半导体&电子测试测量,投稿:kangpc@instrument.com.cn
根据俄罗斯媒体报道指出,俄罗斯正在研发生产芯片的微影光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak 在接受媒体访问时指出,2024 年将开始生产350 纳米微影光刻机,也就是说在明年俄罗斯就能拥有自己的光刻机了。此外,在2026年启动用于生产130 纳米制程芯片的微影光刻机。其生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。
Vasily Shpak 指出,当前全球只有两家公司生产此类设备,包括日本NIKON 和荷兰ASML。然而,其对于半导体的生产相当重要。Vasily Shpak 指出,一个简单的逻辑就是,如果没有半导体主权,那就没有技术主权,那么你在国防安全和政治主权方面就非常脆弱。而现在俄罗斯已经掌握了使用外国制造65 纳米微影光刻机的技术,但因为外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的微影光刻机,所以俄罗斯正在匆忙开发自己的生产设备。
Vasily Shpak 表示,2024 年就将拨款2,114 亿卢布(约23亿美元)用于国内电子产品的开发。而俄罗斯决定开发350 纳米到65 纳米微影光刻机的原因,在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上,这些应用大约占市场的60%。所以,这项设备在全世界市场的需求量很大,并且将在至少10 年内有持续的需求。
另外,当被问到可能遭遇的阻力时,Vasily Shpak 说,我不想抱怨,所有的问题都不是问题,因为这关系到我们拥有哪些机会,以及所设定的目标。
[来源:芯极速]
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