2015全国表面分析科学与技术应用学术会议召开

　　仪器信息网讯 2015年5月15日，“2015年全国表面分析科学与技术应用学术会议”在宁波召开。

会议现场

　　“2015年全国表面分析科学与技术应用学术会议”由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京分析测试协会表面分析专业委员会主办，中国科学院宁波材料技术与工程研究所、国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心协办。“2015年全国表面分析科学与技术应用学术会议”为期两天，80余名从事表面分析技术研究与应用的研究人员参加了会议。

中国科学院宁波材料技术与工程研究所副所长李润伟致辞

　　此次会议承办方中国科学院宁波材料技术与工程研究所副所长李润伟致辞欢迎各位研究人员的光临。据李润伟介绍，宁波材料技术与工程研究所(简称“宁波材料所”)的发展历程。2004年，中国科学院与浙江省人民政府、宁波市人民政府三方签署协议，决定共建中科院宁波材料所。2007年宁波材料所顺利通过验收并正式揭牌，组建了磁性材料与机电装备、高分子与复合材料、功能材料与纳米器件、表面工程、燃料电池与能源技术、特种纤维6个事业部。2009年宁波材料所二期建设启动，将研究领域从原先的材料领域进一步拓展到新能源和先进制造领域。经过十年发展，目前宁波材料所基本建成了一个既满足自身发展需求又积极为地方企业服务的科技支撑平台，整个平台仪器设备总值约3亿元;建成12.9万平方米科研大楼与实验室，建设了碳纤维制备国家工程实验室、发改委磁性材料科技创新服务平台、等一批科研平台，为科研工作顺利开展提供了保障。

清华大学朱永法教授主持会议

　　清华大学朱永法教授指出，“2015年全国表面分析科学与技术应用学术会议”旨在推动表面分析科学与应用技术的快速发展，加强同行之间的交流合作，展示相关的新成就、新进展；建立表面分析的交流平台，形成自由研讨的学术氛围，让思想碰撞出火花，并共同提升理论与技术水平，促进表面分析科学研究队伍的壮大。

　　本次会议共有4个大会报告、12个邀请报告、14个口头报告，另外，岛津/Kratos、高德英特/ULVAC-PHI等仪器设备公司在会议现场展示了相关技术资料。

　　其中，会议第一天进行了3个大会报告，分别是：

报告题目：Interface Engineering for 2D Materials Based OptoelectronicDevices

报告人：陈伟副教授/新加坡国立大学

　　陈伟副教授目前主要关注于低维分子量子结构、有机光电器件、石墨烯及复合材料的界面问题，以及其在分子器件、有机太阳能电池、纳米催化等方面的应用。在此次报告中，陈伟副教授利用表面分析技术研究了二维材料——石墨烯、黑磷功能化调制界面反应机理等问题。

报告题目：Chemistry with a Tiny Hammer

报告人：郑直教授/许昌学院

　　郑直教授在国际上首次提出了一个“Chemistry with a tiny hammer”的全新化学反应机制来设计和实现表面高分子聚合反应。与常规的湿法化学过程来制备交联的聚合物薄膜不同，这种路线不会用到任何引发剂、添加剂及催化剂等，属于环境友好型制备反应;整个过程只需用到动能为几个eV 的质子束来实现干法化学合成，可选择性导致C-H 键断裂，从而能够适应各种分子器件和医用材料等的制备和改进。可在单晶硅片和其它半导体器件上制备得到聚苯乙烯、聚丙烯酸、聚乙烯醇、聚氧乙烯、聚甲基丙烯酸N，N-二甲氨基乙酯等交联的超薄聚合物薄膜，通过对反应能量和剂量的精确控制，表面官能团能得到很好保护，解决了聚合物薄膜制备以及改性过程中的节能、聚合物表面官能团的保护等技术问题。

报告题目：The applications of large Ar cluster beams in XPS

报告人：Dr. Christopher James Blomfield/Kratos, UK

　　Kratos公司位于英国曼切斯特，现在是日本岛津公司的全资子公司。Kratos是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱(XPS)的厂家之一。2014年5月，Kratos推出了最新型的XPS谱仪——Axis Supra，并在短短的两个月的时间内，成功地在全球范围内销售了6台Axis Supra型XPS谱仪。此次报告中，Christopher James Blomfield/博士介绍了由于单原子离子源用于软物质例如聚合物的深度剖析和表面清洁时受到限制。而气体团簇离子源的离子束减少了进入样品表面中的能量，从而降低样品损伤。报告指出，气体团簇离子源是进行深度分析有机物和聚合物而不破坏其化学状态的有效工具。

　　汕头大学王江涌教授、清华大学姚文清高级工程师、上海交通大学 邹志强教授、石油化工科学研究院邱丽美高级工程师、高德英特(北京)科技有限公司鲁德凤、ULVAC-PHI Dr. Takuji Shibasaki、宁波大学谭瑞琴研究员、四川大学田云飞博士、中国计量科学研究院王海博士也分别做精彩报告，介绍了X射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、二次离子质谱(TSIMS)、辉光放电光谱(GD)、扫描探针显微镜(STM)等表面分析技术在各领域的应用。

与会人员合影

　　2012年，清华大学分析中心、国家大型科学仪器中心-北京电子能谱中心组织召开了第一届全国表面分析科学与技术应用学术会议，此后该会议每年举行一次。今年是该会议第四次举办。

　　表面科学是上世纪60年代后期发展起来的一门学科，目前已经成为国际上最为活跃的学科之一。材料表面的成分、结构、化学状态等与内部有明显的不同，而表面特性对材料的物理、化学等性能影响很大。随着材料科学、化学化工、半导体及薄膜、能源、微电子、信息产业及环境领域等高新技术的迅猛发展，对于表面分析技术的需求日益增多。同时，由于最近几十年超高真空、高分辨和高灵敏电子测量技术的快速发展，表面分析技术也有了长足进步。目前，全球已经开发了数十种常用的表面分析技术，如X射线光电子能谱(XPS)、俄歇电子能谱(AES)、二次离子质谱(TSIMS)、辉光放电光谱(GD)、扫描探针显微镜(STM)等。国内表面分析技术起步于80年代，广泛应用于基础科研、先进材料研制、高精尖技术、装备制造等领域。

撰稿：刘丰秋