EZ Imprinting推出了一款台式独立纳米压印系统：PL系列400/600.
EZImprinting是一种超高产率（> 99％）纳米压印光刻系统，带有低于10纳米的分辨率和一步自动释放功能。
EZI UV Nanoimprint System PL400
特点：
? 全晶圆压印 - PL600适用于6英寸晶圆处理, PL400适用于4英寸晶圆处理
? 低于10纳米分辨率，产率高达99％
? 一步自动释放功能，可防止分离过程中模具/基材损坏，使压印产量最大化
? 支持各种类型的硬模和软模
? 可变模具和基材尺寸，灵活方便
? 可编程PLC，通过自定义参数进行过程控制，带触摸屏用户界面
? 对准功能选项
? 多种工艺，适用于各种应用光学器件，显示器，数据存储，生物医学器件，半导体IC，化学合成和先进材料等
? 专有的紫外线固化纳米压印抗蚀剂对硬度或厚度没有限制，并且与传统的光刻工艺兼容
EZ Imprinting处理器参数：
基材尺寸: 4“标准（尺寸较小，形状不规则）
印记区 : 与晶圆尺寸相同。
模板尺寸 4”,2” and 1”
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