¥30万 - 50万
Laurell
暂无样本
EDC-650Mz-15NPP
--
美洲
看了涂胶显影设备的用户又看了
湿法刻蚀机(英文名:Developing, Wet Etching)
型号:EDC-650Hz-15NPPB
产地:美国
一、湿法腐蚀机用途和特点:
1、 用途:主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上显影,湿法腐蚀,清洗,冲洗,甩干与光刻、烘烤等设备配合使用。设备能满足各类以下尺寸的基片处理要求,并配制相应的托盘夹具。
2、湿法腐蚀机特点:
(1)外观整洁、美观,占地面积小,节省超净间的使用面积;
(2)VoD顶盖阀门控制技术 避免二次污染;
(3)显影腐蚀液独立的试剂供给管路;
(4)处理腔内差压精准控制;
(5)满足2英寸~12英寸的防腐托盘;
(6)试剂注射角度可调节;
(7)独特设计的“腔洗”构造,保证“干进干出”;
(8) 湿法腐蚀机具备高性能、低故障率、长使用寿命、易操作维修、造型美观、售后服务完备。
二、湿法腐蚀机主要性能指标:
1. 系统概述
1.1智能嵌锁,系统盖板具有智能嵌锁装置,确保操作安全;
1.2保护气体,CDA(清洁干燥气体)/氮气(N2),气压60~70PSI;
1.3通信接口,蓝牙连接;
2. 基片及处理方式
2.1 基片尺寸满足直径300mm以内基底材料;
2.2 基片处理方式,手动上下载;
3. 控制系统
3.1 用户界面,650高精度数显屏/基于Windows的SPIN3000操作软件;
3.2 最大可存储20个程序段;
3.3 最大51 骤工艺步骤;
3.4时间设定范围,0.1S~99Min59.9S(最小增量0.1 S);
3.5最大旋转速度,3,000 rpm,±0.5 rpm (带安全罩);
3.6马达加速度,1–12,000 rpm/s ;
4. 试剂分配系统
4.1 化学试剂分配
4.1.1 A标准腔洗 Bowl Wash 1路纯水和1路氮气;
4.1.2 B 背部清洗 Back Riser 1路纯水;
4.1.3 C 样片冲洗甩干 1路纯水和1路氮气;
4.1.4 D 自定义化学试剂可同时接入(根据用户应用选择几路液体)自定义的化学试剂(显影液/腐蚀液/其他清洗液);
4.2试剂供给方式
*4.2.1 A 系统所需纯水和氮气以及压缩气体(可用氮气替代)由实验室自行供应;
4.2.2 B 自定义化学试剂由气动泵浦BP和压力容器供给;
4.3 注射装置采用日本原装进口雾的池内专用喷嘴;
三、适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)
光刻胶显影(KrF/ArF)
SU8厚胶显影
显影后清洗
PostCMP清洗
光罩去胶清洗
光刻胶去除
金属Lift-off处理
刻蚀微刻蚀处理
保修期: 1年
是否可延长保修期: 否
现场技术咨询: 无
免费培训: 1次线上培训
免费仪器保养: 无
保内维修承诺: 因产品质量问题免费保修(各种消耗品除外),仪器提供全面维护,使之处于正常工作状态
报修承诺: 产品质保期内本公司提供36小时内的维修服务响应(除节假日外),以最快的速度派遣
Laurell涂胶显影设备EDC-650Mz-15NPP的工作原理介绍
涂胶显影设备EDC-650Mz-15NPP的使用方法?
LaurellEDC-650Mz-15NPP多少钱一台?
涂胶显影设备EDC-650Mz-15NPP可以检测什么?
涂胶显影设备EDC-650Mz-15NPP使用的注意事项?
LaurellEDC-650Mz-15NPP的说明书有吗?
Laurell涂胶显影设备EDC-650Mz-15NPP的操作规程有吗?
Laurell涂胶显影设备EDC-650Mz-15NPP报价含票含运吗?
LaurellEDC-650Mz-15NPP有现货吗?
最多添加5台