纳米薄膜量仪

纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比，样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点：1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法，通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化，为简便的衡量厚度方向上热导率。（日本：5426115）2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜（1.7mm×15mm×100nm）沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用：1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜，有机薄膜，热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理：当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时，热流的频率将为电流频率的2倍（2f）。如果样品由金属薄膜（0）-样品薄膜（1）-基体（s）组成（如图），可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体，则T(0)可由下式计算：（λ/Wm-1K-1，C/JK-1m-3，q/Wm-3，d/m，ω（=2πf）/s-1）式中实部（同相振幅）包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体，则同相振幅正比于(2 ω)0.5，薄膜的热导率（λ1）可由下式给出：（m：斜率，n：截距）纳米薄膜热导率测试系统参数：1. 测试温度：室温2. 样品尺寸：长10～20mm，宽10mm 厚0.3～1mm（含基体）3. 基体材料：Si（推荐） Ge，Al2O3（高热导率）4. 样品制备：样品薄膜上需沉积金属薄膜（100nm） （推荐：金）5. 薄膜热导率测量范围：0.1～10W/mK6. 测试氛围：大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据：Si基底上的SiO2薄膜（20-100nm）测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013)

中图仪器NS系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度是一款超精密接触式微观轮廓测量仪，其采用LVDC电容传感器，主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量，具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点。NS系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。测量过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。典型应用NS系列纳米台阶测厚仪高精度测量薄膜厚度集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。仪器结构单拱龙门式设计，结构稳定性好，而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响，提高了测量精度。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术指标型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

纳米薄膜热导率测试系统-TCN-2ω— 薄膜材料的热导率评价将变得为简便日本Advance Riko公司推出的纳米薄膜热导率测试系统是使用2ω方法测量纳米薄膜厚度方向热导率的商用系统。与其他方法相比，样品制备和测量为简单。纳米薄膜热导率测试系统特点：1. 在纳米尺度衡量薄膜的热导率开发出的监测周期加热过程中热反射带来的金属薄膜表面温度变化的方法，通过厚度方向上的一维热导模型计算出样品表面的温度变化，为简便的衡量厚度方向上热导率。（日本：5426115）2. 样品制备简单不需要光刻技术即可将金属薄膜（1.7mm×15mm×100nm）沉积在薄膜样品上。纳米薄膜热导率测试系统应用：1. 热设计用薄膜热导率评价的优先选择。low-k薄膜，有机薄膜，热电材料薄膜2. 可用于评价热电转换薄膜纳米薄膜热导率测试系统测量原理：当使用频率为f的电流周期加热金属薄膜时，热流的频率将为电流频率的2倍（2f）。如果样品由金属薄膜（0）-样品薄膜（1）-基体（s）组成（如图），可由一维热导模型计算出金属薄膜上表面的温度变化T(0)。假设热量全部传导到基体，则T(0)可由下式计算：（λ/Wm-1K-1，C/JK-1m-3，q/Wm-3，d/m，ω（=2πf）/s-1）式中实部（同相振幅）包含样品薄膜的信息。如热量全部传导到基体，则同相振幅正比于(2 ω)0.5，薄膜的热导率（λ1）可由下式给出：（m：斜率，n：截距）纳米薄膜热导率测试系统参数：1. 测试温度：室温2. 样品尺寸：长10～20mm，宽10mm 厚0.3～1mm（含基体）3. 基体材料：Si（推荐） Ge，Al2O3（高热导率）4. 样品制备：样品薄膜上需沉积金属薄膜（100nm） （推荐：金）5. 薄膜热导率测量范围：0.1～10W/mK6. 测试氛围：大气设备概念图样品准备纳米薄膜热导率测试系统测试数据：Si基底上的SiO2薄膜（20-100nm）测量结果d1 / nm 19.9 51.0 96.8 λ1/ W m-1 K-1 0.82 1.03 1.20 发表文章1. K. Mitarai et al. / J. Appl. Phys. 128, 015102 (2020) 2. M. Yoshiizumi et al. / Trans. Mat. Res. Soc. Japan 38[4] 555-559 (2013

C11295 多点纳米膜厚测量仪 C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学，用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度，以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量，也可以在膜厚测量中同时测量反射率（透射率）、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！ 特性多达15点同时测量无参照物工作通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量提醒及警报功能(通过或失败)反射(透射)和光谱测量高速、高准确度实时测量不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11295-XX*1可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 100 μm*2测量可重复性（玻璃）0.02 nm*3 *4测量准确度（玻璃）±0.4 %*4 *5光源氙灯测量波长320 nm to 1000 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*4工作距离10 mm*4可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析测量时间19 ms/点*7光纤接口形状SMA测量点数2~15外部控制功能Ethernet接口USB 2.0（主单元与电脑接口）RS-232C（光源与电脑接口）电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗约330W（2通道）~450W（15通道）*1：-XX，表示测点数*2：以 SiO2折射率1.5来转换*3：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*4：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*5：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*6：卤素灯型为C11295-XXH*7：连续数据采集时间不包括分析时间

C12562 纳米膜厚测量仪系列C12562型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。光学膜厚测量仪系列可以测量薄至10nm的薄膜，而可测范围达到10nm到1100μm，因此可用来测量多种目标。此外，该测量仪可达到100Hz的高速测量，因此可进行快速移动的产品线进行测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性可测量10nm薄膜缩短测量周期（频率高达100Hz）增强型外部触发（适合高速测量）涵盖宽波长范围（400 nm到1100 nm）软件增加了简化测量功能可进行双面分析不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C12562-02可测膜厚范围（玻璃）10 nm to 100 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间3 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C, Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗80W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

C11627-01 纳米膜厚测量仪系列 C11627-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。因其将光源、分光光度计和数据分析单元集成为一个单元，所以其配置紧凑，仅由一个主单元和光纤组成。此仪器设计紧凑，节省空间，适合安装进用户的系统中，可进行多种目标的测量。此外，该仪器为无参照物测量，因此省略了烦人的参照物测量，可长时间稳定地进行高速、高准确度测量。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性无参照物工作尺寸紧凑，节省空间高速、高准确度不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制参数型号C11627-01可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.02 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源LED测量波长420 nm to 720 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状FC外部控制功能RS-232C,Ethernet电源AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗70W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

C10178-01 纳米膜厚测量仪系列 C10178-01型光学膜厚测量仪是一款利用光谱相干度量学工作的非接触型膜厚测量系统。通过光谱相干，可快速、高灵敏度、高准确度地测量膜厚。由于使用我公司的光子多通道分析仪（PMA）为探测器，在测量多种滤光片、镀膜等的膜厚的同时，还可以测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等多种项目。欢迎您登陆滨松中国全新中文网站 查看该产品更多详细信息！特性高速、高准确度实时测量映射功能不整平薄膜精确测量分析光学常数（n,k）可外部控制与特定附件配合，可测量量子收益、反射率、透射率以及吸收系数等。参数型号C10178-01测量模型标准型（通用测量）可测膜厚范围（玻璃）20 nm to 50 μm*1测量可重复性（玻璃）0.01 nm*2 *3测量准确度（玻璃）±0.4 %*3 *4光源卤素灯测量波长400 nm to 1100 nm光斑尺寸Approx. φ1 mm*3工作距离10 mm*3可测层数最多10层分析FFT 分析，拟合分析，光学常数分析测量时间19 ms/点*5光纤接口形状φ12套筒型外部控制功能RS-232C, 通过PIPE或Ethernet进行内部软件数据传输接口USB2.0电源AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz功耗250W*1：以 SiO2折射率1.5来转换*2：测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差*3：取决于所使用的光学系统或物镜的放大率*4：可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中*5：连续数据采集时间不包括分析时间

FT-100 薄膜厚度测量仪薄膜厚度测量范围 （Thickness Range）: 1 nm - 1.8 mm波长范围 （Wavelength Range）: 200 nm - 1700 nm精度 （Precision）: 0.01 nm or 0.01%稳定性 (Stability): 0.02 nm or 0.03%光斑大小 （Spot Size）: Depends on objective (4 um to 200 um. 2mm） 功能： 测量薄膜厚度、光学常数，反射率和透过率单层膜或多层膜叠加层； 适用于几乎所有透明，半透明，低吸收系数的薄膜测量，包括液态膜或空气层。测试条件： 平面或曲面可配XY平台实现全样品膜厚 mapping 可集成于以上测试平台 （ 三维轮廓仪，微纳米压痕/划痕仪，摩擦磨损仪等）

中图仪器SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪利用光学干涉原理，具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量；5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出； 10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪结合精密Z向扫描模块、3D 建模算法等对器件表面进行非接触式扫描并建立表面3D图像，通过系统软件对器件表面3D图像进行数据处理与分析，并获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量。 SuperViewW光学纳米级光学表面粗糙度测量仪可广泛应用于半导体制造及封装工艺检测、3C电子玻璃屏及其精密配件、光学加工、微纳材料及制造、汽车零部件、MEMS器件等超精密加工行业及航空航天、科研院所等领域中。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等。结果组成1、三维表面结构：粗糙度，波纹度，表面结构，缺陷分析，晶粒分析等；2、二维图像分析：距离，半径，斜坡，格子图，轮廓线等；3、表界面测量：透明表面形貌，薄膜厚度，透明薄膜下的表面；4、薄膜和厚膜的台阶高度测量；5、划痕形貌，摩擦磨损深度、宽度和体积定量测量；6、微电子表面分析和MEMS表征。主要应用领域1、用于太阳能电池测量；2、用于半导体晶圆测量；3、用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量； 4、用于机械部件的计量；5、用于塑料，金属和其他复合型材料工件的测量。应用领域案例部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配：10×选配：2.5× 5× 20× 50× 100×光学ZOOM标配：0.5×选配：0.375× 0.75× 1×物镜塔台标配：3孔手动选配：5孔电动XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动Z向扫描范围10 ㎜主机尺寸（长×宽×高）700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

Filmetrics-F40薄膜厚度测量仪 结合显微镜的薄膜测量系统Filmetrics的精密光谱测量系统让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。 当测量需要在待测样品表面的某些微小限定区域进行，或者其他应用要求光斑小至1微米时，F40是你的好选择。使用先前足部校正显微镜的物镜，再进行测量，即可获得精准的厚度及光学参数值。只要透过Filmetrics的C-mount连接附件，F40就可以和市面上多数的显微镜连接使用。C-mount上装备有CCD摄像头，可以让用户从电脑屏幕上清晰地看样品和测量位置。* 取决于材料1.使用5X物镜参考2.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2 薄膜样品连续测量100次所得厚度值的标准偏差的平均值3.是基于连续20天，每天在Si基底上对厚度为500纳米的SiO2薄膜样品连续测量100次所得厚度值的2倍标准偏差的平均值选择Filmetrics的优势桌面式薄膜厚度测量的专家24小时电话，E-mail和在线支持所有系统皆使用直观的标准分析软件附加特性嵌入式在线诊断方式免费离线分析软件精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果相关应用半导体制造 生物医学原件&bull 光刻胶 &bull 聚合物/聚对二甲苯&bull 氧化物/氮化物 &bull 生物膜/球囊壁厚度&bull 硅或其他半导体膜层 &bull 植入药物涂层微电子 液晶显示器&bull 光刻胶 &bull 盒厚&bull 硅膜 &bull 聚酰亚胺&bull 氮化铝/氧化锌薄膜滤镜 &bull 导电透明膜

中图仪器NS系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪用于测量台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数，是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。它采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。NS系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。工作原理测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能 1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能NS系列微米到纳米尺度表面形貌接触式台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。 性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB 空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

SuperViewW中图高精度纳米量级白光干涉测量仪以白光干涉技术原理，对各种精密器件表面进行纳米级测量。它通过测量干涉条纹的变化来测量表面三维形貌，专用于精密零部件之重点部位表面粗糙度、微小形貌轮廓及尺寸的非接触式快速测量。SuperViewW中图高精度纳米量级白光干涉测量仪可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面，从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率等参数，针对完成样品超光滑凹面弧形扫描所需同时满足的高精度、大扫描范围的需求，SuperView W1的复合型EPSI重建算法，解决了传统相移法PSI扫描范围小、垂直法VSI精度低的双重缺点。在自动拼接模块下，只需要确定起点和终点，即可自动扫描，重建其超光滑的表面区域，不见一丝重叠缝隙。产品功能1)样件测量能力：单一扫描模式即可满足从超光滑到粗糙、镜面到全透明或黑色材质等所有类型样件表面的测量；2)单区域自动测量：单片平面样品或批量样品切换测量点位时，可一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；3)多区域自动测量：可设置方形或圆形的阵列形式的多区域测量点位，一键实现自动条纹搜索、扫描等功能；4)自动拼接测量；支持方形、圆形、环形和螺旋形式的自动拼接测量功能，配合影像导航功能，可自定义测量区域，支持数千张图像的无缝拼接测量； 5)编程测量功能：支持测量和分析同界面操作的软件模块，可预先配置数据处理和分析步骤，结合自动单测量功能，实现一键测量；6)数据处理功能：提供位置调整、去噪、滤波、提取四大模块的数据处理功能；7)数据分析功能：提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能。8)批量分析功能：可根据需求参数定制数据处理和分析模板，针对同类型参数实现一键批量分析；9)数据报表导出：支持word、excel、pdf格式的数据报表导出功能，支持图像、数值结果的导出；10)故障排查功能：配置诊断模块，可保存扫描过程中的干涉条纹图像；11)便捷操作功能：设备配备操纵杆，支持操纵杆进行所有位置轴的操作及速度调节、光源亮度调节、急停等；12)环境噪声评价：具备0.1nm分辨率的环境噪声评价功能，定量检测出仪器受到外界环境干扰的噪声振幅和频率，为设备调试和故障排查提供定量依据；13)气浮隔振功能：采用气浮式隔振底座，可有效隔离地面传导的振动噪声，确保测量数据的高精度；14)光源安全功能：光源设置无人值守下的自动熄灯功能，当检测到鼠标轨迹长时间未变动后会自主降低熄灭光源，防止光源高亮过热损坏，并有效延长光源使用寿命；15)镜头安全功能：双重防撞保护，软件ZSTOP防撞保护，设置后即以当前位置为位移下限位，不再下移且伴有报警声；设备配备压力传感器，并在镜头处进行了弹簧结构设计，确保当镜头碰撞后弹性回缩，进入急停状态，大幅减小碰撞冲击力，有效保护镜头和扫描轴，消除人为操作的安全风险。应用领域SuperViewW中图高精度纳米量级白光干涉测量仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。特殊光源模式可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式手动和电动兼容型Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×600×900㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 应用领域：可测量基片上金属、陶瓷、聚合物薄膜的热物性参数，如热扩散系数、热导率、吸热系数和界面热阻。 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 产品特点：- 精确的纳米级薄膜导热测量方法- 可提供RF测量模式（后加热-前检测）和FF测量模式（前加热-前检测）- Pico TR遵循国际校准标准 耐驰 PicoTR 热反射法薄膜导热系数测量仪 技术参数：Pico TR温度范围RT，RT … 500°C（选配）测量模式RF/FF样品尺寸10×10 … 20×20mm薄膜厚度10 … 900nm（取决于样品种类和测量模式）热扩散系数0.01 … 1000mm2/s主激光脉冲宽度 0.5ps光束直径 45μm激光功率 20mW详细参数，敬请垂询 *价格范围仅供参考，实际价格与配置、汇率等若干因素有关。如有需要，请向当地销售咨询。我们讲竭尽全力为您制定完善的解决方案。

中图仪器NS系列国产薄膜台阶高度测量仪采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能 NS系列国产薄膜台阶高度测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。NS系列国产薄膜台阶高度测量仪是一种常用的膜厚测量仪器，它是利用光学干涉原理，通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度，具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度，包括金属、陶瓷、塑料等。如针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器 1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。NS系列台阶仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。典型应用部分技术指标型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术样品观察光学导航摄像头:500万像素高分辨率 彩色摄像机,FoV,2200*1700μm探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）台阶高度重复性5 &angst , 量程为330μm时/ 10 &angst , 量程为1mm时（测量1μm台阶高度，1δ）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

KLA NanoFlip原位纳米压痕力学测试模块 NanoFlip纳米压痕仪可以提供您的材料研究实验室带来无限的便捷。 高性能多功能性是NanoFlip设计的标志，当需要进行成像集成，需要进行频繁的转换和广泛的样本控制时，无论是环境测量还是原位测试，无论有无真空，都能提供同样出色的结果。Fib2Test技术允许用户将样品倾斜90度，以便在双光束SEM内从FIB无缝过渡到压痕测试，而无需移除样品。设计为完全真空兼容，并且具有独特的样品触发功能，NanoFlip非常适用于现场环境，如SEM，FIB和真空室，或者当您的实验带您迁移时，可以在任何情况下工作 可以想象的成像系统，如AFM，光学显微镜和光学Pro测量仪，为您提供几乎无限的成像选项。电磁执行器用于KLA生产的所有系统，包括NanoFlip。 这些执行器是坚固的线性装置，固有地解耦力和位移。 它们的最大力为50 mN，分辨率为3 nN，超低噪声电流小于200 nN。NanoFlip的时间常数为20微秒，是唯一同时符合规格的商用纳米压痕仪，最大压痕行程为50μm，噪声0.1nm，数字分辨率为0.004 nm，漂移率为 0.05nm/s。为了确保业内最广泛，最可靠的数据，NanoFlip能够实现0.1 Hz至1 kHz的动态激励频率。样品台移动，Z轴为25 mm，X为20 mm，Y轴为20 mm，分辨率为nm，可在大面积上精确定位样品。载荷框架刚度 7 e5N/m独特的尖端校准系统集成到软件中，可实现快速，准确和自动的尖端校准。可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和标准可用刮擦选项，最大正常载荷为50 mN，最大刮擦距离为2.5 mm，最大刮擦速度为500μm/ s。可选的NanoBlitz地形和层析成像软件，用于材料的3D和4D映射。

中图仪器SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以白光干涉技术为原理，获取反映器件表面质量的2D、3D参数，从而实现器件表面形貌3D测量的光学检测仪器。集合了相移法PSI的高精度和垂直法VSI的大范围两大优点，适用于从超光滑到粗糙、平面到弧面等各种表面类型，让3D测量变得简单。SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪以3D非接触方式，测量分析样品表面形貌的关键参数和尺寸，典型结果包括：表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，台阶高度，锥角等等）；几何特征（关键孔径尺寸，曲率半径，特征区域的面积和体积，特征图形的位置和数量等等）。产品功能(1)SuperViewW1白光干涉微纳米三维形貌一键测量仪设备提供表征微观形貌的粗糙度和台阶高、角度等轮廓尺寸测量功能；(2)测量中提供自动对焦、自动找条纹、自动调亮度等自动化辅助功能；(3)测量中提供自动拼接测量、定位自动多区域测量功能；(4)分析中提供校平、图像修描、去噪和滤波、区域提取等四大模块的数据处理功能； (5)分析中提供粗糙度分析、几何轮廓分析、结构分析、频率分析、功能分析等五大分析功能；(6)分析中同时提供一键分析和多文件分析等辅助分析功能。产品特点参数测量：粗糙度、微观轮廓尺寸、角度、面积、体积，一网打尽；环境噪声检测：实时监测，纳米波动，也无可藏匿；双重防撞保护：软件ZSTOP和Z向硬件传感器，让“以卵击石"也能安然无恙；自动拼接：3轴光栅闭环反馈，让3D拼接“天衣无缝"；双重振动隔离：气浮隔振，吸音隔振，任你“地动山摇，我自岿然不动"。应用领域对各种产品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。应用范例： SuperViewW1白光干涉仪具有测量精度高、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广的优点，测量单个精细器件的过程用时短，确保了高款率检测。白光干涉仪的特殊光源模式，可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精细器件表面的测量。部分技术指标型号W1光源白光LED影像系统1024×1024干涉物镜标配:10×选配:2.5×、5×、20×、50×、100×光学ZOOM标配:0.5×选配:0.375×、0.75×、1×标准视场0.98×0.98㎜（10×物镜，光学ZOOM 0.5×）XY位移平台尺寸320×200㎜移动范围140×100㎜负载10kg控制方式电动Z轴聚焦行程100㎜控制方式电动台阶测量可测样品反射率0.05%~100主机尺寸700×606×920㎜恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

Nano IndenterG200XNano Indenter G200X系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。 该系统是一个完全可升级，可扩展且经过生产验证的平台，全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。 参数：压头类型：berkovich压头最大摩擦力：250mN位移分辨率：0.01nm可实现位移范围：+/750um有效载荷分辨率：3nN最大压痕深度：500um有效加载载荷范围：10N 产品描述Nano Indenter G200X系统是一种准确，灵活，使用方便的纳米级机械测试仪器。 G200X测量杨氏模量和硬度，包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。 该系统还可以测量聚合物，凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应（应变率灵敏度）。 模块化选项可适用于各种应用：频率特定测试，定量刮擦和磨损测试，集成的基于探头的成像，高温纳米压痕测试，扩展负载容量高达10N和自定义测试。主要功能 电磁驱动可实现高动态范围下力和位移测量 用于成像划痕，高温纳米压痕测量和动态测试的模块化选项 直观的界面，用于快速测试设置 只需几个鼠标点击即可更改测试参数 实时实验控制，简便的测试协议开发和精确的热漂移补偿 屡获殊荣的高速“快速测试”选项，用于测量硬度和模量 多功能成像功能，测量扫描和流程化测试方法，帮助快速得到结果 简单快捷地确定压头面积函数和载荷框架刚度主要应用 高速硬度和模量测量 界面附着力测量 断裂韧性测量 粘弹性测量 扫描探针显微镜（3D成像） 耐磨损和耐刮擦 高温纳米压痕工业应用 大学，研究实验室和研究所 半导体和电子工业制造业 轮胎行业 涂层和涂料工业 生物医药行业 医疗仪器 更多应用：请根据您的要求与我们联系 高速硬度和模量测量材料的机械特性表征在新材料的研究与开发中具有重要意义。 Nano Indenter G200能够以每秒一个数据点的速率测量硬度和模量。 对机械性能的高速评估使半导体和薄膜材料制造商能够将技术应用于生产线上的质量控制与保证。界面粘附力测量通常通过沉积能够存储弹性能量的高压缩层来诱导薄膜分层。 界面粘附力测量对于帮助用户理解薄膜的失效模式是至关重要的。Nano Indenter G200X系统可以触发界面断裂并测量多层薄膜的粘附性和残余应力性质。断裂韧性断裂韧性是在平面应变条件下发生灾难性破坏的应力 - 强度因子的临界值。 较低的断裂韧性值表明存在预先存在的缺陷。 通过使用刚度映射法容易地通过纳米压痕评估断裂韧性。 （刚度映射需要连续刚度测量和NanoVision选项）粘弹特性聚合物是非常复杂的材料 它们的机械性能取决于化学，加工和热机械历史。 具体来讲，机械性能取决于材料分子母链的类型和长度，支化，交联，应变，温度和频率，并且这些依赖性通常是相互关联的。 为了采用聚合物进行研究时获得有用的信息进行决策，应在相关背景下对相关样品进行机械性能测量。 纳米压痕测试使得这种特定的测量更容易完成，对样品制备要求不高，可以很小且少量。 Nano Indenter G200X系统还可用于通过在与材料接触时振荡压头来测量聚合物的复数模量和粘弹性。扫描探针显微镜（3D成像）Nano Indenter G200X系统提供两种扫描探针显微镜方法，用于表征压痕印痕的裂缝长度，以测量设计应用中的断裂韧性。 断裂韧性定义为含有裂缝的缺陷材料抵抗断裂的能力。Nano Indenter G200的压电平台具有高定位精度和NanoVision选项，可提供高达1nm的步长编码器分辨率，最大扫描尺寸为100μm×100μm。 测试扫描软件选项将X / Y运动系统与NanoSuite软件相结合，可提供500μm×500μm的最大扫描尺寸。 NanoVision阶段和测试扫描选项都需要精确定位在样品区域来完成纳米压痕测试和断裂韧性计算。耐磨性和耐刮擦性Nano Indenter G200X系统可以对各种材料进行划痕和磨损测试。 涂层和薄膜将经受许多工艺，测试这些薄膜的强度及其与基板的粘合性，例如化学和机械抛光（CMP）和引线键合。 重要的是这些材料在这些工艺过程中抵抗塑性形变并保持完整，也不会在基板上起泡。 对于介电材料，通常需要高硬度和弹性模量来支持这些制造工艺。高温机械测试高温下的纳米压痕提供了在达到塑性转变之前、之中与之上的精确测量能力，得到材料的纳米力学响应。 了解材料行为，例如形变机制和相变，可以预测材料失效并改善热机械加工过程中的控制。 在主要机械测试方法过程中改变温度是对材料进行纳米尺度测量塑形转变的一种方式。

产品描述iNano采用InForce 50驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试。 InForce 50的50mN力荷载和50μm位移范围使得该系统适合各种测试。 InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。 iNano是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 该系统可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 50驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体和封装行业聚合物和塑料MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆聚合物制造复合材料电池和储能应用硬度和模量测量 (Oliver-Pharr)机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iNano纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iNano的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iNano纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iNano纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iNano纳米压痕仪可轻松测量薄膜、涂层和少量材料。 该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 该仪器的力荷载和位移测量动态范围很大，因而可以实现从软聚合物到金属材料的精确和可重复测试。 模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损以及高温测试。 iNano提供了一整套测试扩展选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D属性映射和远程视频选项。

产品描述iMicro采用InForce 1000驱动器进行纳米压痕和通用纳米机械测试，并可选择添加InForce 50驱动器来测试较软的材料。InView软件是一个灵活的现代软件包，可以轻松进行纳米级测试。iMicro是内置高速InQuest控制器和隔振门架的紧凑平台。 可以测试金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等各种不同的材料和器件。主要功能InForce 1000驱动器，用于电容位移测量，并配有电磁启动的可互换探头可选的InForce 50驱动器提供最 大50mN的法向力来测量软性材料，并提供可选的Gemini 2D力荷载传感器用于双轴动态测量。独特的软件集成探头校准系统，可实现快速准确的探头校准InQuest高速控制器电子设备，具有100kHz数据采集速率和20μs时间常数XY移动系统以及易于安装的磁性样品架高刚度龙门架，集成隔振功能带数字变焦的集成显微镜，可实现精确的压痕定位ISO 14577和标准化测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus报告、InView大学在线培训和InView移动应用程序主要应用硬度和模量测量(Oliver Pharr)高速材料性质分布ISO 14577硬度测试聚合物tan delta，储存和损耗模量定量刮擦和磨损测试样品加热工业应用大学、研究实验室和研究所半导体行业PVD / CVD硬涂层（DLC，TiN）MEMS（微机电系统）/纳米级通用测试陶瓷和玻璃金属和合金制药涂料和油漆复合材料电池和储能汽车和航空航天应用硬度和模量测量（Oliver Pharr）机械表征在薄膜的加工和制造中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量，以及半导体制造前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬涂层的各种材料的硬度和模量。 对这些特性的高速评估保证了在生产线上进行质量控制。高速材料性质分布对于包括复合材料在内的许多材料，其机械性能可能因部位而异。 iMicro的样品平台可以在X轴和Y轴上移动100mm，并在Z轴方向移动25mm，这使得该系统适用于不同的样品高度并可以在很大的样品区域上进行测量。 可选的NanoBlitz形貌和层析成像软件可以快速绘制任何测得的机械属性的彩色分布图。ISO 14577硬度测试iMicro纳米压痕仪包括预先编写的ISO 14577测试方法，可测量符合ISO 14577标准的材料硬度。 该测试方法对杨氏模量、仪器硬度、维氏硬度和标准化压痕进行自动测量和报告。聚合物Tan Delta、储存和损失模量iMicro纳米压痕仪能够针对包括粘弹性聚合物的超软材料测量tan delta和储存与损耗模量。 储存与损耗模量以及tan delta是粘弹性聚合物的重要特性，其能量作为弹性能量存储并作为热量消耗。 这两个指标都用于测量给定材料的能量消耗。定量划痕和磨损测试iMicro可以对各种材料进行刮擦和磨损测试。 涂层和薄膜会经过化学机械抛光（CMP）和引线键合等多道工艺，考验薄膜的强度及其与基板的粘合性。 重要的是这些材料在这些工艺中抵制塑性变形，并且保持原样而不会基板起泡。 理想地，介电材料应具有高硬度和弹性模量，因为这些参数有助于确定材料在制造工艺下会如何反应。高温纳米压痕测试高温下的纳米压痕对于表征热应力下的材料性能至关重要，特别对热机械工艺中的失效机理进行量化。 在机械测试期间改变样品温度不仅能够测量热引起的行为变化，还能够量化在纳米级别上不易测试的材料过渡塑性。产品优势iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬涂层，薄膜和少量材料。该仪器准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度、划痕和通用纳米级测试等多种纳米级机械测试。 可互换的驱动器能够提供大动态范围的力荷载和位移，使研究人员能够对软聚合物到硬质金属和陶瓷等材料做出精确及可重复的测试。模块化选项适用于各种应用：材料性质分布、特定频率测试、刮擦和磨损测试以及高温测试。 iMicro拥有一整套测试扩展的选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D / 4D性质分布，以及Gemini 2D力荷载传感器，可以提供摩擦和其他双轴测量。

FT-NMT04纳米力学测试系统是一种多功能的原位SEM/FIB纳米压痕仪，能够在微米和纳米尺度上准确量化材料的力学行为。 FT-NMT04原位纳米压痕仪针对金属、陶瓷、薄膜以及超材料和MEMS等微观结构的机械测试进行了优化。此外，通过使用各种附件，FT-NMT04的功能可以扩展到各个研究领域的各种要求。 典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。典型应用包括通过微柱的压缩测试或狗骨试样、薄膜或纳米线的拉伸测试来量化塑性变形机制。此外，在压缩测试期间进行连续刚度测量，可以在微梁断裂测试期间量化裂纹扩展和断裂韧性。由于 FT-NMT04 分别具有 500 pN 和 50 pm 的无可比拟的低本底噪声，因此可实现具有无可比拟的可重复性的浅纳米压痕，以及纳米压痕与 EBSD 成像的前所未有的相关性。

KLA NanoFlip原位纳米压痕划痕力学测试系统NanoFlip纳米压痕仪可以提供您的材料研究实验室带来无限的便捷。 高性能多功能性是NanoFlip设计的标志，当需要进行成像集成，需要进行频繁的转换和广泛的样本控制时，无论是环境测量还是原位测试，无论有无真空，都能提供同样出色的结果。Fib2Test技术允许用户将样品倾斜90度，以便在双光束SEM内从FIB无缝过渡到压痕测试，而无需移除样品。设计为完全真空兼容，并且具有独特的样品触发功能，NanoFlip非常适用于现场环境，如SEM，FIB和真空室，或者当您的实验带您迁移时，可以在任何情况下工作 可以想象的成像系统，如AFM，光学显微镜和光学Pro测量仪，为您提供几乎无限的成像选项。电磁执行器用于KLA生产的所有系统，包括NanoFlip。 这些执行器是坚固的线性装置，固有地解耦力和位移。 它们的最大力为50 mN，分辨率为3 nN，超低噪声电流小于200 nN。NanoFlip的时间常数为20微秒，是唯一同时符合规格的商用纳米压痕仪，最大压痕行程为50μm，噪声0.1nm，数字分辨率为0.004 nm，漂移率为 0.05nm/s。为了确保业内最广泛，最可靠的数据，NanoFlip能够实现0.1 Hz至1 kHz的动态激励频率。样品台移动，Z轴为25 mm，X为20 mm，Y轴为20 mm，分辨率为nm，可在大面积上精确定位样品。载荷框架刚度 7 e5N/m独特的尖端校准系统集成到软件中，可实现快速，准确和自动的尖端校准。可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和标准可用刮擦选项，最大正常载荷为50 mN，最大刮擦距离为2.5 mm，最大刮擦速度为500μm/ s。可选的NanoBlitz地形和层析成像软件，用于材料的3D和4D映射。

产品描述Nano Indenter G200系统是一种准确，灵活，使用方便的纳米级机械测试仪器。 G200测量杨氏模量和硬度，包括从纳米到毫米的六个数量级的形变测量。 该系统还可以测量聚合物，凝胶和生物组织的复数模量以及薄金属膜的蠕变响应（应变率灵敏度）。 模块化选项可适用于各种应用：频率特定测试，定量刮擦和磨损测试，集成的基于探头的成像，高温纳米压痕测试，扩展负载容量高达10N和自定义测试。主要功能电磁驱动可实现高动态范围下力和位移测量用于成像划痕，高温纳米压痕测量和动态测试的模块化选项直观的界面，用于快速测试设置 只需几个鼠标点击即可更改测试参数实时实验控制，简便的测试协议开发和精确的热漂移补偿屡获殊荣的高速“快速测试”选项，用于测量硬度和模量多功能成像功能，测量扫描和流程化测试方法，帮助快速得到结果简单快捷地确定压头面积函数和载荷框架刚度主要应用高速硬度和模量测量界面附着力测量断裂韧性测量粘弹性测量扫描探针显微镜（3D成像）耐磨损和耐刮擦高温纳米压痕工业应用大学，研究实验室和研究所半导体和电子工业制造业轮胎行业涂层和涂料工业生物医药行业医疗仪器更多应用：请根据您的要求与我们联系应用高速硬度和模量测量材料的机械特性表征在新材料的研究与开发中具有重要意义。 Nano Indenter G200能够以每秒一个数据点的速率测量硬度和模量。 对机械性能的高速评估使半导体和薄膜材料制造商能够将先进技术应用于生产线上的质量控制与保证。界面粘附力测量通常通过沉积能够存储弹性能量的高压缩层来诱导薄膜分层。 界面粘附力测量对于帮助用户理解薄膜的失效模式是至关重要的。Nano Indenter G200系统可以触发界面断裂并测量多层薄膜的粘附性和残余应力性质。断裂韧性断裂韧性是在平面应变条件下发生灾难性破坏的应力 – 强度因子的临界值。 较低的断裂韧性值表明存在预先存在的缺陷。 通过使用刚度映射法容易地通过纳米压痕评估断裂韧性。 （刚度映射需要连续刚度测量和NanoVision选项）粘弹特性聚合物是非常复杂的材料 它们的机械性能取决于化学，加工和热机械历史。 具体来讲，机械性能取决于材料分子母链的类型和长度，支化，交联，应变，温度和频率，并且这些依赖性通常是相互关联的。 为了采用聚合物进行研究时获得有用的信息进行决策，应在相关背景下对相关样品进行机械性能测量。 纳米压痕测试使得这种特定的测量更容易完成，对样品制备要求不高，可以很小且少量。 Nano Indenter G200系统还可用于通过在与材料接触时振荡压头来测量聚合物的复数模量和粘弹性。扫描探针显微镜（3D成像）Nano Indenter G200系统提供两种扫描探针显微镜方法，用于表征压痕印痕的裂缝长度，以测量设计应用中的断裂韧性。 断裂韧性定义为含有裂缝的缺陷材料抵抗断裂的能力。Nano Indenter G200的压电平台具有高定位精度和NanoVision选项，可提供高达1nm的步长编码器分辨率，最 大扫描尺寸为100μm×100μm。 测试扫描软件选项将X / Y运动系统与NanoSuite软件相结合，可提供500μm×500μm的最 大扫描尺寸。 NanoVision阶段和测试扫描选项都需要精确定位在样品区域来完成纳米压痕测试和断裂韧性计算。耐磨性和耐刮擦性Nano Indenter G200系统可以对各种材料进行划痕和磨损测试。 涂层和薄膜将经受许多工艺，测试这些薄膜的强度及其与基板的粘合性，例如化学和机械抛光（CMP）和引线键合。 重要的是这些材料在这些工艺过程中抵抗塑性形变并保持完整，也不会在基板上起泡。 对于介电材料，通常需要高硬度和弹性模量来支持这些制造工艺。高温机械测试高温下的纳米压痕提供了在达到塑性转变之前、之中与之上的精确测量能力，得到材料的纳米力学响应。 了解材料行为，例如形变机制和相变，可以预测材料失效并改善热机械加工过程中的控制。 在主要机械测试方法过程中改变温度是对材料进行纳米尺度测量塑形转变的一种方式。产品优势Nano Indenter G200系统专为各种材料的表征和开发过程中进行纳米级测量而设计。 该系统是一个完全可升级，可扩展且经过生产验证的平台，全自动硬度测量可应用于质量控制和实验室环境。

中图仪器高精度薄膜厚度台阶测量仪NS200集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，具备超高的测量精度和测量重复性。它主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。应用场景适应性强，对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位。中图仪器高精度薄膜厚度台阶测量仪NS200是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，它对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。典型应用产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。 2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。中图仪器高精度薄膜厚度台阶测量仪NS200采用LVDC电容传感器，具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点使得其在ITO导电薄膜厚度的测量上具有很强的优势。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，CP200台阶仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

日本原装实验室/研发专用台式浸渍提拉镀膜仪， Z轴和X轴双轴控制，具有提拉角度调节功能。ND-0407-S5日本热销的超低速浸渍提拉镀膜仪，它可以通过控制工作两轴和θ角以及对角线提拉来调节提拉角度。客户的需求：对基材进行垂直、高精度、超低速镀膜以改变提拉角度和溶液的密度对基材进行镀膜两种液体交替对基材进行镀膜在提拉途中，通过改变提拉速度来控制膜厚 ND-0407-S5能够满足客户的需求：可以提供超低速的常规垂直镀膜可以通过调整θ角来获取提拉角度可以采用不同的液体（例如交替吸附等）进行镀膜独立运动和复合运动均可操作（在两个轴上）具有可以连续点运行的新功能 产品特点：可以对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状材料等基材以纳米速度（变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。适用于纳米级薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子阵列的生成等。采用触控面板操作方式，在触控面板上，可以轻松完成设置速度变化点(最多16个点)、速度变化(以1nm为单位)、重复运动、运动模式记忆(最多8个模式)的操作。双轴同步操作和单轴单独运行操作都可以轻松完成。触控面板采用日语、英语两种语言，且可以一键式切换。 产品应用： 主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。 工作原理：浸渍提拉镀膜仪的原理是将基材垂直浸入镀膜溶液(溶胶)中浸渍，然后将基材从溶液中垂直低速提拉起来，并使附着的液膜在空气（气相）中凝胶的方法。浸渍提拉法的具体工艺流程如下：1. 将基材垂直浸入镀膜溶液（溶胶）中浸渍。2. 利用镀膜溶液的粘度、表面张力和重力之间的相互作用开始提拉，提拉过程必须保证液面无振动，且基材垂直、匀速、平稳、连续上升，从而确保在基材表面形成连续、均匀的薄膜。3. 基材的提拉速度与镀膜溶液的粘度和附着液向下流动的重力之间的关系，控制着镀膜的厚度；4. 形成均匀的薄膜，并完成“湿凝胶膜”向“干凝胶膜”的转变。”干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。 技术参数：行程：Z轴：100mm；X轴：100mm速度(Min)：1nm/s速度(Max)：60mm/s操作方法：触控面板屏幕显示语言：英文/日文处理速度指定数量：16个停止位置指定数量：16个停止时间指定数量：16个连续运行模式：有手动运行模式：有存储程序的数量：8个程序监控功能(当前速度):有监控功能(当前位置):有剩余监控时间：有重复运行：有标准夹具：材料：聚丙烯(PP)电源：AC100V、300VA承重量(max)：500g处理尺寸(max)：100mm(H）线性运行模式：无设备尺寸(mm)：442(W)×250(D)×451(H)控制箱尺寸(mm):300(W)×285(D)×163(H)备注：※线性运行模式是指改变速度时，停止时间为零秒。※手动运行模式是指以设定的速度进行上升/下降运行（上升速度和下降速度的另一种设置）。

仪器简介： 德国Klocke Nanotechnik公司生产的纳米级三维测量仪(3D Nanofinger)俗称纳米三坐标，是一种实用的纳米精度坐标和形貌综合测量设备。由台架、控制系统、探头、针尖组成. 可测量样品外形尺寸，表面轮廓、粗糙度等，并可与超精密微加工、微组装系统组合，进行在线检测、质量控制等。系统拥有5个自由度，可以根据样品设定测量路径，测量范围达到厘米级甚至更大。现已广泛应用于超精密机械加工、MEMS器件、半导体微电子加工、光学、分子生物学和精密工程。 技术参数：设备主要参数： 测量范围: X = 10, 20 or 50 mm Y = 10, 20 or 50 mm Z = 10 or 20 mm 采用花岗岩基底，XY方向行程扩展为： 100 x 100 mm2 or 350 x 350 mm2 测量特性： 运动分辨率： 1 nm 针尖分辨率： 0.5 nm 水平与竖直方向均配有操纵传感器 线形轮廓测量 样品内部与外部轮廓测量 坐标测量功能 测量用探针: 针尖型金属丝, 尖端半径 100 nm 钩型金属丝, 尖端半径 100 nm 圆形针尖, 直径 0.12-0.3 mm 金刚石针尖, 如用于表面压痕 软件： 针尖自动校准与逼近 2D 和 3D 图形功能 分析软件 自动化模块选项（序列发生器） 可选择的配置: 小型花岗岩平台式3D-Nanofinger 便携式3D-Nanofinger 3D-Nanofinger 模块，如集成到CNC机床内部 适合电镜中安装的3D-Nanofinger 模块 可安装到多功能检测工作台中 附件: 纳米精度自动旋转平台 摄像机 图形识别系统主要特点：1.纳米精度测量，而且是三维方向都可保持统一的精度。 2.测量量程跨越纳米到厘米,甚至分米级。 3.多功能多参数测量设备，可以涵盖三坐标、轮廓仪、形貌仪、粗糙度仪等的功能。 4.用户可以设定测量路径，这样就能沿着样品形状进行测量。适合复杂轮廓测试。 5.配合多种不同功能的探针，可以完成一般轮廓仪无法进行的结构测量。特别是结构内部。 6.用户可以根据需要灵活设置测量方法，可以进行大面积精确测量，也可以先进行大面积低精测量，然后对特定感兴趣的区域进行高精测量，以节省时间。 7.整个过程非接触的，间距可以保持在可以设定为几个纳米。适合各种固态样品测量，对材料性质没有特别要求和限制。 8.布局灵活，根据用户测试要求组成合适的系统。平台可以任意组合，探头也以改变安装方向。 9.如果和微加工设备组合，可以实现在线测量。

中图仪器NS系列沉积薄膜台阶高度测量仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器，其主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。其采用LVDC电容传感器，具有的亚埃级分辨率和超微测力等特点使得其在ITO导电薄膜厚度的测量上具有很强的优势。针对测量ITO导电薄膜的应用场景，NS200沉积薄膜台阶高度测量仪提供如下便捷功能：1）结合了360°旋转台的全电动载物台，能够快速定位到测量标志位；2）对于批量样件，提供自定义多区域测量功能，实现一键多点位测量；3）提供SPC统计分析功能，直观分析测量数值变化趋势；工作过程NS系列沉积薄膜台阶高度测量仪测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面，测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号，数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料；2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数；3）翘曲与形状：能够测量样品表面的2D形状或翘曲，如在半导体晶圆制造过程中，因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化，或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1）自定义测量模式：支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式；2）导航图智能测量模式：支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机，可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示，进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴，可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节，提高测量精度及效率。产品应用NS系列台阶仪应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位，其对表面微观形貌参数的准确表征，对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率，结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰，确保仪器具有良好的测量精度及重复性；2.超微力恒力传感器1-50mg可调，以适应硬质或软质样品表面，采用超低惯量设计和微小电磁力控制，实现无接触损伤的接触式测量；3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨，杜绝运动中的细微抖动，真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。如有疑问或需要更多详细信息，请随时联系中图仪器咨询。

中图仪器NS系列纳米级表面测量台阶仪是一种接触式表面形貌测量仪器，可以对微米和纳米结构进行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波纹和表面粗糙度等的测量。NS系列纳米级表面测量台阶仪采用了线性可变差动电容传感器LVDC，具备超微力调节的能力和亚埃级的分辨率，同时，其集成了超低噪声信号采集、超精细运动控制、标定算法等核心技术，使得仪器具备超高的测量精度和测量重复性。产品功能1.参数测量功能1）台阶高度：能够测量纳米到330μm或1050μm的台阶高度，可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。2）粗糙度与波纹度：能够测量样品的粗糙度和波纹度，分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线，可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等数十项参数。3）应力测量：可测量多种材料的表面应力。2.测量模式与分析功能1）单区域测量模式：完成Focus后根据影像导航图设置扫描起点和扫描长度，即可开始测量。2）多区域测量模式：完成Focus后，根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，可根据横向和纵向距离来阵列形成若干到数十数百项扫描路径所构成的多区域测量模式，一键即可完成所有扫描路径的自动测量。3）3D测量模式：完成Focus后根据影像导航图完成单区域扫描路径设置，并可根据所需扫描的区域宽度或扫描线条的间距与数量完成整个扫描面区域的设置，一键即可自动完成整个扫描面区域的扫描和3D图像重建。4）SPC统计分析：支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析，针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.双导航光学影像功能在NS200-D型号中配备了正视或斜视的500W像素的彩色相机，在正视导航影像系统中可精确设置扫描路径，在斜视导航影像系统中可实时跟进扫描轨迹。4.快速换针功能采用了磁吸式测针，当需要执行换针操作时，可现场快速更换扫描测针，并根据软件中的标定模块进行快速标定，确保换针后的精度和重复性，减少维护烦恼。磁吸针实物外观图（330μm量程）NS系列纳米级表面测量台阶仪对测量工件的表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求，样品适应面广，数据复现性高、测量稳定、便捷、高效，是微观表面测量中使用非常广泛的微纳样品测量手段。应用场景适应性强，其对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求，能够广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位。典型应用部分技术参数型号NS200测量技术探针式表面轮廓测量技术探针传感器超低惯量，LVDC传感器平台移动范围X/Y电动X/Y(150mm*150mm)(可手动校平)样品R-θ载物台电动，360°连续旋转单次扫描长度55mm样品厚度50mm载物台晶圆尺寸150mm（6吋）,200mm（8吋）尺寸（L×W×H）mm640*626*534重量40kg仪器电源100-240 VAC，50/60 Hz，200W使用环境相对湿度：湿度 （无凝结）30-40% RH温度：16-25℃ (每小时温度变化小于2℃)地面振动：6.35μm/s（1-100Hz）音频噪音：≤80dB空气层流：≤0.508 m/s（向下流动）恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。

iMicro纳米压痕仪iMicro纳米压痕仪可轻松测量硬质涂层、薄膜和小尺寸材料等。其准确、灵活，并且用户友好，可以提供压痕、硬度测试、划痕和纳米级万能试验等多种纳米力学测试。作动器易于更换，能够提供大范围的动态载荷和位移，对于从软质聚合物到硬质金属/陶瓷等材料，均可以进行准确而可重复的测试。模块化的功能选项可以适配各种应用：材料力学特性图谱、频率相关特性测试、划痕和磨损测试以及高温测试。iMicro提供一整套的扩展功能选项，包括样品加热、连续刚度测量、NanoBlitz3D/4D材料力学性能成像、Gemini 2D作动器用于摩擦学和其它双轴力学测量。 产品描述iMicro 纳米压痕仪标配InForce 1000作动器，用于进行纳米压痕和万能纳米力学试验，并可选配InForce 50作动器用于测试较软的材料。InView 软件包灵活、现代，让用户轻松进行纳米尺度测试。iMicro是一款紧凑型测试平台，其箱体中内置高速InQuest控制器和隔振框架。各种不同的材料和器件均可以进行测试，包括金属、陶瓷、复合材料、薄膜、涂层、聚合物、生物材料和凝胶等。 产品特色InForce 1000作动器采用电容式位移传感和电磁力驱动，且压头易于更换InForce 50作动器选件，提供最大50mN的法向力，可用于测量较软的材料；Gemini 2D作动器选件，可实现两个方向的动态测量独特的压头校准系统，集成在软件中，可实现快速、准确的压头校准InQuest高速控制器电路，数据采集速率可达100kHz，时间常数最快为20µ sXY运动系统以及易于安装的磁性样品台高刚度框架，且集成隔振功能集成显微镜，数字变焦，可实现精确的压痕定位符合ISO 14577等标准的测试方法InView软件包，包含RunTest、ReviewData、InFocus、InView University在线培训和InView移动应用程序 产品应用硬度和模量测量（基于Oliver-Pharr模型）快速材料力学性能成像ISO 14577 硬度测试聚合物损耗因子、储存模量和损耗模量定量的划痕和磨损测试高温纳米压痕测试 适用行业大学、科研实验室和研究所半导体与封装产业PVD/CVD 硬质涂层（DLC、TiN）MEMS：微机电系统/万能纳米力学试验陶瓷与玻璃金属与合金制药涂层 涂料复合材料电池与储能汽车与航空航天主要应用硬度和模量测量（基于 Oliver-Pharr 模型）力学性能表征在薄膜的制造和工艺控制中至关重要，其中包括汽车工业中的涂层质量控制，以及半导体制造中前段和后段的工艺控制。iMicro纳米压痕仪能够测量从超软凝胶到硬质涂层的各种材料的硬度和模量。高效地评估材料性能，保证了在生产线上进行有效的质量管控。快速材料力学性能成像对于包括复合材料在内的许多材料而言，不同区域之间的力学性能可能存在很大差异。iMicro的样品台在X轴和Y轴方向上能够分别移动100mm，且其在Z轴方向上能够移动25mm，因此可以测试尺寸大且高度不同的样品。使用NanoBlitz功能选项进行材料表面和断层力学性能成像，可以快速获得各种被测力学性能的彩色分布图。ISO 14577 硬度测试iMicro 纳米压痕仪内置预先编写的 ISO 14577 测试方法，其依据 ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、纳米压痕硬度、维氏硬度和归一化压痕功。聚合物损耗因子、储存模量和损耗模量iMicro 纳米压痕仪能够测量超软材料（包括粘弹性聚合物）的损耗因子、储存模量和损耗模量。储存模量、损耗模量和损耗因子是粘弹性聚合物的重要性能，因为作用到此类材料上的能量以弹性能的形式储存或以热量的形式耗散。上述指标即用于衡量材料中的能量储存和耗散情况。定量的划痕和磨损测试iMicro 可以对多种材料进行划痕和磨损测试。涂层和薄膜要经受多种工艺流程，例如化学机械抛光(CMP)和引线键合，这会考验这些薄膜的强度及其与衬底的附着力。对这些材料来说，重要的是在这些流程中抵抗塑性形变，并保持完好而不从衬底上剥离。理想情况下，电介质材料应具有较高的硬度和弹性模量，这将有助于其在经历制造流程时有效抵抗外界影响。高温纳米压痕测试高温纳米压痕对于表征热应力作用下的材料性能至关重要，在定量研究热机械加工过程中的失效机理时更是如此。在不同温度下进行力学测试，不仅可以研究材料受热时的性能变化，还可以量化研究材料的塑性转变，这在纳米尺度上并非易事。

纳米力学测试仪 iNano灵活易用的力学测试可广泛用于各种材料和应用iNano专为压痕、硬度、划痕测试和多元化纳米级测试等纳米级力学测试设计。iNano能够测试包括软质高聚物到硬质涂层和薄膜等在内的各种材料。模块化系统选项可以完成各种不同应用：特定频率测试、定量划痕和磨损测试、集成探针成像、高温测试和自定义方法编程等。除了能够推进高校科研之外，iNano还可以为以下材料和行业进行纳米压痕测试和抗蠕变性测量：生产质量控制金属和合金医药器械涂料和油漆半导体高聚物与塑料MEMS/纳米级器件电池和储能材料陶瓷与玻璃主要功能高度模块化设计, 既具有最为宽泛的测试功能，又可提供高通量的自动化测试功能，并配有统计数据分析包，适用于纳米力学性能测量、扫描探针显微成像、高温测量和IV电压电流特性测试实时高效的实验控制，简单易用的测试流程开发和测试参数设置标准的InForce 50电磁驱动器集成高速控制器电子设备完成告诉数据采集高达100kHz，捕获材料瞬间的响应，例如锯齿流变和断裂现象。仪器使用工业界最短的时间常数20μs，精准捕捉材料瞬间的真实响应集成了噪音隔离功能的高刚度框架，可确保对各种材料进行准确测量数码变焦的高分辨光学显微镜，精确定位样本纳米压痕专家在线讲授专业纳米压痕课程，以及移动应用程序能够提供测试方法的实时更新功能与选项概览KLA 核心技术iNano 采用电磁驱动转换器提供动力，电磁驱动加载模块技术因其众多的优势被广泛的应用在KLA的压痕设备中,轻松实现载荷和位移的宽动态范围的控制,提供纳米级的力学测试功能, 实现高精度观察与定位测试样本,以及样品高度的简易调节。在其标准配置中，iNano采用了InForce 50驱动器，并提供模块化控制器以便用户按需要增加功能。iNano设备提供扫描探针成像功能、划痕及磨损测试功能、高温纳米力学测试功能、连续刚度测试(CSM) 和高速3D及4D力学图谱等模块化升级选件。该系统兼容ISO14577国际标准。iNano 采用高阶的InView&trade 测试控制和数据采集软件,包含用于简化测试设置的带屏幕控制的InviewRunTest，可在测试期间或之后进行数据分析的 InView ReviewData，和生成各种综合性测试报告的 InFocus 软件。连续刚度测量（CSM）压入循环期间测量刚度和其他材料特性KLA的连续刚度测量技术能够轻松评估材料在应变速率或蠕变效应影响下的动态力学性能。CSM技术在压入过程中保持探针以纳米级的振幅持续振动，从而获得硬度、模量等力学性能随深度、载荷、时间或频率的变化而变化的特性。该选项提供学术界与工业界最常用的恒应变速率测试方法，用以测量随深度或载荷变化的硬度和模量。CSM还可用于其他高级测量选项，其中包括用于存储和损耗模量测量的ProbeDMA&trade 方法以及AccuFilm&trade 消除基底效应的薄测量等。连续刚度测量技术在InQuest控制器和InView软件中集成，可以方便使用并保证数据的可靠性。 使用 CSM 选项测量随压入深度而变化的弹性模量AccuFilm&trade 薄膜方法通过校正衬底对测量的影响对超薄膜进行表征基于连续刚度测量技术(CSM)并结合Hay-Crawford模型的新一代AccuFilm&trade 薄膜测试选件可测量附着于衬底的膜层材料，使用AccuFilm超薄膜方法是基于KLA科学家发明的的新一代超薄膜的测试技术，实验设置操作简单，对于软衬底上的硬质膜以及硬衬底上的软质膜，AccuFilm都可以校正衬底在膜测量中所带来的影响。使用 AccuFiLm 薄膜法，基底影响模量和纯薄膜模量作为归一化压痕深度的函数NanoBlitz 3D 快速力学性能分布快速定量地测量表面力学性能分布测量粗糙表面和/或异质材料通过增加观察次数给出具有统计意义的结果NanoBlitz 3D 采用新一代快速纳米压痕测试技术，实现每个压痕测试时间小于1秒。单次试验最大压痕个数为100000（300X300矩阵），可在用户指定的恒定加载力下，提供材料弹性模量，硬度和接触刚度的三维图谱。快速且大量的测试点极大的提高了统计的准确性，同时可以直接对不同相或不同特性区域进行力学均值、分布和面积占比的统计。NanoBlitz 3D功能为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 3D 选项绘制 WC-CO 复合材料的硬度分布图和统计直方图NanoBlitz4D 力学性能断层扫描基于连续刚度测量(CSM) 技术的力学性能断层扫描NanoBlitz 4D力学谱图利用InForce 50或InForce 1000驱动器和Berkovich压头为低E/H值和高模量( 3GPa) 材料生成纳米力学性质的4D图。NanoBlitz4D以每个压痕5秒的速度完成多达10,000个压痕（30×30阵列），并为阵列中的每个压痕测量随深度而变化的杨氏模量(E)、硬度(H)和刚度(S)数值。NanoBlitz 4D采用恒应变速率方法，为用户提供数据可视化和强大的统计数据分析处理功能。使用 NanoBlitz 4D 选项针对多层薄膜绘制两个不同压入深度的弹性和塑性分布图ProbeDMA&trade 高聚物测试聚合物测试包中配置了圆底平头探针、粘弹性测试标样和粘弹特性的测试方法，该测试选件基于连续刚度测量技术，可在不同频率条件下对材料进行高效可靠测量，得到储存模量和损耗模量与频率的变化关系。该测量技术对纳米量级的聚合物及聚合物薄膜的力学表征至关重要，优于传统DMA测试设备。使用圆底平头探针测试一系列标准高聚物样品的储能模量划痕和磨损测试方法压头通过样品表面时对其施加恒定或渐增的载荷iNano系统可以对多种材料进行划痕和磨损测试。在涂层和薄膜经过化学机械抛光(CMP) 和引线键合等的多种工艺处理的时候，其强度及其对基材的附着力会备受考验。在加工工艺中，材料是否能抵抗塑性变形并保持完整而不从衬底上起泡非常重要。理想情况下，介电材料具有高硬度和高弹性模量，因为这些参数有助于了解材料在制造工艺中的性能变化。划痕测试的定量分析300°C 样品加热允许将样品放入一个腔室中，以便在测试期间对其均匀加热300°C 的样品加热选项允许将样品放置在一个腔室内进行均匀加热，同时接受测试。iNano 样品加热选项用于表征高温下的机械性能。国际标准化的纳米压痕测试iNano包括预先内置的ISO 14577测试方法，可根据ISO 14577 标准测量材料硬度。该测试方法可以自动测量并输出杨氏模量、仪表硬度、维氏硬度和归一化压痕功。按照 ISO14577 标准在一系列标准样品上所测得的硬度值iNano 的其他升级选项远程视频观看 : 远程视频选项包括已安装的网络摄像头，便于在测试之前和期间查看样品。两个观察角度分布为样品设置视图和原位测试视图，可分别观察样品和纳米压头。DataBurst 模式 : DataBurst 模式在高达 100kHz 的速度下触发超级数据采集，捕获材料瞬间响应，例如锯齿流变和断裂现象；允许在真正的步进荷载下测量高应变率材料的力学性能；仪器使用工业界最短的时间常数，帮助客户精准捕捉材料瞬间的真实响应。InView 开放式软件编写平台 : InView 采用开放式软件编写平台，以帮助客户在测试过程中实现加载，测量和计算的全方位控制。用于设计新颖或复杂的实验。开放式软件编写平台给予客户极大的灵活性：帮助客户轻易采集原始测试数据到和最终分析结果的全面使用；客户可以完全浏览，编辑计算公式，自定义参数，实现个性化试验设计；用户可以自由设计和改变试验参数和试验过程，为探索新的试验测试提供可能。TrueTestI-V 电学测试 : True Test I-V 选项允许用户向样品施加特定电压并测量压头的电流，以表征纳米力学测量过程中电学特性的局部变化。带有模块化机架的主动振动隔离:在 iNano 的内置被动隔振的基础上增加主动隔振，为超薄薄膜上高难度的纳米力学测量提供了强大的稳定性和精确度。主动隔振系统减少了所有六个自由度的振动，无需进行调整。生物软材料测试选项台 : 生物材料测试方法利用核心技术连续刚度测试 CSM 表征模量在 1kPa 左右的生物软材料 包含一个平底压头和测量软材料储存损耗模量的测试方法。压头探针和校准样品 : InForce 50、InForce 1000 和 Gemini 驱动器的可互换压头包括 Berkovich、立体角、维氏，以及平底和球体压头。

纳米力学和纳米摩擦学测试的一大飞跃Bruker’s Hysitron TI 980 TriboIndenter海思创TI 980 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克zui先进的纳米力学测试设备，同时具有zui高的性能、灵活性、可信度、实用性和速度。TI 980纳米压痕仪是布鲁克著ming的海思创纳米压痕设备的新一代产品。它建立在几十年的技术创新上，提供了纳米力学和纳米摩擦学表征领域全新水平的非凡性能、能力和功能。 让您时刻保持在材料探索和发展前沿采用布鲁克的Performech II先进控制模块，TI 980纳米压痕仪在控制能力、测试通量、测试灵活性、适用性、灵敏度、可信度和系统模块化等方面有了显著的进步。TI 980包含以下多种强有力的功能：纳米压痕与微米压痕、纳米划痕、纳米摩擦磨损、高分辨原位扫描探针显微镜成像、动态纳米压痕和高速机械性能成像。这些测试功能有助于全面理解材料纳米尺度下的行为。 简易高速的自动化海思创TI 980提供了高通量表征所需的快速、多样品和多技术自动测试能力。它可以按照设定时间间隔自动验证针尖形状，还可以实现多尺度下的高分辨成像和全样品光学扫描。 不会过时的表征潜力鉴于将来会出现不同与今日的表征需求，TI 980纳米压痕仪被设计为具有zui好的灵活性。TI 980支持大量集成和具有相关性的纳米力学表征技术，使您时刻保持在材料研发前沿。集成多种系统控制模块和数据分析软件、通用样品固定选项（机械、磁性和真空）和模块化环境腔，TI 980也适用于您将来的表征需求。 纳米力学测试设备Bruker’s TI 950 TriboIndenter海思创TI 950 TriboIndenter纳米压痕仪是布鲁克一台用于多种纳米力学和纳米摩擦学表征的自动化、高通量测试设备。海思创TI 950纳米压痕仪集成了强大的Preformech I先进控制模块，显著提高了纳米力学测试反馈控制的准确度，提供了空前的低噪音水平。结合布鲁克的大量纳米力学测试技术和正在研发的测试方法，TI 950 TriboIndenter 是一台多功能和极其高效的纳米力学测试系统，适用于广泛的应用。 优异的控制反馈和灵敏度布鲁克先进的反馈控制算法和测量灵敏度为所有海思创纳米力学测试技术提供了精确的控制。海思创TI 950上所有的反馈控制功能都基于集成了数据信号处理器（DSP）和现场可编程门阵列（FPGA）的专业控制系统，用于精确实现用户的测试需求。 电容传感器技术专业的电容传感器技术提供了纳米压痕过程中前所未有的测量灵敏度（30nN, 0.2nm），准确性和可信度。静电激励模式使用微小电流，具有zui好的温漂性能，从而实现更快的数据采集，更高的精度和更好的重复性。集成原位扫描探针成像的高分辨光学系统海思创TI 950集成了带彩色CCD相机的光学系统，用于高放大倍数下的样品表面观察和测试位置选择。原位扫描探针成像系统能提供更精确的测试位置选择（±10nm）。TI 950的这种双模式成像设计实现了许多应用对精确控制测试位置的需求。 Hysitron TI Premier实现定量纳米力学研究布鲁克的海思创TI Premier系列被专门设计为在紧凑平台上实现领xian的定量纳米力学表征。基于已被广泛认可的先进技术，海思创TI Premier提供了纳米力学和纳米摩擦学测试的核心工具。除了使用不同配置的海思创TI Premier实现不同领域的研究测试外，TI Premier还提供了大量升级选项，用于满足将来的多种潜在测试需求。Contact Us Download Brochure 海思创TI Premier可满足不同研发需要。常用的配置选项包括： 准静态纳米压痕 多功能设计，针对薄膜和涂层力学性能表征优化 动态纳米压痕 适用于从超软到超硬的各种材料的准静态和动态力学系能表征 高温纳米压痕 研究不同温度下（高达800℃）材料的力学性能和时间依赖形变行为 多尺度压痕 实现从纳米到微米尺度的压痕测试