看了外延系统的用户又看了
主要特点
超高真空兼容 |
蒸发温度不小于3000℃ |
精确的线性推进：0.01mm精度，25mm行程，专利设计 |
内置挡板，不受空间限制完全打开 |
可靠的束流监控，有效避免外界电磁场影响 |
填料方便快速 |
产品应用
表面科学
超薄膜层
多分子层
掺杂
样品制备
密接金属化
技术参数
安装法兰 | DN40CF (O.D. 2.75” ) |
烘烤温度 | 200℃ |
腔内直径 | 34mm |
腔内长度 | 210 mm标准长度，170mm~400mm可选长度 |
源数量 | 1 |
样品类型 | 棒材，颗粒，粉末（可供坩埚） |
冷却方式 | 内部水冷, 1L/min |
束流监控范围 | 0.1nA~1mA |
灯丝电流 | 0~7A (10mA step) |
加速电压 | 0~2000V |
输出功率 | 250W |
束流发散度 | ±6° |
蒸发温度 | ≥3000℃ |
坩埚尺寸 | 0.1cc, 0.15cc |
坩埚材料 | 钨，钼，钽，石墨，可定制其他材料 |
棒材尺寸 | 直径1~4 mm，长度20~100mm |
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 有
免费培训: 免费提供远程终身技术服务
免费仪器保养: 与用户协商
保内维修承诺: 除耗材以及人为误操作引起的故障外
报修承诺: 工作日2-4小时内予以响应
