真空设备

云必真空设备原位进样系统MUST IN2 功能保证敏感样品在不接触空气和湿气的情况下，从手套箱传输到真空设备，以避免氧气、水分或灰尘等对样品造成污染。 操作流程第一步：放样品在手套箱内制备好样品，将样品装入带有惰性气体保护的原位进样系统；第二步：运样品系统气密性好，可远距离移动；第三步：装样品系统像一个大样品一样安装在真空设备样品座上，整个系统将与载物台一起在样品室中移动；第四步：进样品仪器抽真空的过程中，系统在不使用电驱动的方式打开，最大程度减少系统对仪器的电磁干扰；第五步：分析样品系统打开以后，分析仪器就可以对样品开展分析工作。 原位分析附件1、高温附件(室温至+100℃，特殊温度可定制)直接内置于原位进样系统里，无需外接其他附件。系统内允许温度快速变化，并使用作为该组件一部分的控制器在±1℃内进行精确控制。2、充放电附件可保证固态电池、动力电池、锂离子电池等样品在原位进样情况下,还能开展充放电测试。利用充放电附件可观察其在充放电过程中，成分、形貌、结构等性能持续的发生变化，得到丰富的原位测试数据。3、力曲线附件主要是在高低温附件、充放电附件基础上增加了力曲线功能。样品在高低温、充放电状态下内部会膨胀或发生形变，就会产生力，结合温度、充放电的变化，就能得到完整的不同工况下的样品力曲线图形。 原位互联原位进样系统可以保证同一个样品，在各种设备之间原位转移、原位分析，以低成本达到原位互联的效果。在使用原位进样系统的基础上，真空设备分析完样品，可以使用惰性气体破坏真空，原位进样系统自动关闭舱门，达到密闭效果，从而可以转移到其他真空设备上开展其他分析工作。 性能优势1、无磁性所有部件均为非磁性材料，不影响真空设备观测准确性。2、体积小巧高度仅20mm，长度不超过50mm。3、高度匹配定制化安装底座，可在真空设备底座上稳定锁定。4、自动开启原位进样主盒放入真空设备腔内，真空开启后，观测舱自动打开。5、功能全面可同时实现对样品的充放电、加压、制冷、加热及环境参数测量等功能。 性能参数 样品进入方式：原位进样系统装配于真空设备样品座上进入 系统打开方式：气动方式打开，避免电磁干扰 样品放置方式：竖直放置，可选水平放置 外壳材质：铜材质，表面特殊处理，内部表面抛光 外壳尺寸：L50xW50xH20mm(可定制) 腔内尺寸：L20×W30×H15mm(可定制) 样品尺寸：L10×W10×H5mm(可定制) 可选附件1、高温附件 温度范围：室温至+100℃，特殊温度可定制 温度精度：±1℃ 显示分辨率：1℃ 温度稳定性：1℃ 加热/冷却速率：每分钟30℃2、充放电附件功能视外接充放电设备而定3、力曲线附件 加压范围：0-250N 外部控制箱 适用仪器本系统适用于真空设备， 如扫描电子显微镜、电子探针显微镜、Ｘ射线光电子能谱仪、离子研磨仪等仪器。

1、激光溅射沉积（PLD）l脉冲激光沉积是一非平衡物理过程，其方法新颖，工艺简单，制备薄膜组分偏析少、纯度高，薄膜与衬底结合力强，薄膜生长速度快，是一种先进的薄膜制备方法。l脉冲激光沉积装置主要包括两大部分：激光系统和工作系统。经常采用的激光器有准分子(Excimer)激光器、脉冲 YAG 激光器、脉冲二氧化碳激光器等。PLD工作系统，主要包括真空室、靶材衬底放置系统、抽真空系统、供气系统、控制系统等组件，并用红外测温仪对衬底温度进行实时监控。工作系统的几个主要部分：l 真空室及抽真空系统 ：真空反应室由一级抽真空的机械泵（低真空的抽取）和二级抽真空分子泵（高真空的抽取）连接，本底极限真空可达到 6.6×10-5Pa。l靶材衬底放置系统 ：该系统有四个靶托，可以同时放置 4 块靶材，靶材在自转和公转电机的带动下能同时进行自转和公转。自转是为了使激光束更均匀的溅射到靶材表面，公转的目的是为了更换不同的靶材，避免靶材之间的交叉污染。可以对衬底进行旋转并通过加热装置给衬底加热，在对衬底进行加热时最高温度可以达到 800℃（加热时尽量使加热温度变化在 100℃左右）。靶材与基片之间的距离可以在 3～10cm范围内进行调节。 l冷却循环系统 ：该系统用于分子泵的水循环冷却。 l供气系统 ：该系统既可以提供环境保护气体，使样品和真空室避免受到空气污染；还可以提供制备薄膜需要的反应气体。 l控制系统 ：控制系统主要有真空度、衬底加热温度、分子泵机械泵总电源几个控制面板。控制系统主要用来设置沉积室的背景气压、工作压强、靶材与衬底的转动速率、衬底的加热温度、反射镜的转动速率等。比 较 常 用 的 薄 膜 材 料 制 备 技 术 主 要 有 物 理 气 相 沉 积 (Physical vapor Deposition，PVD)、化学气相沉积(Chemical vapor Deposition， CVD)和溶胶—凝胶法等，而真空蒸发、离子镀和溅射镀膜都属于物理气相沉积，PLD 技术也是一种 PVD 技术，但是 PLD 技术相对简单并且有很多优点：(1) 可沉积制备与靶材一致的多组分复合物薄膜材料，可以保证镀膜前后材料化学计量比的稳定。 (2) 沉积速率高，薄膜生长快，可在一小时生长 1μm 左右的薄膜。(3) 薄膜生长方向性强，能实现定向区域沉积。 (4)溅射沉积过程中可以引入多种气体以改善薄膜质量。(5)可以同时安装多个靶制备多层膜或多元化合物异质结。(6) 靶材容易制备，等离子能量高可降低薄膜生长需要的衬底温度。由于聚焦激光的超高温度因此几乎可以产生任何高熔点材料的薄膜，同时较低温度下生长结晶取向一致的薄膜材料。(7) 高真空环境可制成高纯薄膜；等离子体输运和蒸发空间较小，不会对真空室造成很大的污染。(8) PLD 几乎可以制备所有材料，对激光光源透明的材料除外。 2、真空转移腔体 l真空度10-9mbar3、快速升温降温系统l升温：一分钟内室温升到800℃ l降温：室温降到77k（或10k，定制）

●CMC型全自动真空储存柜适用于食品、水产品、化工原料、贵重金属、金属粉末等固体、粉状、糊状、液体，电子产品（半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、高级金属制品、厌氧产品、易氧化产品等）的真空存贮，以防潮、防氧化变色。存贮产品可防止氧化、变色、褐变、霉变、虫蛀、受潮、可保质、保鲜延长产品储存期限。●全自动低温烘烤除气真空储存柜真空系统可选配干泵和油封泵，其特点：干泵可获得洁净真空，不会对真空储存室带来污染，但价格较昂贵。油封泵具有成本低廉的优势，但任何安全设计均难以避免油封泵中的油分子进入真空储存室污染环境，给产品带来影响。工作真空度可在西门子触摸屏上任意设定，设定值不得低于设备的极限真空。●本公司设备人机界面、PLC及PLC扩展模块均采用德国西门子工业级产品，同时变频器采用ABB，所有高低压电器原器件均采用知名品牌（优选法国施耐德，若出现产品缺货则使用ABB或国际国内一流品牌，我公司不再另行通知客户），确保设备的电气系统高稳定。●针对不同功能，系统界面共设“一键启动界面”、“软手动界面”、“软件版本界面”、“参数设置界面”等，可通过点击界面切换进入另一操作界面。●“一键启动界面”为默认进入的主界面，可实现“排气”、“放气”、“照明”，以及界面切换等功能。 ●软手动界面：可在手动模式下，单独控制真空获得系统和每个真空室的环境指标，方便设备日常维护和保养。●软件版本界面：反映软件版本和公司售前、售中和售后服务信息。 ●参数设置界面：此界面主要设置真空度参数、温度参数、湿度参数，每个独立的存储室均可单独设置，单独控制。●储存空间和分层方式根据客户需求定制，可按客户预算采用半自动方式对储存柜进行控制，大幅度降低客户投入成本。