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SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD
SENTECH仪器(德国)有限公司是国际主流的半导体设备商,研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器(反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统)。
SI 500 PPD是电容平板式PECVD等离子沉积设备,主要用于SiO2,SiOxNy,SiNy,a-Si,SiC薄膜的沉积 。适用于2"--8" 样片的薄膜沉积。
图1、SI 500 PPD 设备外形图
• 电源13.56 MHz, 600 W
• 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽
• 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
• 预真空锁loadlock, 带有取放机械手
• 高速率真空泵系统,独立气流压强控制
• 上电极和下电极分别加热,具备高的长期可靠性和工艺重复性
• 基底温度20oC至350oC
• 远程控制(RFC)
保修期: 1年
是否可延长保修期: 是
现场技术咨询: 有
免费培训: 2人,技术中心培训
免费仪器保养: 6个月1次
保内维修承诺: 免费更换零件(非人为因素)
报修承诺: 24小时内反应
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