赛默飞将发布新一代多源等离子体Helios Hydra 双束电镜

具有快速、可切换的离子源的新型双束电镜

可实现创新研究和增强样品制备

　　聚焦离子束(FIB)光源与扫描电子显微镜(SEM)相结合，由于其独特的生成各种结构的能力，无论是通过切割还是离子束诱导沉积(IBID)，都引起了人们的极大兴趣。通过SEM观察。直到最近，只有镓(Ga+)和氙(Xe+)FIB / SEM仪器可商购。由于其光斑尺寸小和电流密度高，Ga+FIB可为样品制备和纳米原型制作提供良好的结果。Xe+等离子体FIB(PFIB)具有更高的最大电流，可实现高通量切割，适用于大体积表征，同时还可消除Ga+污染样品。但是，在一些情况下，两种离子源都不是理想的选择。

　　图1.用Helios Hydra UX DualBeam制备的高质量GaAs薄片的HR S / TEM图像，使用Ar FIB进行最终抛光。

　　为了扩展FIB应用领域的视野，赛默飞推出了新的Thermo Scientific Helios Hydra DualBeam。这种先进的仪器具有新一代PFIB光源，支持多种离子作为主光源。Helios Hydra与氙一起提供三种额外的离子种类：氩，氧和氮。单个离子源，提供多种离子，可在10分钟或更短的时间内在各个光源之间进行独特、轻松的切换。这为各种应用案例提供了显着的优势; 例如，先进的TEM样品制备，其中采用氩束的最终抛光可以显着改善成像结果。这项新技术还将使科学家能够对离子 - 物质相互作用进行基础和应用研究，例如氮离子束硅藻与硅相互作用。

　　"为科学家在一台仪器中轻松选择四种不同离子源的整合能力,将扩大和优化跨长度尺度研究材料性能的应用空间,"赛默飞世尔科技-材料和结构分析总裁Mike Shafer说，"我们新的 Helios Hydra DualBeam 系统提供了所需的灵活性,可以更好地分析样品、改进结果并开发新的和增强的材料。”

　　图2.使用Helios Hydra CX DualBeam采用O+聚焦离子束和AS&V4软件进行自动连续切片的汽车机油滤清器壳体(聚合物/玻璃纤维复合材料)的三维重构。HFW(水平宽度)为350μm。

　　Helios Hydra 双束电镜允许材料科学研究人员发现和设计新材料并分析其性能和结构。凭借其氧离子束,非常适合用于切割碳基材料,如电池正极中使用的石墨,它可以帮助研究人员开发更安全、更轻、更高效的储能设备。

　　这是第一款商业化的，允许快速、简便地离子束切换的仪器。以前，应用不同的离子束需要研究人员在仪器之间转移样品,或进行冗长而复杂的源交换。例如,独立的专用宽束氩离子抛光机目前是高质量透射电子显微镜(TEM)样品制备工作流程的典型部件。使用 Helios Hydra DualBeam 电镜,在初始切割后,可直接将聚焦的氩离子应用于样品抛光,从而大大减少了样品的转移和处理时间。切换时间为 10 分钟或更短,研究人员还可以在一个小节内将所有 4 束光束应用于样品,以确定哪种离子最适合其预期用途。这种灵活性扩展了FIB在探索电子-样品相互作用方面的潜在应用。

　　Helios Hydra 双束电镜的正式生产将于 2019 年 9 月开始。