中芯启恒Cchip-0019光刻机

1. 产品简介：

微流控芯片的设计结构一般深宽比较大，针对微流控芯片这一特点，中芯启恒自主研发生产了Cchip-0019适用于高深宽比工艺的光刻机。该设备采用目前先进的LED光源，紫外波长365nm，光源纯度高，辐射能量均一可调。设备配有智能化触摸屏操作面板，外观比较传统光刻机体积更小，集成化度更高，不仅简化了操作流程，还进一步提高了工艺效率。

不仅如此，我们还对曝光系统进行了优化，将曝光过程中衍射误差降到极限，保证图案设计值与实际值一致，从而为芯片制作保驾护航。

以下是客户实测图片，结构高度92um，间距20um，请参考！

2. 技术参数：

1）曝光面积：110mm×110mm

2）曝光波长：365nm： 40mW/cm²

3）分辨力：0.8mm

4）对准采用双视场对准显微镜：通过CCD+显示器对准，光学合像，光学+电子放大400倍

5）显微镜扫描范围：X：±50mm，Y：±20mm

6）对准精度： ±0.5mm

7）掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸

8）样片尺寸：2英寸、3英寸、4英寸；厚度0.1mm--5mm

9）曝光方式：定时

10）照明不均匀性：2%（ f100mm范围）

11）掩模相对于样片运动行程：X: ±5mm; Y: ±5mm; q: ±6度

12）曝光光源：紫外LED

13）曝光强度：40mW

14）胶厚：350 mm

15）光源平行性：＜1.8°

16）外形尺寸：900mm（长）900mm(宽) 800mm（高）

3. 特别说明：

1）中芯启恒自主研发，拥有专利技术

2）质保两年，性价比高，质量稳定

3）可接受样品测试申请