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上海伯东普发涡轮分子泵组脉冲激光沉积系统应用

2015/01/09 11:29

阅读:180

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应用领域:
其他
发布时间:
2015/01/09
检测样品:
其他
检测项目:
浏览次数:
180
下载次数:
参考标准:
真空度< 1x10-8 mbar

方案摘要:

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上, 得到沉淀或者薄膜的一种手段. PLD 系统由多个真空腔体组成,整个系统需要超高真空且不能引入任何杂质,对环境的清洁度要求较高,必须配备无油干泵和分子泵抽真空。由于各个辅助腔体体积较小, 因此特别适合使用 pfeiffer Hicube 系列分子泵组. 伯东公司销售维修的 Pfeiffer 分子泵组因其结构紧凑体积小,清洁无油(前级泵配备干泵)、抽速快、极限真空度高达10-11mbar等优点一经上市好评如潮。

产品配置单:

分析软件

销售维修普发分子泵组 HiCube 80 Eco

型号: Hicube 80

产地: 德国

品牌: 普发真空

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普发真空 pfeiffer vacuum真空泵 HiPace 300

型号: HiPace 300

产地: 德国

品牌: 普发真空

¥5万 - 10万

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伯东 Pfeiffer 分子泵 HiPace 700

型号: HiPace 700

产地: 德国

品牌: 普发真空

¥10万 - 20万

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