看了null的用户又看了
德国Raith EBPG5150 电子束光刻机
详细介绍
EBPG5150使用了155mm大小的样品台，采用跟EBPG5200一样的通用光刻平台设计，对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。
高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换155mm的平台
最小曝光特征尺寸小于8nm
高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，最大可以到1mm
GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
可选的系统增强升级
EBPG5150可以选择不同的升级选项，以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。
EBPG5150 应用
· 电子束曝光用于制作GaAs T型器件
.png)
· 微盘谐振器
.png)
· 开口环谐振器
.png)
EBPG5150 产品详情
主要应用：
· 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
· 高速电子束直写
· 批量生产，如化合物半导体器件
· 防伪标识
电子光学柱技术：
· EBPG
· 电子束
· 100 kV
样品台：
· 覆盖完整6英寸硅片大小
· 标配2工位自动化上料
(10工位可选)
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 无
免费培训: 免费安装及技术培训
免费仪器保养: 6个月一次。
保内维修承诺: 经确认质量问题，免费更换。
报修承诺: 24小时内到达现场并开始维修
