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磁控溅射技术
GSC-1000磁控溅射系统概述：
带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
GSC-1000带有10"派热克钟罩腔体，2个2"的磁控管，DC直流电源用于溅射金属，并带有膜厚监测仪(选配)。
产品特点：
不锈钢，铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
70l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵
1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机控制
带密码保护功能的多级访问控制
完全的安全联锁功能
| 选配项： Thickness Monitor 膜厚监测 |  |
应 用：
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