两项制造技术入选十大最具变革潜质前沿技术

　　近期科技部高技术中心，根据国家软科学研究计划项目“世界高技术发展趋势跟踪研究”的任务要求，组织信息、材料、能源、先进制造、交通及基础研究等领域，来自863、973计划专家组，以及有关高校、研究院所和重点企业的总计230多名专家，采用文献计量和定性分析相结合的方法，通过对相关领域具有领先优势的国家与企业的有关科技计划、规划、发展动态和战略部署的梳理，以及对相关核心期刊、国际学术会议等的学术文献资料信息的统计分析，提出了各领域当前十个左右共计61个前沿热点。经过进一步凝练，他们提出了当前十大最具备变更潜质的前沿技术。

　　其中突破衍射极限的光学光刻技术和激光微纳制造技术也入选最具变更潜质的十大前沿技术。

　　据介绍，突破衍射极限的光学光刻技术作为微纳信息器件制造的先导和主流技术，光学光刻技术发展正面临着原理性障碍：光学光刻分辨力这一核心技术指标的提高受到衍射极限的限制。表面等离子体成像光刻技术、表面等离子体局域光刻技术等以突破衍射极限，建立超分辨成像光刻理论和技术体系为目标的技术热点，已成为信息领域的重大科学技术问题之一。

　　这些技术一旦成熟，可提供小于32nm、22nm甚至10nm节点以下的光学光刻技术，从而有望解决国际上传统光刻技术路线衍射受限的理论和技术困境，成为新的光学光刻方法和工具。

　　而激光微纳制造则是微纳制造技术的重要部分。激光微纳制造是通过激光与材料相互作用，改变材料的物态和性质，实现微米至纳米尺度或跨尺度的控形与控性。由于激光微纳制造在能量密度、作用的空间和时间尺度、制造体吸收能量的可控尺度都可分别趋于极端，而使制造过程所利用的物理效应、作用机理完全不同于传统制造，其制造复杂结构的能力与品质远高于传统制造，由此产生了一批新技术(如光刻、近场纳米制造、干涉诱导加工、微焊接等)、一批新产品(如大规模集成电路、MEMS/NEMS等)、一批产品的高性能化(如航空发动机、燃气轮机、太阳能电池等)和相应的高新技术产业群。

　　激光微纳制造涉及光学、物理、材料、化学、生物、信息、控制、机械、纳米科技等学科，必将推动制造及相关学科的深入发展。并为能源、航空、IC制造、国防、汽车、生物、医疗等领域实现跨越式发展提供重要的制造支撑。

　　另外还有碳基纳米材料、半导体纳米材料、光电子集成芯片技术、后摩尔时代三维互连集成及芯片设计、碳化硅电力电子器件技术、量子通信技术及与经典通信的融合、轨道角动量通信技术、泛在感知与全分布控制技术等技术入选十大最具备变更潜质的前沿技术。