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采用表面金属提取电感耦合等离子体质谱(SME-ICP-MS) 表征硅片表面的金属污染物

2021/04/01 16:29

阅读:412

分享:
应用领域:
半导体
发布时间:
2021/04/01
检测样品:
集成电路
检测项目:
化学性质
浏览次数:
412
下载次数:
参考标准:
/

方案摘要:

SME-ICP-MS 技术为硅片表面的痕量金属表征提供了一种灵敏且准确的方法。可在不到 20 分钟的时间内实现对硅片的前处理和分析,为生产质量评估提供实时数据。使用 STS 条件可基本消除采用 ICP-MS 分析SME 液滴基质时的潜在物理干扰。将此功能与软提取操作模式相结合,可使检测能力超过国家技术路线图2009 年针对 450 mm 晶圆所规定的要求。

产品配置单:

分析仪器

Agilent 7900 电感耦合等离子体质谱仪

型号: 7900

产地: 日本

品牌: 安捷伦

面议

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方案详情:

SME-ICP-MS 技术为硅片表面的痕量金属表征提供了一种灵敏且准确的方法。可在不到  20  分钟的时间内实现对硅片的前处理和分析,为生产质量评估提供实时数据。使用  STS  条件可基本消除采用  ICP-MS  分析SME 液滴基质时的潜在物理干扰。将此功能与软提取操作模式相结合,可使检测能力超过国家技术路线图2009 年针对 450 mm 晶圆所规定的要求。

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