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半导体&电子测试测量，投稿：kangpc@instrument.com.cn
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2021年9月23日，由仪器信息网主办的“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会成功举办，会议进行了了4个精彩报告，吸引领域内近400位听众报名参会。
采用一定方法，使处于某种状态的一种或几种物质的基团以物理和化学方法附着于衬底材料表面形成一种新的物质，这层新物质就是薄膜。薄膜的制备主要技术包括薄膜沉积和外延技术。薄膜沉积和外延技术是半导体制造工艺中的非常重要的技术。
基于此，仪器信息网于2021年9月23日举办了本次“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会，依托“网络讲堂”栏目，邀请业内专家以及技术人员参与本次网络研讨会，就薄膜沉积与外延技术与应用等话题共同探讨，为广大从事薄膜沉积与外延技术研发等方面的专家学者和技术人员提供了一个交流的空间。
本次会议，邀请到云南大学杨鹏教授、牛津仪器科技（上海）有限公司高级应用科学家刘志文博士、中国科学院半导体研究所王晓东研究员和中国科学院微电子研究所杨妍研究员做报告，受到牛津仪器科技（上海）有限公司的大力支持，会议过程中，听众积极参与，直播间氛围热烈。
会议的4个报告，经征求报告嘉宾意见，3个报告将设置视频回放（“薄膜沉积与外延技术与应用”主题网络研讨会），便于广大网友温故知新，详情见下表：
2021年9月23日上午 | |||
报告题目 | 报告嘉宾 | 链接 | |
几种二维及少层材料的生长与物性表征 | 杨鹏 | 云南大学 教授 | |
如何用原子力显微镜评价高质量薄膜 | 刘志文 | 牛津仪器科技（上海）有限公司 高级应用科学家 | 回放链接 |
离子束溅射镀膜技术及其应用 | 王晓东 | 中国科学院半导体研究所 研究员 | 不回放 |
硅光芯片工艺流程及对薄膜工艺的需求 | 杨妍 | 中国科学院微电子研究所 研究员 | |
[来源：仪器信息网] 未经授权不得转载
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