Zeiss FIB聚焦离子束电镜
Zeiss FIB聚焦离子束电镜

¥300万 - 400万

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蔡司

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Crossbeam 540

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欧洲

该产品已下架
核心参数

电子枪种类: 钨灯丝

二次电子图象分辨率: 4mm

配有双聚光镜系统,即便在低电压和高束流下仍能提供高分辨率。借助高分辨率成像和快速分析在更短时间内获取更丰富的信息。同步 Inlens SE EsB 成像可以提供独特的形貌和材料衬度。

技术特点:

在更短时间内收集更丰富的信息
加快纳米断层成像和纳米加工的速度:将低电压 SEM 性能与高达100 nA FIB 束流相结合。

获取最丰富的信息:运用多探测器采集及同步刻蚀与成像能力。

使用 GEMINI技术和可选配的 ATLAS 3D 软件包检测高达 50 k x 40 k 像素的大视野范围。

全方位流程控制
在对环境条件要求苛刻的长时间实验中具备最高稳定性,并能够提供均匀一致的光束剖面

采集时可以完成系统参数的实时更改,如探针电流或加速电压,而无需对图像进行调整。

图形用户界面操作直观简便。

具有最高灵活度

通过选用大量的探测器和附件实现系统快速升级。

针对不同的原位实验来定制您的系统。

开放应用程序接口(API)能让用户访问每个显微镜参数。




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