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粉末工程的革命—粉末型原子层沉积(PALD)设备选型

2021/08/20 11:45

阅读:111

分享:
应用领域:
能源/新能源
发布时间:
2021/08/20
检测样品:
其他
检测项目:
机械性能
浏览次数:
111
下载次数:
参考标准:
原子层沉积,ALD,粉末包覆

方案摘要:

原子层沉积技术(ALD)是一种自限制性的化学气相沉积手段,通过将目标反应拆解为若干个半反应,实现表面涂层的原子层级厚度控制。利用该技术制备的涂层具有:共形,无针孔,均匀的特点,对于复杂的表面界面以及高纵深比样品有较好的沉积效果。

产品配置单:

前处理设备

PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统

型号: PROMETHEUS

产地: 美国

品牌: Forge Nano

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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统

型号: PANDORA

产地: 美国

品牌: Forge Nano

面议

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方案详情:

粉末技术经过多年的发展,已经形成多样化的制备及加工技术。其中,表面包覆技术作为提升粉末物理化学性能的重要手段,长期一来一直缺乏有效的精密手段。传统的液相包覆或气相包覆手段都无法实现均匀以及厚度的精密控制,限制了包覆技术的进一步发展。原子层沉积技术(ALD)是一种自限制性的化学气相沉积手段,通过将目标反应拆解为若干个半反应,实现表面涂层的原子层级厚度控制。利用该技术制备的涂层具有:共形,无针孔,均匀的特点,对于复杂的表面界面以及高纵深比样品有较好的沉积效果。


1.jpg

各类包覆技术对于涂层厚度控制以及适用的颗粒粒径范围


2.jpg

ALD 技术制备的薄膜更均匀(左:溶胶凝胶法;右:ALD)


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