近日,尼康与新加坡A*STAR微电子研究所(Institute of Microelectronics, IME)宣布达成合作协议,共同建立研发实验室,开发用于半导体芯片制造的先进光刻技术。
尼康和IME将在多项技术上进行合作,如以多模式和直接自组装技术来推动ArF深紫外(DUV)干式和浸光式光刻达到20nm以上精度,包含逻辑的针对高级应用,高密度存储器,嵌入式非易失性存储器,高速电子及纳米光子设备,和纳米机电系统。
对尼康来说,这是在新加坡业务的一项战略性合作。通过合作,尼康将利用IME先进的研发基础设施、工艺技术和人才,获得在新一代系统上的先机,缩短产品上市的时间。这也是尼康获得未来所需技术的机会,并继续推进ArF光源液浸没式光刻等几个设备节点。
合作将加强和扩展IME与业界伙伴、研究机构和大学与院校的合作,研发先进技术,如计量和材料技术。联合实验室也将显示,IME能够通过与业界领先企业的合作,发展本地生态系统,进行先进的研发。
尼康精密设备公司总裁Kazuo Ushida表示:“通过此次与IME的合作,尼康将会获得未来加工技术的知识和完整解决方案,这对我们的光刻系统开发是很重要的。我们非常高兴能与亚洲地区最先进的研究机构之一建立合作。”
IME执行董事Dim-Lee Kwong教授表示:“联合实验室使IME和尼康增强了研发未来技术的能力。尼康是一个理想的技术合作伙伴,能够帮助IME加强和扩展研发能力来满足行业的需求,联合实验室是新加坡先进半导体技术研发上一个重要的里程碑。”
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