设备主要技术参数
1) 外形尺寸(约):L1200×W1100×H1850(mm) 外观喷塑处理
2) 反应仓尺寸:不锈钢 W450mm×H350mm×D470mm
3) 电源:主系统电源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz~60Hz 三相五线
4)等离子体频率:40KHz
5)射频电源功率:(0~1000)W 可调
6)设备功率:≤4kW
7)控制方式:采用包括触摸屏人机界面的 PLC 控制,操作方式包括自动模式和手动模式。在自动模式下将不同工艺参数按照配方方式管理, 可同时存储 100 组不同的配方。使用时只需要将相应配方号调出即可。设备参数分级管理,设备操作员、工艺人员、维护人员使用不同口令管理不同参数,提高设备安全性。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。
8)MFC 质量流量控制
9)气体流量:(0~200)ml/min (标况下)
10)工作气体(氧、氩等)接口压力:≤0.45MPa
11)压缩空气(启动气动角阀)接口压力:0.5Mpa
12)净化冷却气体(氮气)接口压力:0.45MPa
13)设备工作节拍:单次清洗时间≤8min(清洗时间 6min,具体以实际清洗时间为准)
14)工作真空度:30~150Pa
15)反应仓工作温度:30~60℃
16)极板数量:水平电极板≥8 层,极板间任意组
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 乙方负责对甲方人员进行技术、操作和设备的维护保养培训,但甲方必须指定专人学习与操
免费仪器保养: 终生不收维修费,只收取基本材料费及运费
保内维修承诺: 终生不收维修费,只收取基本材料费及运费
报修承诺: 接受服务请求后1小时内做出反应,2小时内提出处理意见和解决方案。
最多添加5台