成都真空设备厂家 surpass大口径等离子刻蚀机 半导体刻蚀 离子束刻蚀 反应离子刻蚀 可定制
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¥100万

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超迈光电

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CM-015

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中国大陆

  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
核心参数

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●本设备主要用于半导体刻蚀,能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能,使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀,并形成可从衬底上移除的挥发性副产品,通过真空系统排出,特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。



售后服务承诺

产品货期: 100天

整机质保期: 1年

培训服务: 安装调试现场免费培训;额外提供免费培训

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