晶圆处理系统
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P8010

--

美洲

  • 金牌
  • 第12年
  • 一般经销商
  • 营业执照已审核
该产品已下架
核心参数

晶圆处理系统(Wafer Processing Systems)

成立于一九八九年,C & D Semiconductor Services,Inc.一直致力于服务全球半导体及有关工业。C & D 的服务范围服务涵盖了晶圆处理、加工、半导体制造和检验的要求,为客户提供创新、高价值、低成本尖端技术的解决方案。


P8010直线式匀胶显影系统

 
   可兼容两种晶圆尺寸,无需更换硬件
 适合晶圆尺寸:50mm - 200mm
   可升级ATS,提高工艺重复性

SVG 8X 轨道式匀胶显影系统
 
   

   可兼容两种晶圆尺寸,无需更换硬件
   可升级ATS,提高工艺重复性
   完美的工艺腔设计,降低湍流影响
   高性能马达提高工艺均匀性和可靠性

P8060 铜凸块显影机

   

   适合晶圆尺寸:50mm - 200mm
   大容量热交换器
   用于多层光刻胶干膜显影

P9000 紧凑式匀胶显影系统

    

   适合晶圆尺寸:50mm - 200mm
   中央机械手操作
   可两个程序并行运行

P7000 合金/退火系统

   

   最高温度可达500°C
       
可使用多种气体
   适合晶圆尺寸:50mm - 200mm
   配有顶针,减小背面污染并提高热均匀性

C&D 8X 单面清洗/剥离系统

   
 
   适合晶圆尺寸:50mm - 150mm
   采用刷洗及高压喷嘴方式清洗

P8030 手动晶圆切割前/后处理系统
  
   

    适合晶圆尺寸:50mm - 200mm
    可为定制级平衡吸
    适合极薄晶圆涂覆保护层
    适用于机械切割或激光切割后清洗

P8030 自动晶圆切割前/后处理系统

   

   适合晶圆尺寸:50mm - 200mm
   中央环境自动控制,软件包功能强大,方便使用
   可为用户定制卡盘,可兼容不同切割环/晶圆尺寸
   适用于机械切割或激光切割后清洗

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