半导体&电子测试测量,投稿:kangpc@instrument.com.cn
等离子体刻蚀
2022年8月12日,以“Reliable可靠·Innovative创新·Excellent卓越”为主题,北方华创NMC508RIE介质刻蚀机新产品发布会在北京亦庄总部顺利举行。这是北方华创首次以8吋设备整体解决方案的视角,全方位、多维度地展现NAURA在CCP介质刻蚀领域实现的创新突破。
新品发布会首先由北方华创副总裁李东三做了开场致辞,“NMC508RIE产品的诞生,既表明了北方华创现已实现8吋刻蚀工艺的全覆盖,也彰显了拥有二十多年技术积累的北方华创持续创新的精神力量”。在发布会的现场,第一刻蚀事业单元副总经理陈庆以《8&6吋兼容介质刻蚀的新机遇与挑战》为主题做了分享报告。他表示:“目前,国内的8吋、6吋生产线正在经历一个‘老瓶装新酒’的发展时机,汽车电子、物联网等高速增长的芯片需求正在驱动市场进行渐进式的器件与工艺的更新。”NMC508RIE正是采用了最新的装备技术应用到8吋设备上,专为新工艺需求定制,开发出同时兼容到6吋的全新多频解耦CCP介质刻蚀设备,不仅具备刻蚀速率高、均一性好、工艺窗口大等特点,能更好地满足新型器件高深宽比结构的发展趋势,且系统稳定性高、维护成本低。
创新求变是北方华创的持久驱动力。发布会的最后,北方华创集团董事长赵晋荣做了总结讲话,“应时而生,北方华创推出全新CCP介质刻蚀机,致力于通过开放的生态合作、持续的创新投入、丰富的工艺解决方案经验,帮助客户加速实现量产升级”。未来,为应对当下前所未有的挑战,北方华创将坚定创新理念不动摇,始终坚持以客户为中心,精研市场需求,推出更多新产品与工艺解决方案,致力于持续推动产业进步,创造无限可能。
[来源:北方华创]
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