磁控溅射源/靶枪（1英寸/2英寸/3英寸）

PVD 产品公司生产各种高压和特高压磁控溅射靶枪，适用于各种靶材尺寸。泰坦磁控溅射源的直径范围从 1 英寸到 6 英寸不等。这些光源可以在磁铁就位的情况下烘烤到 200°C。

我们靶枪的磁控管磁场设计可提供出色的薄膜均匀性和靶材利用率。这些靶枪基于模块化磁阵列，允许用户在几分钟内从平衡溅射模式切换到不平衡溅射模式。我们所有的磁控管都使用与水隔离且易于现场更换的钕铁硼磁体。钎焊组件将磁体与水隔离，因此没有水真空界面，从而消除了泄漏的可能性。

工作范围为0.5 mTorr至1 Torr以上。它们标配直径为 0.75 英寸的 SS 轴，也可以完全兼容 UHV。

提供多种源选项，例如定制安装法兰、带或不带计算机控制的手动倾斜或原位倾斜组件、百叶窗、烟囱、气体注入环等。目标不需要背板。我们还可以提供面对靶材溅射的来源。

我们还提供全系列的电源。这些源可以运行射频、直流或脉冲直流模式，并可根据需要提供 N、HN 或 UHF 型连接。

技术参数：
我们提供多种口径的圆形平面靶枪,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶枪
安装法兰口径：NW63CF，NW100CF
真空腔体内长度范围：150-400mm
真空腔体内端面直径：60-96
靶材直径： 1", 2" and 3"
靶材最大厚度：4-6mm
冷却：水冷

特点：
100%超高真空（UHV）应用
独有的放射性沉积模式
在线Z轴驱动及倾斜
水冷时不会存在水汽
平衡靶和非平衡靶设计
高强度磁体应用于磁性材料

应用领域：
PVD沉积
金属涂层
纳米结构薄膜
多层镀层
反应溅射
射频溅射，直流溅射，脉冲直流溅射
硬质涂层