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具备三维翘曲（平整度）、薄膜应力、纳米轮廓、宏观缺陷成像等检测功能，适用于半导体晶圆生产、半导体制程工艺开发、玻璃及陶瓷晶圆生产.
优势
对各种晶圆的表面进行一次性非接触全口径均匀采样测量
简单、准确、快速、可重复的测量方式，多功能
强大的附加模块：晶圆加热循环模块（高达400度）；表面粗糙度测量模块；粗糙表面晶圆平整度测量模块
适用对象
2 寸- 8 寸/12 寸抛光晶圆（硅、砷化镓、碳化硅等）、图形化晶圆、键合晶圆、封装晶圆等；液晶基板玻璃；各类薄膜工艺处理的表面
适用领域
半导体及玻璃晶圆的生产和质量检查
半导体薄膜工艺的研究与开发
半导体制程和封装减薄工艺的过程控制和故障分析
检测原理
晶圆制程中会在晶圆表面反复沉积薄膜，基板与薄膜材料特性的差异导致晶圆翘曲，翘曲和薄膜应力会对工艺良率产生重要影响。
采用结构光反射成像方法测量晶圆的三维翘曲分布，通过翘曲曲率半径测量来推算薄膜应力分布，具有非接触、免机械扫描和高采样率特点，12英寸晶圆全口径测量时间低于30s。
通过Stoney公式及相关模型计算晶圆应力分布。
三维测量分析软件易用性强，具有丰富分析功能，包括：三维翘曲图、晶圆翘曲参数统计（BOW，WARP，GFIR，SFLR等），薄膜应力及分布，模拟加热循环，曲率，各种多项式拟合、空间滤波和各类数据导出。
产品货期: 100天
整机质保期: 1年
培训服务: 安装调试现场免费培训
安装调试时间: 到货后7天内
电话支持响应时间: 24小时内
是否提供维保合同: 否
维修响应时间: 2天内
节假日是否提供上门服务: 是
核心零部件货期: 60天
无理由退换货: 不支持
