数额罚款”认定为200万元以上的罚款,法律、行政法规以及国务院有关部门明确规定相关领域“较大数额罚款”标准高于200万元的,从其规定)2.落实政府采购政策需满足的资格要求:合同包1(高纯锗伽马谱仪及配套设备)落实政府采购政策需满足的资格要求如下:本项目不属于专门面向中小企业采购的项目; 需落实的政府采购政策:《政府采购促进中小企业发展暂行办法》(财库〔2011〕181号)、《关于政府采购支持监狱企业发展有关问题的通知》(财库〔2014〕68号)、《关于促进残疾人就业政府采购政策的通知》(财库〔2017〕141号)、《关于环境标志产品政府采购实施的意见》(财库〔2006〕90号)、《节能产品政府采购实施意见》的通知(财库〔2004〕185号)、《关于调整优化节能产品、环境标志产品政府采购执行机制的通知》(财库〔2019〕9号)、《关于运用政府采购政策支持脱贫攻坚的通知》(财库〔2019〕27号)等。3.本项目的特定资格要求:合同包1(高纯锗伽马谱仪及配套设备)特定资格要求如下:(1)供应商未被列入“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)“记录失信被执行人或重大税收违法案件当事人名单或政府采购严重违法失信行为”记录名单;不处于中国政府采购网(www.ccgp.gov.cn)“政府采购严重违法失信行为信息记录”中的禁止参加政府采购活动期间。(以资格审查人员于投标(响应)截止时间当天在“信用中国”网站(www.creditchina.gov.cn)及中国政府采购网(http://www.ccgp.gov.cn/)查询结果为准,如相关失信记录已失效,供应商需提供相关证明资料)。(2)单位负责人为同一人或者存在直接控股、 管理关系的不同供应商,不得同时参加本采购项目(或采购包) 投标(响应)。 为本项目提供整体设计、 规范编制或者项目管理、 监理、 检测等服务的供应商, 不得再参与本项目投标(响应)。 投标(报价) 函相关承诺要求内容。(3)本项目不接受联合体投标,不允许投标人对本招标项目进行违法分包和转包。三、获取招标文件时间: 2022年06月10日 至 2022年06月17日 ,每天上午 00:00:00 至 12:00:00 ,下午 12:00:00 至 23:59:59 (北京时间,法定节假日除外)地点:广东省政府采购网https://gdgpo.czt.gd.gov.cn/方式:在线获取售价: 免费获取四、提交投标文件截止时间、开标时间和地点2022年07月01日 09时30分00秒 (北京时间)地点:广东省政府采购智慧云平台系统(本项目为远程开标)五、公告期限自本公告发布之日起5个工作日。六、其他补充事宜1.本项目采用电子系统进行招投标,请在投标前详细阅读供应商操作手册,手册获取网址:https://gdgpo.czt.gd.gov.cn/help/transaction/download.html。投标供应商在使用过程中遇到涉及系统使用的问题,可通过400-1832-999进行咨询或通过广东政府采购智慧云平台运维服务说明中提供的其他服务方式获取帮助。2.供应商参加本项目投标,需要提前办理CA和电子签章,办理方式和注意事项详见供应商操作手册与CA办理指南,指南获取地址:https://gdgpo.czt.gd.gov.cn/help/problem/。3.如需缴纳保证金,供应商可通过"广东政府采购智慧云平台金融服务中心"(http://gdgpo.czt.gd.gov.cn/zcdservice/zcd/guangdong/),申请办理投标(响应)担保函、保险(保证)保函。4.本项目采用远程电子开标,投标人的法定代表人或其授权代表应当按照本招标公告载明的时间和模式等要求参加开标。在投标截止时间(开标时间)前30分钟,登录云平台通过“新供应商开标大厅”进行开标签到及投标文件解密,并且填写授权代表的姓名与手机号码。若因签到时填写的授权代表信息有误而导致的不良后果,由供应商自行承担。七、对本次招标提出询问,请按以下方式联系。1.采购人信息名 称:惠州市职业病防治院地 址:惠州市鹅岭北路横街14号联系方式:0752-23897632.采购代理机构信息名 称:惠州市宝信招标有限公司地 址:广东省惠州市惠城区江北云山西路十号投资大厦十楼1003号联系方式:0752-72189283.项目联系方式项目联系人:温先生电 话:0752-7218928

反超底高纯锗仪相关的方案

反超底高纯锗仪相关的资料

反超底高纯锗仪相关的试剂

反超底高纯锗仪相关的论坛

  • 【转贴】超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术

    超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术1 微电子技术的发展微电子技术主要是指用于半导体器件和集成电路(IC)微细加工制作的一系列蚀刻和处理技术,其中集成电路,特别是大规模及超大规模集成电路的微细加工技术又是微电子技术的核心,是电子信息产业最关键、最为重要的基础。微电子技术发展的主要途径之一是通过不断缩小器件的特征尺寸,增加芯片的面积,以提高集成度和速度。自20世纪70年代后期至今,集成电路芯片的发展基本上遵循GordonEM预言的摩尔定律,即每隔1.5年集成度增加1倍,芯片的特征尺寸每3年缩小2倍,芯片面积增加约1.5倍,芯片中晶体管数增加约4倍,也就是说大体上每3年就有一代新的IC产品问世。在国际上,1958年美国首先研制成功集成电路开始,尤其是20世纪70年代以来,集成电路微细加工技术进入快速发展的时期,这期间相继推出了4、16、256K 1、4、16、256M 1、1.3、1.4G的动态存贮器。进入20世纪90年代后期,IC的发展更迅速,竞争更激烈。美国的Intel公司、AMD公司和日本的NEC公司这3个IC生产厂家的竞争尤为激烈,1999年Intel公司、AMD公司均实现了0.25Lm技术的生产化,紧接着Intel公司在1999年底又实现了0.18Lm技术的生产化,AMD公司也在紧追不舍。到2001年上半年,Intel公司实现了0.13Lm技术的生产化,而到2001年的2季度末,日本的NEC公司宣布突破了0.1Lm工艺技术的难关,率先成功研发出0.095Lm的半导体工艺技术,现已开始接受全球各地厂商的订货,并将于2001年的11月开始批量生产。因此,专家们认为世界半导体工艺技术的发展将会加速,半导体制造厂商将会以更先进的技术加快升级换代以适应新的市场要求。我国集成电路的研制开发始于1965年,与日本同时起步,比韩国早10年。现在我国已经有了从双极(5Lm)到CMOS、从2~3Lm到0.8~1.2Lm及0.35~0.5Lm工艺技术,并形成了规模生产,0.25Lm工艺技术生产线目前正在北京和上海同时建设,预计到2002年即可投产。“十五”期间及到2010年北京建设的北方微电子基地将建成20条0.35、0.25和0.18Lm工艺技术生产线,上海在浦东将建成大约40条0.35、0.25及0.18Lm工艺技术生产线,深圳也将建设多条超超大规模集成电路生产线。随着芯片制造技术向亚微米发展,出现了产品“多代同堂”的局面,以满足不同用途的需要。可说在生产技术方面我国几乎已经与国际先进水平同步,但在研发方面,我国与国际先进水平还有较大的差距。2 超净高纯试剂的现状超净高纯试剂(国际上称为ProcessChemi-cals)是超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料之一,主要用于芯片的清洗和腐蚀,它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、贮存有效期短和强腐蚀性等特点。随着IC存储容量的逐渐增大,存储器电池的蓄电量需要尽可能的增大,因此氧化膜变得更薄,而超净高纯试剂中的碱金属杂质(Na、Ca等)会溶进氧化膜中,从而导致耐绝缘电压下降 若重金属杂质(Cu、Fe、Cr、Ag等)附着在硅晶片的表面上,会使P-N结耐电压降低。杂质分子或离子的附着又是造成腐蚀或漏电等化学故障的主要原因。因此,随着微电子技术的飞速发展,对超净高纯试剂的要求也越来越高,不同级别超净高纯剂中的金属杂质和颗粒的含量要求各不相同,而配套于不同线宽的IC工艺技术。超净高纯试与IC发展的关系见表1。[img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2006/08/200608011544_22431_1634962_3.gif[/img]国外20世纪60年代便开始生产电子工业用试剂,并为微细加工技术的发展而不断开发新的产品。到目前为止,在国际上以德国E.Merck公司的产量及所占市场份额为最大,其次为美国Ashland、Olin公司及日本的关东株式会社,另外还有美国的MallinckradtBaker公司、英国的B.D.H.公司、前全苏化学试剂和高纯物质研究所、三菱瓦斯化学、伊期曼化学公司、AlliedSig-nal公司、Chemtech公司、PVS化学品公司、日本化学工业公司及德山公司等。近年来,新加坡、台湾地区也相继建立了5000~10000t级的超净高纯试剂生产基地。由于世界超净高纯试剂市场的不断扩大,从事超净高纯试剂研究与生产的厂家及机构也在增多,生产规模不断扩大,但各生产厂家所生产的超净高纯试剂的标准各不相同。为了能够规范世界超净高纯试剂的标准,国际半导体设备与材料组织(SEMI)于1975年成立了SEMI化学试剂标准委员会,专门制定超净高纯试剂的国际标准。目前国际SEMI标准化组织将超净高纯试剂按应用范围分为4个等级:(1)SEMI-C1标准(适用于1.2Lm IC工艺技术的制作) (2)SEMI-C7标准(适用0.8~1.2Lm IC工艺技术的制作) (3)SEMI-C8标准(适用于0.2~0.6Lm IC工艺技术的制作) (4)SEMI-C12标准(适用于0.09~0.2Lm IC工艺技术的制作)。我国超净高纯试剂的研制起步于20世纪70年代中期,1980年由北京化学试剂研究所(以下简称试剂所)在国内率先研制成功适合中小规模集成电路5Lm技术用的22种MOS级试剂。随着集成电路集成度的不断提高,对超净高纯试剂中的可溶性杂质和固体颗粒的控制越来越严,同时对生产环境、包装方式及包装材质等提出了更高的要求。为了满足我国集成电路发展的需求,国家自“六五”开始至“八五”,将超净高纯试剂的研究开发列入了重点科技攻关计划,并由试剂所承担攻关任务。到目前为止,试剂所已相继推出了BV-Ⅰ级、BV-Ⅱ级和BV-Ⅲ级超净高纯试剂,其中BV-Ⅲ级超净高纯试剂达到国际SEMI-C7标准的水平,适用于0.8~1.2Lm工艺技术(1~4M)的加工制作,并在“九五”末期形成了500t年的中试规模。目前试剂所正在进行用于0.2~0.6Lm工艺技术的BV-Ⅳ级超净高纯试剂的研究开发。

  • 如何看待超净高纯试剂的国产化之路!

    资料:超净高纯试剂是国家科技部重点支持的领域之一,目前国内芯片行业使用的超净高纯试剂全部依赖进口,急需国产化。 采用电解法制备超净高纯试剂:四甲基氢氧化铵,四乙基氢氧化铵,胆碱和苄基三甲基氢氧化铵。这类产品属于有机强碱,腐蚀性极强,。利用电解法使用原料少,不引入其他杂质的特点制备这类产品是方便的,可行的。在电子行业中广泛用作硅晶片蚀刻剂、清洗剂,IC(集成电路)、ULSI(超大规模集成电路)及TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器件)正胶显影剂。仅四甲基氢氧化铵全球每年用量大约为5万吨。提高超净高纯试剂制备技术,提升我国电子行业的制造水平,加快芯片等电子产品的研发速度,降低电子产品的生产成本,提高国际竞争力。试剂特别是一些高纯、基准、标准试剂,国产的份额很小,大家如何看待这个问题,对高纯试剂如何国产化有何建议。

  • 超净高纯电子化学试剂———异丙醇制备方法 !

    超净高纯电子化学试剂———异丙醇制备方法 梁 凯 (黑龙江省化工研究院,黑龙江 哈尔滨 150078) 摘 要:本文介绍了用含量98%的工业级异丙醇经过金属离子络合剂处理、脱水处理、微滤膜过滤、多级精馏、钠滤膜过滤制备超净高纯电子化学试剂———异丙醇的制备方法。该方法制备的超净高纯异丙醇符合半导体技术的芯片及硅园片的清洗和刻蚀的要求。 关键词:超净高纯异丙醇;金属离子络合剂;多级精馏;纳滤膜过滤 中图分类号:TQ224.23 文献标识码:A 文章编号:1002-1124(2011)07-0063-02 随着半导体技术的迅速发展,对超净高纯试剂的要求越来越高。在集成电路(IC)的加工过程中,超净高纯试剂主要用于芯片及硅园片表面的清洗和刻蚀,其纯度和清洁度对集成电路的成品率、电性能及可靠性有着十分重大的影响。超净高纯异丙醇作为一种重要的微电子化学品已经广泛用于半导体、大规模集成电路加工过程中的清洗、干燥等方面。随着 IC的加工尺寸已经进入亚微米、深亚微米时代,对与之配套的超净高纯异丙醇提出了更高的要求,要求颗粒和杂质含量降低 1~3 个数量级,达到国际半导体设备和材料组织制定的SEMI- C12标准,其中金属阳离子含量小于 0.1×10- 9,颗粒大小控制在 0.5μm以下。 目前,超净高纯异丙醇通常是以工业级异丙醇为原料纯化精致而成。精馏是工业化提纯异丙醇的主要方法,包括共沸精馏、萃取精馏等。但是用于微电子化学品工业的超净高纯异丙醇对其中金属杂质,颗粒大小含量和阴离子的要求十分苛刻,精馏工艺已经无法满足要求。 现有文献公布的超净高纯异丙醇的制备方法,以工业异丙醇为原料,以碳酸盐调节 pH 值,加入脱水剂,进行回流反应,经精馏、蒸馏、膜过滤,得到符合国际半导体设备和材料组织制定的SEMI- C12标准的超纯异丙醇。这一公开报道的制备方法无法稳定控制产品质量,特别是产品中金属离子含量以及颗粒杂质大小。

反超底高纯锗仪相关的耗材

  • 高纯锗伽玛谱仪
    高纯锗伽玛谱仪采用同轴高纯锗探测器制造,配备铅屏蔽装置,非常适合实验室高精度测量伽玛辐射,高纯锗伽玛谱仪广泛用于岩石,矿物,污泥,矿渣,土壤,植物,沉淀物,空气和水中颗粒物的放射性核素的伽玛辐射测量。 高纯锗伽玛谱仪特色 采用精密γ-光谱测定法 核素识别和活度探测 超低阈值核素探测 单独或同时测量100种核素 高纯锗伽玛谱仪组成 探测部分:高纯锗探测器 铅密封系统 液氮监测器 多通道分析器 仿真分析软件 高纯锗伽玛谱仪参数 CS137辐射同位素测量极限:0.5Bq/kg 伽玛射线绝对灵敏度:4.5x10^-3 pulse/quantum 背景强度:5x10^-4pulse/KeV x sec @40Kev-3MeV 防护厚度:铅璧厚度100mm, 铜壁厚度10mm 探测单元尺寸重量:1300x580x480mm,465kg 能谱仪尺寸重量:300x180x80mm, 2.8kg 电源要求:220V AC, 50Hz http://www.f-lab.cn/radiation-detectors/gammadetector.html
  • 高纯锗伽玛谱仪配件
    高纯锗伽玛谱仪配件采用同轴高纯锗探测器制造,配备铅屏蔽装置,广泛用于岩石,矿物,污泥,矿渣,土壤,植物,沉淀物,空气和水中颗粒物的放射性核素的伽玛辐射测量。 高纯锗伽玛谱仪配件特点采用精密γ-光谱测定法 非常适合实验室高精度测量伽玛辐射 核素识别和活度探测 超低阈值核素探测 单独或同时测量100种核素 高纯锗伽玛谱仪配件 探测部分:高纯锗探测器 铅密封系统 液氮监测器 多通道分析器 仿真分析软件 高纯锗伽玛谱仪配件参数 CS137辐射同位素测量极限:0.5Bq/kg 伽玛射线绝对灵敏度:4.5x10^-3 pulse/quantum 背景强度:5x10^-4pulse/KeV x sec @40Kev-3MeV 防护厚度:铅璧厚度100mm, 铜壁厚度10mm 探测单元尺寸重量:1300x580x480mm,465kg 能谱仪尺寸重量:300x180x80mm, 2.8kg 电源要求:220V AC, 50Hz
  • 上海仪电有色院元素空心阴极灯Dy镝 D氘 Er铒 Eu铕Ga镓 Gd钆 Ge锗
    上海仪电有色院元素空心阴极灯Dy镝 D氘 Er铒 Eu铕Ga镓 Gd钆 Ge锗有北分瑞利、北京普析、海光、华洋、浩天晖瀚时、东西分析、上海精科、上海仪电、皖仪、天瑞、森谱、天美、上海光谱、美析、福立、沈分、华光、中和测通、原子吸收,上海仪电有色院元素空心阴极灯Dy镝 D氘 Er铒 Eu铕Ga镓 Gd钆 Ge锗AS-1-2型号:2针脚配套岛津、耶拿、赛默飞、日立,安捷伦、瓦里安、GBC等原子吸收。AS-2专配PE原子吸收。元素有:Ag银、Al铝、As砷、Au金、B硼、Ba钡、Be铍、Bi铋、Ca钙、Cd镉、Co钴、Cr铬、Cu铜、Fe铁、Ga镓、Ge锗、Hg汞、K钾、Li锂、Mg镁、Mn锰、Mo、钼Na钠、Ni镍、Pb铅、Pd钯、 Pt铂、Rb铷、Re铼、Rh铑、Ru钌、Sb锑、Sc钪、Se硒、Sn锡、Sr锶、Ta钽、Te碲、Ti钛、W钨、V钒、Y钇、Zn锌、Zr锆空心阴极灯,价格优惠,现货供应,欢迎订购产 品 能 参 数 ★起辉电压:≦360V,起辉电压低(特别是用高频率点灯时如此),可以适用于各种不同的原子吸收光谱仪(AAS),一般原子吸收光谱仪灯的供电频率是200Hz、400Hz或更高,每秒钟灯要连续接通断开数百次。★最大工作电流:一般在10~30mA之间,AS-2型空心阴极灯略大。★超纯光谱性能:特征辐射谱线强度高而稳定,没有阴极材料杂质元素或其他元素、阳极材料、充入的惰性气体等发射谱线的重叠干扰,持续而稳定光源输出。★发射性能:独特的阴极环系统,保证达到均匀快速的发光性能。★噪  声:<0.3%,信号噪音降低到最小。★背  景:在特征谱线两侧的辐射背景低,主要分析线附近的背景强度小于分析强度的1%。★预热时间:<30min,一般在5-15min之间。★稳定性:≦+1%—-1%如果您想对我们的产品进一步了解,请咨询客服,我们将以优惠的价格、 高品质的产品回报客户、我们期待您的来电!
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制