纳米薄膜量仪

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  • 南京牧科纳米科技有限公司目前主要由10位具有海外留学经历和国内顶尖研究课题组多年研究经验的博士团队组成。牧科是国内唯一一家专门从事二维材料单晶CVD合成和二维半导体纳米片溶液及冷干粉末合成的(类石墨烯类材料)合成与研发的专业技术咨询和服务的纳米科技公司。公司现有产品主要包括:(1)各类人工合成二元、三元和四元二维单晶材料;单层机械剥离二元、三元和四元二维单晶材料,及定制类相关拓扑绝缘二维材料;(2)CVD法生长各类单层类石墨烯二维半导体材料MoS2,WS2,MoSe2,WSe2以合金CVD定制, CVD-BN薄膜定制,定做横向,纵向结构二维异质节(3) CVD生长二六族(Zn,Cd)+(S,Se,Te), 三五族(Ga,In)+(Sb,As,P) 纳米线以及异质节结构;(4)石墨烯单晶系列100um-2mm,5mm,1cm 大六边形单晶 (5)氧化石墨烯溶液、氧化石墨烯干粉,石墨烯干粉,石墨烯溶液,热还原石墨烯干粉,碳纳米管阵列衬底。(6)CdSe, CdSe/ZnS, CdSe/Cds,ZnSe-ZnS量子点/近红外PbS量子点/InP-ZnS量子点/水溶性发光量子点/上转换发光纳米粒子/LED用量子点 全光谱量子点溶液,(7)有机无机杂化钙钛矿单晶。尺寸可根据需要定制。(8)基团修饰氧化铁、四氧化三铁、三氧化二铁、聚苯乙烯磁性粒子、金纳米棒、三角纳米笼、银纳米颗粒生物制剂(8)实验用SIO2/SI,掺杂硅,本征硅衬底,镀金衬底,M面,C面,R面蓝宝石衬底,MgO、Zno、GGG晶体,TiO2等单晶衬底,激光切割等服务等亦可提供最先进相关测试服务(AFM,SEM,TEM ,XPS,Raman,BET,XRD,常温及变温PL,紫外-可见-近红外吸收/反射/透射光谱等常规测试服务)。如需获得更多的了解,欢迎您咨询QQ:2984216964 025-66171690 18052095282,或者A直接访问我们的公司网址是:http:www.mukenano.com
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  • 布鲁克纳米表面仪器部——表面分析测试设备领先者布鲁克纳米表面仪器部是全球领先的分析仪器公司布鲁克下属的一个事业部,前身是美国维易科(Veeco)公司纳米测试仪器部。布鲁克公司作为全球领先的分析仪器公司之一,拥有自成立五十多年以来,始终针对当今的分析需求,开发最先进的技术和最全面的解决方案。布鲁克公司的产品和服务遍布全球一百多个国家和地区。在五十多年的高速发展过程中,布鲁克公司凭借自身的科研优势,以独有的先进技术、科学的管理和市场导向的产品推动了全球的科学发展。布鲁克纳米表面仪器部作为作为表面观测和测量技术的全球领导者,一直着眼于研发新的表面计量、检测方法和工具,致力于为客户解决各种技术难题,提供最完善的解决方案。布鲁克纳米表面仪器部的设备都是同领域领先的设备,包括:1)用于表面理化性能纳米尺度表征和操纵的原子力显微镜,2)用于表面三维形貌及粗糙度快速测量分析的三维非接触式光学轮廓仪,3)用于表面三维形貌和台阶高度测量的接触式探针表面轮廓仪,4)用于材料摩擦磨损、润滑测试及涂层结合力测试的摩擦磨损测试仪,5)用于研究化学机械抛光的化学机械抛光测试仪,6)用于表征纳米尺度表面的机械性能、摩擦磨损和薄膜结合力的纳米压痕仪,7)用于生命科学前沿研究的超高分辨快速荧光/双光子显微镜等。这些设备从不同维度构成了表面表征测试的多种应用方案,适用于从高校研究所到工业领域的材料、化学、生命科学、物理、LED、太阳能、触摸屏、半导体、通信以及数据存储等领域进行科学研究、产品开发、质量控制及失效分析的准确、高效分析测试的要求。这些产品和应用方案帮助我们的客户在各自的表面测量测试应用中解决面临的问题,提升技术和工艺水平,提高研发效率,从而实现最大限度的回报。布鲁克纳米表面仪器部在中国的业务是布鲁克公司全球业务的重要组成部分,很早就在北京、上海和广州陆续设有产品演示中心,在北京还单独设立的客户关怀中心和备件仓库,大大方便了客户从购买设备之前的考察到售后阶段的各种需求。不论是售前还是售后服务,都获得了广大用户的好评。
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  • 上海纳动纳米位移技术有限公司是专业从事纳米定位、测控技术、运动控制产品的研发制造与产业化的高新技术企业。公司坐落于我国社会经济和科学技术发展最具活力的地区之一 ——上海市国家级漕河泾高科技园区。我们的开发人员拥有数字和模拟电子技术,空间研究,机械工程和纳米技术等相关专业知识的工程师。产品应用包括硬盘驱动器的磁头测试,半导体制造的光刻和计量仪器,扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM),以及大量的航空航天等空间应用,半导体制造与检测、生物显微成像、精密光学系统、光电子对准与封装、光学跟踪与扫描、超精密加工、先进自动化、MEMS等领域。广泛应用和服务于国内各高校、科研院所以及各类生产光学显微镜、激光设备、半导体IC装备、检测仪器、光电设备、光学仪器、医疗设备、特种精密加工机床等的装备制造商。公司一直坚定地参与前沿技术的研究和发展。这些年来我们一直提供领先的、具有成本效益的纳米定位和运动控制的位置传感技术。我们专注于关键的OEM应用的定制解决方案开发。我公司以最低的成本在最短的时间,提供最佳的解决方案,我们提供快速、全面的服务和支持,并始终如一地达到最佳的性价比。我们的方案已完美解决各合作公司的挑战性任务及科研难题,我们期待与您共同合作与进步,遨游科技的海洋。我们的目标:用我们高质量和高性能的技术,提供超性价比的产品和服务,实现价格最优惠。公司本着“正直,进取,合作,创新”的精神,努力把公司打造成为我国重要的纳米定位与运动控制的研发和产业化基地。
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纳米薄膜量仪相关的仪器

  • 纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比,样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点:1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法,通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化,为简便的衡量厚度方向上热导率。(日本:5426115)2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜(1.7mm×15mm×100nm)沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用:1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜,有机薄膜,热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理:当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时,热流的频率将为电流频率的2倍(2f)。如果样品由金属薄膜(0)-样品薄膜(1)-基体(s)组成(如图),可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体,则T(0)可由下式计算:(λ/Wm-1K-1,C/JK-1m-3,q/Wm-3,d/m,ω(=2πf)/s-1)式中实部(同相振幅)包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体,则同相振幅正比于(2 ω)0.5,薄膜的热导率(λ1)可由下式给出:(m:斜率,n:截距)纳米薄膜热导率测试系统参数:1. 测试温度:室温2. 样品尺寸:长10~20mm,宽10mm 厚0.3~1mm(含基体)3. 基体材料:Si(推荐) Ge,Al2O3(高热导率)4. 样品制备:样品薄膜上需沉积金属薄膜(100nm) (推荐:金)5. 薄膜热导率测量范围:0.1~10W/mK6. 测试氛围:大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据:Si基底上的SiO2薄膜(20-100nm)测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013)
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  • 中图仪器CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度是一款超精密接触式微观轮廓测量仪,其采用LVDC电容传感器,主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量,具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点。CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度应用场景适应性强,其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。测量过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号,数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1)自定义测量模式:支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式;2)导航图智能测量模式:支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机,可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示,进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴,可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节,提高测量精度及效率。典型应用CP系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术,使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。仪器结构单拱龙门式设计,结构稳定性好,而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响,提高了测量精度。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率,结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰,确保仪器具有良好的测量精度及重复性;2.超微力恒力传感器1-50mg可调,以适应硬质或软质样品表面,采用超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的接触式测量;3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术指标型号CP200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量,LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm(6吋),200mm(8吋)台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时(测量1μm台阶高度,1δ)尺寸(L×W×H)mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC,50/60 Hz,200W使用环境相对湿度:湿度 (无凝结)30-40% RH温度:16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动:6.35μm/s(1-100Hz)音频噪音:≤80dB空气层流:≤0.508 m/s(向下流动)恳请注意:因市场发展和产品开发的需要,本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改,恕不另行通知,不便之处敬请谅解。
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  • 纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比,样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点:1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法,通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化,为简便的衡量厚度方向上热导率。(日本:5426115)2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜(1.7mm×15mm×100nm)沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用:1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜,有机薄膜,热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理:当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时,热流的频率将为电流频率的2倍(2f)。如果样品由金属薄膜(0)-样品薄膜(1)-基体(s)组成(如图),可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体,则T(0)可由下式计算:(λ/Wm-1K-1,C/JK-1m-3,q/Wm-3,d/m,ω(=2πf)/s-1)式中实部(同相振幅)包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体,则同相振幅正比于(2 ω)0.5,薄膜的热导率(λ1)可由下式给出:(m:斜率,n:截距)纳米薄膜热导率测试系统参数:1. 测试温度:室温2. 样品尺寸:长10~20mm,宽10mm 厚0.3~1mm(含基体)3. 基体材料:Si(推荐) Ge,Al2O3(高热导率)4. 样品制备:样品薄膜上需沉积金属薄膜(100nm) (推荐:金)5. 薄膜热导率测量范围:0.1~10W/mK6. 测试氛围:大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据:Si基底上的SiO2薄膜(20-100nm)测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013
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纳米薄膜量仪相关的资讯

  • 苏州纳米所在大载流、高导电碳纳米管复合薄膜研究方面获进展
    导体材料是信息交互、电能传输和力、热、光、电、磁等能量转换的基础性材料,在航空航天、新能源汽车、电力线路等领域具有重要应用价值。随着大功率器件的发展,对轻量化、大载流、高导电性材料的需求越来越迫切。单根单壁碳纳米管(SWCNT)拥有极高的载流能力和电导率,载流能力比传统金属铜高出2~3个数量级,电导率更是银的1000倍以上。然而,当SWCNT组装成宏观薄膜的时候,由于碳管间电子/声子散射的影响,载流能力和电导率会显著降低,从而制约SWCNT薄膜在大功率器件领域的应用。 针对上述问题,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员康黎星等提出并研制了新型大载流、高导电碳纳米管复合薄膜材料。研究团队采用化学气相输运法将CuI均匀高效地填充到SWCNT管腔中,制备出CuI@SWCNT一维同轴异质结。SWCNT对CuI具有保护作用,保持了CuI的电化学活性,使其能够在恶劣的酸性环境和长期电化学循环下保持稳定性。研究通过电学测量发现,CuI@SWCNT薄膜相较于SWCNT薄膜具有更优的电导率和更强的载流能力,其载流能力提升4倍,达到2.04×107 A/cm2,电导率提升8倍,达31.67 kS/m。  SWCNT填充CuI后,SWCNT中电子流向CuI,导致SWCNT的费米能级降低;同时,CuI@SWCNT一维范德华异质结中SWCNT的结构未被破坏,载流子依然保持高效的传递速率,进而使得CuI@SWCNT薄膜具有更高的导电性和载流能力。CuI@SWCNT复合薄膜在未来高功率电子器件、大电流传输等应用中具有潜力。 相关研究成果以CuI Encapsulated within Single-Walled Carbon Nanotube Networks with High Current Carrying Capacity and Excellent Conductivity为题,发表在《先进功能材料》(Advanced Functional Materials)上。研究工作得到国家重点研发计划和国家自然科学基金等的支持。
  • 高性能碳纳米管透明导电薄膜研究取得进展
    p style="text-indent: 2em "透明导电薄膜是触控屏、平板显示器、光伏电池、有机发光二极管等电子和光电子器件的重要组成部件。氧化铟锡(ITO)是当前应用最为广泛的透明导电薄膜材料,但ITO不具有柔性且铟资源稀缺,难以满足柔性电子器件等的发展需求。单壁碳纳米管(SWCNT)相互搭接形成的二维网络结构具有柔韧、透明、导电等特点,是构建柔性透明导电薄膜的理想材料。但已报道SWCNT薄膜的透明导电性能仍与ITO材料有较大差距。/pp style="text-indent: 2em "因此,进一步提高SWCNT薄膜的透明导电特性是实现其器件应用的关键。分析表明,SWCNT透明导电薄膜中的管间接触电阻和管束聚集效应是制约其性能提高的主要瓶颈。一方面,由于SWCNT之间的接触面积小且存在肖特基势垒,载流子在搭接处的隧穿效应较弱,使得管间接触电阻远高于SWCNT的自身电阻;另一方面,虽然SWCNT的直径一般仅为1-2nm,但由于范德华力的作用其通常聚集成直径几十、上百纳米的管束以降低表面能;管束内部的SWCNT会吸光而降低薄膜的透光率,但对薄膜的电导几乎没有贡献。因此,研制高性能SWCNT柔性透明导电薄膜的关键是获得单根分散、低接触电阻的SWCNT网络结构。/pp style="text-indent: 2em "最近,中国科学院金属研究所与上海科技大学物质学院联合培养的博士研究生蒋松在金属所先进炭材料研究部的导师指导下与合作者采用浮动催化剂化学气相沉积法制备出具有“碳焊”结构、单根分散的SWCNT透明导电薄膜(图1A)。 /pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="text-align: center text-indent: 0em "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201805/insimg/d1a3d102-e0c5-4683-b29e-cc493258961c.jpg" title="1 高性能碳纳米管透明导电薄膜研究取得进展 仪器信息网.jpg"/ /span/pp style="text-align: center text-indent: 2em "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "图1. 单根分散、具有碳焊结构的SWCNT网络。/span/pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "(A)典型TEM照片;(B)单根SWCNT的百分含量统计;/span/pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "(C-D)无碳焊结构的金属性-半导体性SWCNT的I-V传输特性;/span/pp style="text-indent: 2em text-align: center "span style="color: rgb(127, 127, 127) font-size: 14px "(E-F)有碳焊结构的金属性-半导体性SWCNT的I-V传输特性。/span/pp style="text-indent: 2em "通过控制SWCNT的形核浓度,所得薄膜中约85%的碳管以单根形式存在(图1B),其余主要为由2-3根SWCNT构成的小管束。进而,通过调控反应区内的碳源浓度,在SWCNT网络的交叉节点处形成了“碳焊”结构(图1A)。/pp style="text-indent: 2em "研究表明该碳焊结构可使金属性-半导体性SWCNT间的肖特基接触转变为近欧姆接触(图1C-F),从而显著降低管间接触电阻。由于具有以上独特的结构特征,所得SWCNT薄膜在90%透光率下的方块电阻仅为41Ω □-1;经硝酸掺杂处理后,其方块电阻进一步降低至25Ω □-1,比已报道碳纳米管透明导电薄膜的性能提高2倍以上,并优于柔性基底上的ITO(图2A-B)。利用这种高性能SWCNT透明导电薄膜构建了柔性有机发光二极管(OLED)原型器件,其电流效率达到已报道SWCNT OLED器件最高值的7.5 倍(图2C-D),并具有优异的柔性和稳定性。/pp style="text-align: center text-indent: 2em "img src="http://img1.17img.cn/17img/images/201805/insimg/31a1c88d-964d-4fda-af47-d5b192bb42f2.jpg" title="2高性能碳纳米管透明导电薄膜研究取得进展 仪器信息网.jpg"//pp style="text-align: center text-indent: 2em "span style="font-size: 14px color: rgb(127, 127, 127) "图2. SWCNT 柔性透明导电薄膜和SWNCT 有机发光二极管。/span/pp style="text-indent: 2em "span style="font-size: 14px color: rgb(127, 127, 127) "(A-B)SWCNT 柔性透明导电薄膜的光学照片及其透明导电性能对比;(C-D)SWCNT 有机发光二极管原型器件的光学照片及其光电性能对比。/span/pp style="text-indent: 2em "该研究从SWCNT网络结构的设计与调控出发,有效解决了限制其透明导电性能提高的关键问题,获得了具有优异柔性和透明导电特性的SWCNT薄膜,可望推动SWCNT在柔性电子及光电子器件中的实际应用。主要研究结果于5月4日在Science Advances在线发表(Sci. Adv. 4, eaap9264 (2018),DOI: 10.1126/sciadv.aap9264)。该研究工作得到了科技部、基金委、中科院等部署的相关项目的支持。/p
  • 纳米薄膜材料制备技术新进展!——牛津大学也在用的薄膜沉积系统,有什么独特之处?
    一、纳米颗粒膜制备日前,由英国著名的薄膜沉积设备制造商Moorfield Nanotechnology公司生产的套纳米颗粒与磁控溅射综合系统在奥地利的莱奥本矿业大学Christian Mitterer教授课题组安装并交付使用。该设备由MiniLab125型磁控溅射系统与纳米颗粒溅射源共同组成,可以同时满足用户对普通薄膜和纳米颗粒膜制备的需求。集成了纳米颗粒源的MiniLab125磁控溅射系统 传统薄膜材料的研究专注于制备表面平整、质地致密、晶格缺陷少的薄膜,很多时候更是需要制备沿衬底外延生长的薄膜。然而随着研究的深入,不同的应用方向对薄膜的需求是截然不同。在表面催化、过滤等研究方向,需要超大比表面积的纳米薄膜。在这种情况下,纳米颗粒膜具有不可比拟的优势。而传统的磁控溅射在制备纯颗粒膜方面对于粒径尺寸,颗粒均匀性方面无法实现控制。气相沉积法、电弧放电法、水热合成法等在适用性、操作便捷性、与传统样品处理的兼容性等方面不友好。在此情况下,Moorfield Nanotechnology推出了与传统磁控溅射和真空设备兼容的纳米颗粒制备系统。不同条件制备的颗粒粒径分布(厂家测试数据)不同颗粒密度样品(厂家测试数据)纳米颗粒制备技术特点:▪ 纳米颗粒的大小1 nm-20 nm可调;▪ 多可达3重金属,可共沉积,可制备纯/合金颗粒;▪ 材料范围广泛,包括Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti、Zr等▪ 拥有通过控制气氛制造复合纳米粒子的可能性(类似于反应溅射)▪ 的纳米颗粒层厚度控制,从亚单层到三维纳米孔▪ 纳米颗粒结构——结晶或非晶、形状可控纳米颗粒膜的应用方向:▪ 生命科学和纳米医学: 癌症治疗、药物传输、抗菌、抗病毒、生物膜▪ 石墨烯研究方向:电子器件、能源、复合材料、传感器▪ 光电研究:光伏研究、光子俘获、表面增强拉曼▪ 催化:燃料电池、光催化、电化学、水/空气净化▪ 传感器:生物传感器、光学传感器、电学传感器、电化学传感器 二、无机无铅光伏材料下一代太阳能电池的大部分研究都与铅-卤化物钙钛矿混合材料有关。然而,人们正不断努力寻找具有类似或更好特性的替代化合物,想要消除铅对环境的影响,而迄今为止,这种化合物一直难以获得。因此寻找具有适当带隙范围的无铅材料是很重要的,如果将它们结合起来,就可以利用太阳光谱的不同波长进行发电。这将是提高未来太阳能电池效率降低成本的关键。近期,牛津大学的光电与光伏器件研究组的Henry Snaith教授与Benjamin Putland博士研究了具有A2BB’X6双钙钛矿结构的新型无机无铅光伏材料。经过计算该材料具有2 eV的带隙,可用做光伏电池的层吸光材料与传统Si基光伏材料很好的结合,使光电转换效率达到30%。与有机钙钛矿材料相比,无机钙钛矿材料具有结构稳定使用寿命更长的优势。而这种新材料的制备存在一个问题,由于前驱体组分的不溶性和复杂的结晶过程容易导致非目标性的晶体生长,因此难以通过传统的水溶液法制备均匀的薄膜。Benjamin Putland博士采用真空蒸发使这些问题得以解决。使用Moorfield Nanotechnology的高质量金属\有机物热蒸发系统,通过真空蒸发三种不同的前驱体,研究人员成功沉积制备出了所需要的薄膜。真空蒸发具有较高的控制水平和可扩展性,使得材料的工业化制备成为可能。所制备的薄膜在150℃退火后,XRD图。所制备的薄膜在150℃退火后,表面SEM图 三、Moorfield 薄膜制备与加工系统简介Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立二十多年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。高精度薄膜制备与加工系统 – MiniLab旗舰系列和nanoPVD台式系列是英国Moorfield Nanotechnology公司经过多年技术积累与改进的结晶。产品的定位是配置灵活、模块化设计的PVD系统,可用于高质量的科学研究和中试生产。设备的功能和特点:▪ 蒸发设备:热蒸发(金属)、低温热蒸发(有机物)、电子束蒸发▪ 磁控溅射:直流&射频溅射、共溅射、反应溅射▪ 兼容性:可与手套箱集成、满足特殊样品制备▪ 其他功能设备:二维材料软刻蚀、样品热处理▪ 设备的控制:触屏编程式全自动控制

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  • 【求助】求购测量纳米薄膜的衍射仪

    我们准备搞纳米薄膜测量(单层、多层和混合层),想了解它的厚度和物质组成等,据说需要掠入射光的表面衍射,不知国内XRD经销商的产品是否成熟?以及这种技术的发展是否成熟,有何利弊?肯请各位高手给与指点,谢谢!

  • 【网络讲座】:3月30日 薄膜材料的纳米力学行为表征

    【网络讲座】:3月30日 薄膜材料的纳米力学行为表征

    【专家讲座】:薄膜材料的纳米力学行为表征【讲座时间】:2016年03月30日 14:00【主讲人】:宋双喜 毕业于上海交通大学材料学,2005年进入田纳西大学诺克斯维尔分校深造,2009年获得材料学博士并进入Hysitron公司担任Application Scientist,2013年受聘上海交通大学特别副研究员,2014年获得上海市浦江人才计划。研究领域包括材料力学行为,金属玻璃等,以第一作者发表SCI论文10篇,总引用400多次。【会议简介】纳米压痕技术的诞生与薄膜材料的发展密不可分。上世纪80年代,随着薄膜技术的不断发展以及在半导体领域的广泛应用,厚度在微米级甚至纳米级的薄膜有着大量的市场需求,而这些薄膜的微观力学行为表征备受关注。传统的力学性能测试方法已无法满足微米、纳米尺度薄膜材料的表征,因此纳米压痕技术的出现弥补了这一领域的空白,之后的二十多年有关纳米压痕理论及利用纳米压痕来进行纳米力学行为表征的相关研究呈指数增长,相关技术也相继应用于各种新兴工业领域。而不断出现的纳米力学表征新技术,与人类不断推进探究材料微观性能的极限,两者相辅相成,成为当今科研前沿领域的一种新模式。本次Hysitron公司举办的网络研讨会主要针对薄膜材料领域介绍相关的纳米力学行为表征方法如薄膜材料的基底效应、残余应力、硬度与弹性模量表征、含时塑性表征、粘附力表征及其他先进纳米力学行为表征及其主要应用范例。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件:只要您是仪器网注册用户均可报名参加。2、报名截止时间:2016年03月30日 13:304、报名参会:http://www.instrument.com.cn/webinar/Meeting/meetingInsidePage/18895、报名及参会咨询:QQ群—171692483http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191701_668519_2507958_3.jpg

纳米薄膜量仪相关的耗材

  • 铌酸锂单晶薄膜 钽酸锂单晶薄膜 300-900纳米,5-50微米
    300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂(可选)掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层(可选)材料铂金,金,铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂(可选)掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层(可选)材料铂金,金,铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√铌酸锂单晶薄膜、钽酸锂单晶薄膜300-900纳米,5-50微米
  • 薄膜溶解测量仪配件
    薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量(n, k)的变化,是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量,孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品,使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部,距离玻璃窗口非常接近,使用白光反射光谱技术(WLRS),实时测量薄膜厚度和折射率,并通过专业软件记录下这些数据。另外,根据需要,我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer,提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具,以固定小尺寸的硅样品或3' ' ,4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同,如溶解速度的不同,它能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程,而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量,薄膜溶解测厚仪需要光滑,具有反射性的衬底,对于光学常数测量,平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的,衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数:例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量,已经成功应用于测量反射衬底(Si晶圆)上各种光滑,透明或轻度吸收薄膜的溶解过程,可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜,聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚: 5nm-150微米;波长范围:200-1100nm 精度:0.5% 分辨率:0.02nm 测量点光斑大小:0.5mm可测样品大小:10-100mm计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:360x400x180mm重量:15kg 电力要求:110/230VAC薄膜溶解测量仪应用:聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量,传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量能够以实时或离线的方式测量,反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。
  • 显微薄膜测量仪配件
    显微薄膜测量仪配件是一款超级紧凑而功能多样的薄膜测试仪系统,可以结合显微镜测量薄膜的吸收率,透过率,反射率以及测量点的荧光。薄膜测试仪通过反射率的测量,测量点处的薄膜厚度,薄膜光学常量(n &k)以及thick film stacks都能在瞬间测量出来。整套显微薄膜测量仪的组成是:光栅光谱仪(200-1100nm)+显微镜目镜 适配器+软件+显微镜(可选)。其中目镜适配器包含镜头,可增加光的收集。标准的40X物镜可做到测量点直径约200微米。更高倍数的物镜的测量点更小。整套薄膜测量仪和薄膜测试仪到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。 安装到显微镜上的薄膜测量仪照片 薄膜测试仪SiO2薄膜测量结果(20X物镜)薄膜厚度测试仪配件软件这款薄膜测试仪配备专业的仪器控制,光谱测量和薄膜测量功能的软件,具有广阔的应用范围。该薄膜厚度测试仪软件能够实时采集吸收率,透过率,反射率和荧光光谱,并且能够能够快速计算出结果。对于吸收率/透过率模式的配置,所有的典型参数如 A, T可快速计算出来。其他的非标准参数,如signal integration也能测量出来。对于反射率测量,该薄膜厚度测试仪软件能够精确测量膜层小于10层薄膜厚度(《10nm到100微米), 光学常量(n & k)。薄膜厚度测试仪配件参数 可测膜厚: 10nm-150微米;波长范围:200-1100nm精度:0.5%分辨率:0.02nm光源:使用显微镜光源光斑大小:由显微镜物镜决定计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:120x120x120mm重量:1.2kg薄膜厚度测试仪配件应用测量薄膜吸收率,透过率测量化学薄膜和生物薄膜测量光电子薄膜结构测量半导体制造聚合物测量在线测量光学镀膜测量
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