设备主要技术参数
1) 外形尺寸（约）:L1200×W1100×H1850（mm） 外观喷塑处理
2) 反应仓尺寸：不锈钢 W450mm×H350mm×D470mm
3) 电源：主系统电源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz～60Hz 三相五线
4）等离子体频率：40KHz
5）射频电源功率：（0～1000）W 可调
6）设备功率：≤4kW
7）控制方式：采用包括触摸屏人机界面的 PLC 控制，操作方式包括自动模式和手动模式。在自动模式下将不同工艺参数按照配方方式管理， 可同时存储 100 组不同的配方。使用时只需要将相应配方号调出即可。设备参数分级管理，设备操作员、工艺人员、维护人员使用不同口令管理不同参数，提高设备安全性。手动模式用于实验工艺以及设备维护维修。
8）MFC 质量流量控制
9）气体流量：(0～200)ml/min （标况下）
10）工作气体(氧、氩等)接口压力：≤0.45MPa
11）压缩空气（启动气动角阀）接口压力：0.5Mpa
12）净化冷却气体（氮气）接口压力：0.45MPa
13）设备工作节拍：单次清洗时间≤8min（清洗时间 6min，具体以实际清洗时间为准）
14）工作真空度：30～150Pa
15）反应仓工作温度：30~60℃
16）极板数量：水平电极板≥8 层，极板间任意组
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 乙方负责对甲方人员进行技术、操作和设备的维护保养培训，但甲方必须指定专人学习与操
免费仪器保养: 终生不收维修费，只收取基本材料费及运费
保内维修承诺: 终生不收维修费，只收取基本材料费及运费
报修承诺: 接受服务请求后1小时内做出反应，2小时内提出处理意见和解决方案。
