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NX-B100多功能整片基板纳米压印系统（热压印） | 最大75毫米直径压印面积 热压印 加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟 |
NX-B200多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印） | 最大75毫米直径压印面积 热压印和紫外压印 加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟 58mW/cm2紫外LED光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 |
NX-1000多功能整片基板纳米压印系统（热压印） | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 |
NX-2000多功能整片基板纳米压印系统（热压印和紫外压印） | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 |
NX-2500 多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印系统 | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印 对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机 |
NX-2600 多功能整片基板带对准功能多层次的纳米压印和高分辨率光刻系统 可选背面对准 | 标配4英寸,6或8英寸压印面积可选 热压印和紫外压印 加热速度>300℃/分钟 制冷速度>150℃/分钟 200W窄带紫外光源；365纳米或395纳米波长可选；全自动化控制 带对准功能（亚1微米对准精度） 多层次的纳米压印 对准模块 <1μm 3σ对准准确率 X, Y, Z, Theta平台 分场光学和CCD相机 标配5”模板,标配4”直径基板 ? 其他尺寸可以提供500瓦紫外水银灯光源 |
Lumina200多功能高精度光刻机 | 4寸基板，5寸掩膜 |
Ultra-100多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统 | Pieces to Full Wafers (2”, 3”, 4”, 6” or 8” OD, etc) Up to 8”×8” |
| 产品相关关键字： 纳米压印光刻机 NIL光刻机 软紫外纳米压印 热压印 步进闪光压印 |
