半导体&电子测试测量,投稿:kangpc@instrument.com.cn
2021年1月5日,湖北鼎龙汇盛新材料有限公司就集成电路CMP用抛光垫项目(三期工程50万片/年)情况进行公示。项目建设地点位于湖北省潜江市江汉盐化工业园长飞大道1号,总投资高达1.67亿元。
据了解,CMP即化学机械抛光(Chemical-MechanicalPlanarization),是在晶圆制造过程中使用化学及机械力对晶圆进行平坦化处理的过程。相关数据显示,CMP材料在半导体材料中整体占比高达7%,其中抛光垫在CMP材料中的价值量占比约60%。目前为止,我国集成电路制造环节所使用的CMP抛光垫几乎100%依赖进口,国产化势在必行。
据悉,该项目拟新建车间占地面积6000平方米,建筑面积16500平方米,购置并安装湿法线、片皮机器、压花机、贴合机、抛光机等仪器设备共43台,完善配套设施。建成后将拥有年产50万片CMP用抛光垫生产能力。
[来源:仪器信息网] 未经授权不得转载
2024.07.22
2024.07.19
新品上市|FLIR X系列科研级热像仪,确保测试不丢帧、无数据损失!
2024.06.27
2024.05.09
2024.04.03
苏试试验2023年度营收21.17亿,试验设备和试验服务业务双增长
2024.04.02
版权与免责声明:
① 凡本网注明"来源:仪器信息网"的所有作品,版权均属于仪器信息网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:仪器信息网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为默认仪器信息网有权转载。
谢谢您的赞赏,您的鼓励是我前进的动力~
打赏失败了~
评论成功+4积分
评论成功,积分获取达到限制
投票成功~
投票失败了~