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DWL 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器，适用于小批量掩模板制作和直写需求。该系统的功能和灵活性使其成为Life Science, Advanced Packaging, MEMS, Micro-Optics, Semiconductor以及所有其他需要微结构应用的刻研工具。DWL 66+的客户群包括全球200多所顶尖大学和研究机构，许多系统功能是与这些机构合作开发，及先进技术不断改进以增加高分办率：DWL 66+的最小结构尺寸为300 nm，提供了极高的分辨率，优于或等于研发领域中强大的光学光刻系统。
基本的DWL 66+包含创造和分析微结构所需的所有功能。它可以用于掩模板制作或直写在任何涂有光刻胶的平坦材料上，多样化选择可提高灵活性，使系统适用于更多应用领域。
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 无
免费培训: 免费安装及技术培训
免费仪器保养: 6个月一次。
保内维修承诺: 经确认质量问题，免费更换。
报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修
德国海德堡光学平台DWL66+的工作原理介绍
光学平台DWL66+的使用方法?
德国海德堡DWL66+多少钱一台?
光学平台DWL66+可以检测什么？
光学平台DWL66+使用的注意事项？
德国海德堡DWL66+的说明书有吗？
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