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青岛市精密仪器仪表产业规划与支持政策
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园区领导致辞
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光散射技术是高分子领域中重要的表征手段之一,能够测得重均分子量、回转半径、第二维里系数、流体力学半径等重要的物理量。除合成高分子外,光散射技术同样适用于研究生物大分子、微生物、胶体、纳米粒子、病毒、囊泡等在溶液或悬浮液中的行为。本报告重点介绍光散射的基本理论、实验技巧以及应用中要注意的事项。
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本次报告将介绍我们研究组近年来在利用基于原子力显微镜技术的单分子力谱以及单分子磁镊方法研究聚合物纳米尺度力学性质以及聚合物高级结构动态演化方面的进展。
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同步辐射先进光源具有高亮度、波长连续可调、偏振和相干等特点,不仅是前沿基础研究不可或缺的平台,也是产业创新的利器。本报告以团队利用同步辐射开展高分子薄膜产品研发的工作,展示同步辐射在产业创新方面的潜力,希望能吸引更多企业利用同步辐射开展产品研发。
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本讲座重点讲述MEMS器件主要种类,封装的常见结构、封装方法、设计要点、工艺流程和设备等,以MEMS压力传感器和5G 滤波器CSP芯片级封装为例,详细阐述MEMS类产品的封装特点与难点,并对未来发展趋势进行了展望。
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“集成电路系列丛书”出版情况
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致辞
时间:2022/10/13 11:10
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柴燕,电子工业出版社电子信息出...
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集成电路制造中最核心的设备之一是光刻机。它涉及到精密光学、精密移动、精密传输、高精度控制和系统集成等多项先进工程技术。经历过5代技术后,当进入到更加先进的集成电路设计工艺节点10nm以下时,产业界必须采用EUV 光刻机来取代沿用了多年的DUV 光刻机。我们将简单介绍从DUV 到 EUV 的技术进步与技术特点,并讨论由光刻机带给芯片设计的相应难题和解决方法。
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冷链食品质量控制分析
时间:2022/09/05 09:43
125
秦玉鸣,男,中共党员,高级工程...
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