SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD
SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD

¥200万 - 300万

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SENTECH-SI 500 PPD

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欧洲

核心参数

SENTECH 平行板式PECVD沉积系统-SI 500 PPD

SENTECH仪器(德国)有限公司是国际主流的半导体设备商,研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器(反射仪、椭偏仪、光谱椭偏仪)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、用户定制系统)。

SI 500 PPD电容平板式PECVD等离子沉积设备,主要用于SiO2,SiOxNySiNya-SiSiC薄膜的沉积 。适用于2"--8" 样片的薄膜沉积

1、SI 500 PPD 设备外形图

系统配置

• 电源13.56 MHz, 600 W
• 驱动电极集成了淋浴头和暗区屏蔽
• 6 MFC控制气路(SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)
• 预真空锁loadlock, 带有取放机械手
• 高速率真空泵系统,独立气流压强控制
 上电极和下电极分别加热,具备高的长期可靠性和工艺重复性
• 基底温度20oC至350oC
• 远程控制(RFC) 


售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 2人,技术中心培训

免费仪器保养: 6个月1次

保内维修承诺: 免费更换零件(非人为因素)

报修承诺: 24小时内反应

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