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-Table travel 方式：手动（option:半自动，全自动）
- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 专利技术：双面对准！
- 双显微镜成像系统
-可提供 在线/非在线型光刻机/紫外曝光机，样品尺寸可根据客户需要定制。
主要应用：
－实验室及小系列生产
-MEMS and 光电子
-FPD(TFT-LCD,OLED)
-LED
-Micro waves
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